Способ измерения добротности

 

ОПИСЛНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

2592I3

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Заявлено 27.Ч.1968 (№ 1245046/26-25) с присоединением заявки №вЂ”

Пр.нор итет

Опубликовано 03.Ч1.1970. Бюллетень № 19

Дата опубликования описания 4.1Х.1970

Кл. 21b, 27/02

МПК Н 0!m

УДК 621.362.2(088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

В. И. Бутырский и P. В. Ковальский

Заявитель

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ДОБРОТНОСТИ

ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО МАТЕРИАЛА

ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО УСТРОЙСТВА

Изобретение относится к области преобразования тепловой энергии в электрическую.

Известны способы измерения добротности термоэлектрических устройств, которые по изменению перепада температур при постоянном тепловом потоке в режиме холостого хода и короткого замыкания требуют заделки термопар в спаи термобатарей, что снижает надежность и точность способа измерения.

Описываемый способ отличается от известных тем, что в качестве параметра, характеризующего Z, выбрано отношение э.д.с. в указанных режимах.

В описываемом способе замеряется э.д.с. термоэлектрического устройства, по отношению которой определяется его добротность.

Отсутствие необходимости заделки термопар в спаи термобатарей увеличивает надежность, а определение добротности по э.д.с. — точность эксперимента.

Предмет изобретения

Способ измерения добротности полупроводникового материала термоэлектрического уст10 ройства прп постоянном тепловом потоке Il) тем измерения параметра, характеризующего

Z в режиме холостого хода и короткого замыкания, отличающийся тем, что, с целью увели чения точности измерения, в качестве парамет15 ра, характеризующего Z, выбрано отношение э.д.с. в указанных режимах.

Способ измерения добротности 

 

Похожие патенты:

Тиристор // 252482

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх