Термический испаритель для вакуумных установок

 

О П И- C А Н И Е 358428

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 10Л11.1970 (№ 1411012/22-1) с присоединением заявки №

Приор итет

Опубликовано ОЗ.XI.1972. Бюллетень № 34

Дата опубликования описания 21.XII.1972

М. Кл. С 23с 13/12

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14.002.52 (088.8) Авторы изобретения И. Л. Гольдберг, Л. И. Чебоненко, Б. П. Мальцев и И. В. Лобанов

Заявитель

ТЕРМИЧЕСКИЙ ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК

Предмет изобретения

Изобретение относится к области на несения .покрытий,в вакууме.

Известен термический иопаритель для вакуумных установок, содержащий графитовый тигель, нагреватель и радиационный экран.

Однако в таком испарителе иопаряемые металлы не смачивают поверхность тиглей, вследствие чего скорость иопарения металла недостаточна.

Цель изобретения — увеличение GKîðo ñòè на пыления материала и .надежности работы.

Это достигается тем, что iBнутри тигля расположен старикан из смачивающегося раоплавом тугоплав кого материала.

На чертеже .представлен иопаритель, о бщий вид.

И опаритель состоит из графитового тигля

1, внутри которого расположен ста|кан 2 из смачивающегося раоплавом тугоплав копо материала, например молибдена, нагревателя 8 и радиационного экрана 4.

В стакан 2 загружают навеоку иопаряемого металла. После достижения рабочего вакуума на иопаритель подают напряжение и постепенно увеличивают ток нагревателя 3, при этом прои оходит разогрев графитового тигля, стакана и навести. По достижении необходимой температуры навеока металла несколько меньшая по объему, чем старикан, расплавляется, смачивает всю поверхность старикана и начинает иопаряться. Расплав не смачивает графитовые стеньки, в результате чего не выходит за пределы тигля, что обеспечивает стабильную работу испарителя.

Скорость иопарения зависит от установи вшейся в тигле температуры перегрева расплава и может регулироваться изменением тока нагревателя.

Термический иопаритель для вакуумных установок, содержащий графито вый тигель, 20 нагреватель и радиациоеный экран, отличаюи1ийся тем, что, с целью увеличения скорости напыления и,надежности работы, внутри тигля расположен стакан, выполненный из смачивающегося раоплавом туго плавкого мате25 риала.

358428

Редактор О. Филиппова

Заказ 4061/15 Изд. № 1649 Тираж 406 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Составитель И. Резник

Техред T. Ускова

Корректоры: Е. Сапунова и Л. Кириллова

Термический испаритель для вакуумных установок Термический испаритель для вакуумных установок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх