Патент ссср 358727

 

358727

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Фовз Ссветскиз

Социалистичеслил

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 04.VI11.1970 i(¹ 1467977/26-9) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 03.XI.1972. Бюллетень № 34

Дата опубликования описания 15.XI I.1972

М. Кл. Н Olc 17/00

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.2.002.5 (088.8) Авторы изобретения

А. А. Малышев и Ю. И. Сунгуров

Заявитель

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ МЕТАЛЛИЗАЦИИ

КЕРАМИЧЕСКИХ ОСНОВАНИЙ РЕЗИСТОРОВ

Изобретение относится к области радиотехники и может быть использовано на предприятиях электронной промышленности.

Известные вакуумные установки для металлизации керамических оснований резисторов, содержащие вакуумную камеру, внутри которой размещен вращающийся на роликовых опорах барабан для разгрузки оснований резисторов навалом, испаритель, установленный на подвижной каретке, а также вакуумную откачную систему, имеют сложную конструкцию установки и низкую производительность.

Цель изобретения — устранение указанных недостатков. Это достигается тем, что упомянутая каретка снабжена Г-образным держателем, на свободном конце которого укреплен испаритель, причем каретка с держателем размещена аксиально под барабаном. Внутренние стенки барабана выполнены гофрированными.

На фиг. 1 — 3 показана предлагаемая установка в трех проекциях; на фиг. 4 — вакуумная камера с барабаном внутри и узлом крепления испарителя с подвижной кареткой; на фиг. 5 — узел крепления испарителя.

Установка имеет вакуумную камеру, состоящую из колпака 1 со смотровым окном 2 и вакуумным уплотнением 3, установленным на горизонтальной плите 4. Внутри вакуумной камеры под колпаком 1 смонтированы барабан

5 и испаритель б, представляющий собой нихромовую спираль, закрепленную с помощью стержней 7 на Г-образном держателе

8 (на фиг. 5 не указан). Последний устанав5 ливается роликами 9 в направляющих 10, расположенных непосредственно под барабаном.

Горизонтальная часть Г-образного держателя

8 выполняется по длине так, что при его перемещении испаритель б полностью выдвигает10 ся из барабана 5. Направляющие 10 закреплены под барабаном 5 с помощью стоек 11, установленных на плите 12 вакуумной камеры.

Так как при этом направляющие 10 не выходят за пределы площади плиты 12, ограничен15 ной колпаком 1 вакуумной камеры, и находятся непосредственно под барабаном 5, то благодаря этому при перемещении испарителя 6 не нарушаются места вакуумной защиты с уплотнением 8 и сокращаются габариты установ20 ки. Барабан 5, служащий для перемешивания керамических оснований в процессе металлизации, имеет волнообразную внутреннюю поверхность 18. Для загрузки и выгрузки оснований и ввода испарителя б в барабан, no2s следний имеет отверстие 14. Барабан 5 устанавливается с возможностью его вращения в роликовых опорах 15, смонтированных на валах 1б, которые закрепляются в стойках 17.

Токоподвод к испарителю б обеспечивается

30 гибкими проводниками18. Установка имеетат358727

3 мосферные клапаны 19 для запуска атмосферного воздуха в вакуумную систему и камеру.

Для подъема и опускания колпака 1 вакуумной камеры служит подъемник 20 с электродвигателем 21 и редуктором 22 с конической парой 28.

Вакуумная камера и элементы установки смонтированы на каркасе 24, внутри которого размещены привод барабана 5, включающий электродвигатель 25, редуктор 2б и вакуумный ввод с шестеренчатой конической парой 27, высоковакуумный затвор 28, установленный между колпаком 1 вакуумной камеры и диффузионным насосом 29; распределительная клапанная коробка 80, которая соединяется через трубопроводы 81 с диффузионным насосом

29 и форвакуумным насосом 82 и служит для переключения откачиваемых объемов. На каркасе 24 размещены пульт управления 88 и вакуумметр 84.

Установка работает следующим образом.

Керамические основания резисторов, подлежащие металлизации, загружаются навалом в барабан 5 через отверстие 14. Барабан 5 устанавливается в роликовые опоры 15, после чего в него вводится испаритель б подвижным

Г-образным держателем 8, перемещающимся с помощью роликов 9 в направляющих 10.

Затем подъемником 20 колпак 1 вакуумной камеры с вакуумным уплотнением 8 опускается на плиту 4. При закрытом высоковакуумном затворе 28 включается форвакуумный насос 82, при открытом форвакуумном клапане в распределительной клапанной коробке 80 производится откачка рабочего объема вакуумной камеры. После достижения низкого вакуума (1 ° 10 — ) в клапанной коробке 80, открывается высоковакуумный клапан и закрывается форвакуумный клапан. Затем открывается высоковакуумный затвор 28 и производится откачка рабочего объема камеры до достижения высокого вакуума (5 10 — ). После

4 этого включается испаритель б и привод барабана 5. Барабан 5 начинает вращаться и производится металлизация засыпанных в него керамических оснований резисторов. После об5 работки последних последовательно выключаются испаритель б, привод барабана 5 и открывается атмосферный клапан 19 на колпаке 1. Затем включается привод подъемника колпака 1. Колпак поднимается и испаритель

lo б полностью выводится из барабана 5 с помощью Г-образного держателя 8, что обеспечивает безпрепятственный съем барабана 5 с роликовых опор 15. Возможность полного выдвижения испарителя б из барабана 5 дает

15 также возможность производить при необходимости быструю замену испарителя б с соблюдением необходимой вакуумной гигиены.

После разгрузки барабана 5 и загрузки очередной партии оснований резисторов цикл

20 повторяется.

Предмет изобретения

25 1. Вакуумная установка для металлизации керамических оснований резисторов, содержащая вакуумную камеру, внутри которой размещен вращающийся на роликовых опорах барабан, служащий для загрузки оснований

30 резисторов навалом, испаритель, установленный на подвижной каретке, а также вакуум. ную откачную систему, отличающаяся тем, что, с целью упрощения конструкции установки и повышения ее производительности, упомяну35 тая каретка снабжена Г-образным держателем, на свободном конце которого укреплен испаритель, причем каретка с держателем размещена аксиально под барабаном.

2, Установка по п. 1, отличающаяся тем, что

40 внутренние стенки барабана выполнены гофрированными..358727

Редактор О. Солистая

Заказ 3964/15 Изд. № 1687 Тираж 406 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, OI(-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Составитель А. Туляков

Техред Т. Ускова

Корректоры: Е. Сапунова и Е. Усова

Патент ссср 358727 Патент ссср 358727 Патент ссср 358727 Патент ссср 358727 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх