Устройство для контроля толщины пленки в процессе напыления
359509
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Сама Соеетскик
Сопиалистическик
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 31.Ч11.1970 (№ 1465774/25-28) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 21.Х|.1972. Бюллетень № 35
Дата опубликования описания 3.1.1973
М. Кл. G Olb 11/06
Комитет по делам лзабретеиий и открытий при Совете Министров
СССР
УДК 531 715 1(088 8) Авторы изобретения
Л. Н. Высочин и В, В. Концур
Заявитель
УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНКИ
В ПРОЦЕССЕ НАПЫЛЕНИЯ
Изобретение относится к областту контрольно-измерительной техники и может быть использовано для контроля толщины пленки, наносимой на подложку, например термическим испарением в вакууме.
Известно устройство для контроля толщины пленки в процессе напыления, содержащее источник света, фотоприемник, рабочую и контролируемую подложки, расположенные между источником света и фотоприемником, фиксатор интерференционных минимумов или максимумов и индикаторный блок.
Однако в известном устройстве с увеличением толщины пленки амплитуды максимумов и минимумов уменьшаются и при определенной толщине становятся неразличимыми.
Цель изобретения — увеличение верхнего предела контролируемой толщины пленки и автоматизация процесса контроля.
Для этого предложенное устройство снабжено установленной неподвижно над контрольной подложкой диафрагмой с отверстием, через которое производят напыление контрольной подложки, и исполнительным устройством, связанным с контрольной подложкой и сдвигающим ее при достижении толщины пленки, равной амплитуде первого интерференционного максимума, на величину, достаточную для подведения под отверстие диафрагмы незапылешгого участка контрольной подложки.
На чертеже изображена принципиальная схема предложенного устройства.
Устройство содержит источник 1 света, рабочую подложку 2, контрольную подложку 8, неподвижную диафрагму 4 с отверстием, фотоприемник 5, исполнительное устройство б, амплитудный дискреминатор 7 и индикаторный блок 8.
Устройство работает следующим образом.
10 Напыление производится на рабочую подложку 2 и через отверстие неподвижной диафрагмы 4 на небольшой участок контрольной подложки 8, которая может при подаче определенной команды сдвигаться на величину, 15 достаточную для того, чтобы расположить под отверстием неподвижной диафрагмы часть контрольной подложки, а напыленную сдвинуть в защищенное от напыления место.
Источник света расположен так, что свето20 вой поток, проходя через отверстие и через контрольную подложку, попадает на фотоприемник. Амплитудный дискреминатор с регулируемым порогом срабатывания, реагирующим на амплитуду сигнала, равную амплитуде пер25 ного интерференционного максимума, установлен за фотоприемником. При постоянной длине волны излучателя света н определенной толщине пленки амплитуда первого максимума всегда будет равна Х/4. При достижении
30 этой толщины амплитудный дискреминатор срабатывает и выдает сигнал, который по од359509
Предмет изобретения
Составитель Н. Лобзова
Текред Т. Миронова Корректор А. Степанова
Редактор М. Макарова
Заказ 4115/12 Изд. № 1731 Тираж 406 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 ному каналу поступает на исполнительное устройство, сдвигающее контрольную подложку на определенный угол, а по второму — на индикаторный блок, отсчитывающий толщины пленок, кратные Л/4. После отсчета определенной толщины выдается сигнал на прекращение напыления. В этом случае погрешность будет лежать в пределах Л/4.
Для уменьшения погрешности необходимо после отсчета предпоследнего максимума переключить фотоприемник на вход второго амплитудного дискреминатора, порог срабатывания которого можно выставлять (в зависимости от требуемой толщины) в пределах от нижнего до верхнего уровня амплитуды первого интерференционного максимума. В этом случае сигнал на прекращение напыления выдает второй амплитудный дискреминатор.
Порог срабатывания первого амплитудного дискреминатора регулируется только при переходе от напыления одного материала к напылению другого.
Устройство для контроля толщины пленки в процессе напыления, содержащее источник
5 света, фотоприемник, рабочую и контролируемую подложки, расположенные между источником света и фотоприемником, фиксатор интерференционных минимумов или максимумов и индикаторный блок, отличающееся тем, что, 10 с целью расширения диапазона контролируемых толщин и автоматизации контроля, оно снабжено установленной неподвижно над контрольной подложкой диафрагмой с отверстием, через которое производят напыление
15 контрольной подложки, и исполнительным устройством, связанным с контрольной подложкой и сдвигающим ее при достижении толщины пленки, равной амплитуде первого интерференционного максимума, на величину, 20 достаточную для подведения под отверстие диафрагмы незапыленного участка контрольной подложки.

