Способ измерения скорости напыления пленок при испарении в вакууме

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

I8O457

Союз Советскиз

Социзлистическик

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Кл. 48Ь, 13/00

Заявлено 29.V1,1964 (№ 909084)22-2) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 21.111.1966. Бюллетень № 7

Дата опубликования описания 4Л .1966

МПК С 23с

УД К 621.793.14 (088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

H. И. Шпиньков, А. А. Пинчук, Б. В. Сныткин и В, Д. Горбунова !

Заявитель

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ СКОРОСТИ НАПЫЛЕНИЯ ПЛЕНОК

ПРИ ИСПАРЕНИИ В ВАКУУМЕ

Предмет изобретения

Свойства топких пленок, получаемых licit;tрением в вакууме, зависят от скорости ltx осаждения, влияющей на кристаллическую структуру. пленки и, в связи с этим, на ее магнитные и другие свойства.

Известны способы измерения скорости напыления пленок при испарении в вакууме.

Цель изобретения — — упростить измерения и повысить степень точности. Достигается это тем, что по предлагаемому способу используют самопроизвольную ионизацию испаряемого вещества. Ионы испаряемого вещества непосредственно переносят свой заряд на электрод.

Измерительный электрод соединяют с испарптелем через микроамперметр. Ионный ток, измеряемый мпкроамперметром, пропорционален скорости напыления.

Способ измерения скорости напыления пленок прп пспарс,ши в вакууме, основанный на понпзацип пспаряемого вещества, от.шкаюи ийся тем, что. с целью упрощения измерений

10 п уточнеш|я показаний, на пути ионов, самопроизвольно образующихся прп испарении наносимого веществ;;, помещают электрод, сосдппсппый с мпкроампсрметром, измеряющим ионный ток, прон орцпон скорости пс15 парения.

Способ измерения скорости напыления пленок при испарении в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к использованию электрического разряда для нагрева и химико-термической обработки изделий в электромагнитном поле индуктора

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий, в частности к устройству для контроля толщины покрытий в процессе нанесении их в вакууме, и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении для контроля толщины покрытий при нанесении их в вакууме

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытий и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий

Изобретение относится к устройствам для напыления пористых покрытий на ленту и может быть использовано при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий

Изобретение относится к способу осаждения вещества на подложку, импульсному источнику питания для магнетронного реактора и магнетронному реактору
Наверх