Устройство для вакуул1ного нанесения пленок полупроводниковых соединений
О П И С А Н И Е 3094I6
ИЗОБРЕТЕНИЯ
И АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Сава Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства ¹
МПК Н Oll 7/68
Заявлено 17.I1.1970 (№ 1404534/26-25) с присоединением заявки ¹
Приоритет
Спублпковано 09.Ъ 11.1971. Бюллетень ¹ 22
j,àòà опубликования описания 11Л I I I.1971
Комитет по делам иаобретеиий и открытий при Совете Мииистрав
СССР
УДК 621 382(088 8) Авторы изобретения
1О. 3. Бубнов, М, С. Лурье и П. Д. Токарев
Заявитель
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ
ПЛЕНОК ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ
Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в технологии производства пленочных элементов: триодов, диодов, фотосопротивлений и т. п.
Известно устройство для вакуумного нанесения пленок сложных материалов, содержащее отпаянную кварцевую ампулу, внутри которой помещены испаряемое вещество и конденсирующая подложка, нагреваемые с помощью внешней градиентной печи.
В известном устройстве вследствие случайного сочетания геометрических размеров ампулы и температурных режимов не обеспечиваются оптимальные условия конденсации, что приводит к отклонению от стехиометрического состава и несовершенству структуры конденсатов.
Цель настоящего изобретения состоит в разработке устройства для нанесения в вакууме пленок полупроводниковых соединений, которое позволило бы получить пленки стехиометрического состава и структуры.
Поставленная цель достигается тем, что в устройстве, содержащем замкнутую камеру, подложку и нагреватель, выбираются такие соотношения геометрических р азмеров камеры и температурных режимов, которые обеспечивают осаждение пленок из газодинамического потока в условиях малого пересыщения пара и интенсивного реиспарения материала с подложки и стенок камеры.
Согласно теоретическому расчету и экспериментальной проверке, для полупроводниковых соединений групп А"В" и Агп Б отношение длины камеры к ее диаметру составляет 0,5—
1,5 при градиенте температуры вдоль камеры
15 — 40 град сл — .
На чертеже схематически представлено
10 предлагаемое устройство.
РаЗЪЕМНая ГрафИТОВая КаМЕра СОСТОИТ ИЗ крышки 1 и основания 2. В отверстие крышки укладывается маска 8 и подложка 4. Внутренний экран 5 крепится над дном основания. д Нагреватели 6 и 7 помещаются, соответственно, над крышкой и под основанием камеры.
Сотовые углубления 8 занимают всю внутреннюю поверхность дна камеры и используются для равномерного распределения подлежа2 щего испарению вещества.
Вакуумирование разъемной камеры, осуществляемое вследствие ее неполной герметичности, длится несколько дольше (приблизительно на 30 мин), чем вакуумирование ра25 бочего объема 9 вакуумной установки. Вследствие геттерных свойств графита предельное разрежение в камере может быть достигнуто на порядок лучше, чем в объеме установки.
Первым включается нагреватель 6, который
30 прогревает подложку 4 для обезгажившшя.
309416
Составитель В. П. Ыирошкина
Редактор T. 3. Орловская Техред А. А. Камышникова Корректор О. И, Волкова
Заказ 2175, 16 Изд. ¹ 953 Тираж 473 Подписное
LIHHHIIH Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров CCCi
Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2
