Способ создания металлических покрытий на полупроводниках и диэлектриках
Способ создания металлических покрытий на полупроводниках и диэлектриках, включающий нанесение металла на подложку и последующий нагрев, отличающийся тем, что, с целью исключения нагрева подложки, уменьшения глубины проникновения металла в подложку, нагрев осуществляется импульсом СВЧ-излучения мощностью импульса, обеспечивающей плотность поглощенной энергии 0,1 - 6 дж/см2, длительностью импульса менее 10-5 с и частотой излучения, определяемой по формуле: 
где d - толщина металлического покрытия; 
- проводимость данного металла; 
- его магнитная проницаемость.
Похожие патенты:
Способ создания силицидов металлов // 884481
Материал для омических контактов // 596097
Припой для контактов к арсениду галлия // 429482
Патент 373794 // 373794
Способ получения р-п переходов // 152033
Способ получения тонкой базы // 133954
Патент 110731 // 110731
Изобретение относится к вакуумной технике и может найти применение в нанесении высококачественных покрытий простого и сложного составов
Изобретение относится к области вакуумного напыления и может быть использовано при создании технологического оборудования для производства изделий электронной техники, радиотехники, приборостроения, в частности установок вакуумного напыления с использованием дугового разряда
Электродуговой испаритель металлов // 714807
Изобретение относится к технике электродугового испарения металлов в вакууме, в частности к устройствам для электродугового испарения легкоплавких металлов, и может быть использовано для нанесения коррозионностойких, декоративных и других покрытий методом осаждения из металлической плазмы
Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки
