Способ получения тонких пленокби;;-:ооюс;ная !nf:'t\l}~- •>& -, r^ts.,-..- !f,5--' klillbilu-si.^^h;. .', ii; ^-биз;г-:о 'г-:а •

Авторы патента:

C23C14/54 - управление или регулирование способа нанесения покрытия (управление или регулирование вообще G05)

ОПИСЛНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. Свидете.ii,OTI33 Й

Заявлено 04.1.1970 (№ 1395179(26-9) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 13.1Х.1972. Бюллетень М 27

Дата опубликования описания 28.IX.1972

С 3с 13j00

Комитет оа делам заобретеннй н открытий орн Совете тт1нннотрое

СССР

УДК 539.23(088.8) Авторы изобретения Г. И. Слободенюк, В. И. Ивашкин, А. И. Титов и В. С. Воронин

Заявитель

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕН

Предмет изобретения

Предлагаемое изобретение относится к области получения тонких пленок и может быть использовано в микроэлектронике для получения резистивных, сверхпроводящих, диэлект рических магнитных и других пленок.

Известны способы получения тонких пленок термическим испарением материалов с последующим,конденсированием его на подложке в среде разреженных газов. Однако качество получаемых пленок низкое, а воспроизводимость электрофизических параметров недостаточна.

Для повышения качества пленок и воспроизводимости электрофизических параметров при испарении многокомпонентного матер !Зла интенсивность молекулярного потока каждого компонента регулируют изменением температурных режимов испарителей.

На чертеже изображена установка для осуществления предлагаемого способа получения тонких пленок.

Сущность предлагаемого способа получения тонких пленок заключается в поддержании при испарении многокомпонентного материала интенсивности молекулярного потока каждого компонента в строго заданных пределах.

Молекулярный поток испаряемого материала

Ооразуется в испарителе 1 и конденсируется на подложке 2. На пути молекулярного потока установлен датчик 3 масс-спсктрометрз, который регHOTpIIpx рТ ля рного пОтока к3 äoÃÎ кох(понента. Пд !Зсличине сигналов масс-спектрометра в процессе испарения исходного материала регулируl01 интенсивность х!0.1ек! лярного потока каж10 дого компонента либо дросселированием потока заслонками 4, лиоо изх!ене!!Нем тех!Иературы одного или нескольких испарителей 1.

Способ получения тонки.; пленок термичеcêIIì испарением материалов с последующ Dl конденсированием его на подложке в среде

20 разреженных газов, от,!Пчаюп,Н1ся тем, что, с целью повышения качества пленок и воспроизводимости электрофизических параметров. при испарении многокомпонентного материз13 !!нтснсивность моле!л лярнОГО поток3 к32к25 дo!О компонента регулируют измене!шем тем пературных режимов испарителей.

350869

Составитель А. Туляков

Текред Л. Богданова

Корректор T. Китаева

Редактор T. Загребельная

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ 3217/17 Изд. № 1297 Тираж 406 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

$Способ получения тонких пленокби;;-:ооюс;ная !nf:t\l}~- •>& -, r^ts.,-..- !f,5-- klillbilu-si.^^h;. ., ii; ^-биз;г-:о г-:а •$ $Способ получения тонких пленокби;;-:ооюс;ная !nf:t\l}~- •>& -, r^ts.,-..- !f,5-- klillbilu-si.^^h;. ., ii; ^-биз;г-:о г-:а •$

Установка для нанесения покрытий в вакуумена ленту // 323469

Способ изготовления асферических поверхностей оптических деталей // 300538

Иатектго г40ttxhn4lvi.,»/«библиотека // 275639

Установка для нанесения покрытий в вакууме // 258800

Способ контроля толщины пленки в процессе // 255728

Патент 184982 // 184982

Способ измерения скорости напыления пленок при испарении в вакууме // 180457

Вакуумная установка // 175366

Патент 168575 // 168575

Электродуговой испаритель металлов // 2186874

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Устройство для химико-термической обработки цилиндрических изделий в несамостоятельном разряде // 2232207

Изобретение относится к электротехнике, а именно к использованию электрического разряда для нагрева и химико-термической обработки изделий в электромагнитном поле индуктора

Устройство для контроля толщины покрытий в процессе нанесения их в вакууме // 2274676

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий, в частности к устройству для контроля толщины покрытий в процессе нанесении их в вакууме, и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении для контроля толщины покрытий при нанесении их в вакууме

Установка для нанесения покрытий // 2280709

Способ ионной обработки поверхностного слоя металлического изделия и установка для его осуществления // 2305142

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

Устройство для нанесения многослойных оптических покрытий // 2312170

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров

Способ контроля процесса нанесения покрытий в вакууме и устройство для его осуществления // 2318915

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытий и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении

Просветляющее покрытие для линз, имеющее малые внутренние напряжения и ультранизкую остаточную отражающую способность // 2324763

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий

Устройство для напыления пористых покрытий на ленту (варианты) // 2337179

Изобретение относится к устройствам для напыления пористых покрытий на ленту и может быть использовано при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий

Осаждение импульсным магнетронным распылением с предыонизацией // 2364661

Изобретение относится к способу осаждения вещества на подложку, импульсному источнику питания для магнетронного реактора и магнетронному реактору