Криогенная вакуумная камера
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ пц 566959
Союз Советских
Социалистических
Республик (б1) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 13.06.75 (21) 2145478/06 (51) М. Кл.- "Е04В 37/08 с присоединением заявки №
Государственный комитет
Совета Министров СССР оо делам изооретений и открытии (23) Приоритет
Опубликовано 30.07.77. Бюллстеш. ¹ 28 (53) УДК 621 527 8 (088.8) Дата опубликования описания 03.08.77 (72) Автор изобретения А. А. Мамалуй (71) Заявитель Харьковский ордена Трудового Красного Знамени государственный. университет им. А. М. Горького (54) КРИОГЕННАЯ ВАКУУМНАЯ КАМЕРА
Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано при термообработке в производстве тонких проволок тугоплавких металлов.
Известна криогенная вакуумная камера, содержащая криостат с жидким гелием и размещенный в нем образец (1).
В известной камере не обеспечивается закалка образца при вакуумных условиях.
Наиболее близким решением из известных по технической сущности и достигаемому результату является криогенная вакуумная камера, содержащая криостат с жидким гелием и размещенный в нем на подвижном штоке обрабатываемый образец из тугоплавкого металла или сплава (2).
Однако из-за наличия потока активных газов в зоне криостата обезга>кивание образца затруднено и, таким образом, в известной камере также не обеспечиваются вакуумные условия.
Цель изобретения — обеспечение закалки образца в условиях вакуума.
Это достигается тем, что на штоке в перевернутом положении закреплен тонкостенный стакан из материала с высокой теплопроводностью, например меди, погруженный нижними кромками в жидкий гелий, и образец расположен внутри этого стакана.
На черте>кс изображена вакуумнал камера, продольный разрез.
Криогенная вакуумная камера содержит криостат 1 с жидким гелием и размещенный в нем на подвижном штоке 2 обрабатываемый образец 3 из тугоплавкого металла или сплава. На штоке 2 в перевернутом положении закреплен тонкостенный стакан 4 из материала с высокой теплопроводностью, на10 пример меди, погруженный нижними кромками в жидкий гелий, и образец 3 расположен внутри этого стакана.
Образец 3 раскаляется импульсом электрического тока до предплавильных темпера15 тур и в течение необходимого времени отжигается и обезгаживается. Затем образец 3 при помощи опускания штока 2 погружается в жидкий гелий на 3 — 5 см ниже его уровня.
При выключении тока подогрева образец 3
20 закаливается со скоростью 10" град/сек. Температура стенок стакана 4 определяется температурой жидкого гелия. Активная газовал примесь, идущая в область, охлажденную гелием, конденсируется на внешней поверхно25 сти стакана 4, представляющего собой разгерметизированный конденсационный насос, работающий в балластной атмосфере инертного газа. Таким образом обеспечиваются чистые вакумные условия для отжига металлов, 30 чувствительных к активным газам. При этом
56б959
Формула изобретения
Составитель О. Тишина
Техред A. Камышникова
Корректор Л. Котова
Редактор Н. Богатова
Заказ 1699/3 Изд. № 611 Тираж 881 Подписное
ЦНИИГ1И Государственного комитета Совета Министров СССР
110 делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушскал наб., д, 4/5
Типографии, пр, Сапунова, 2 вследствие отсутствия прямого контакта образца 3 с жидким гелием возможно длительное пребывание образца при предплав.1льных температурах.
Криогенная вакуумная камера, содержащая криостат с жидким гелием и размещенный в нем подвижный шток для установки обрабатываемого образца из тугоплавкого металла или сплава, отличающаяся тем, что, с целью обеспечения закалки образца в условиях вакуума, на штоке закреплен в перевернутом положении тонкостенный стакан из материала с высокой теплопроводностью, например мсдп, погру ке11ный нижними кромками в жидкий гелий, предназначенный для размещения внутри него образца.
Источники информа1иии, принг!тыс ВО внимание прп экспертизе
1. NatuIfoIsch, 19б4, т. 19, с. 58б.
2. Низкотемпературная адсорбция и криогенный вакуум. — «Вопросы атомной науки и техники». Выпуск 1(2), Харьков, «Наукова
Думка», 1972, с. 13.

