Способ получения защитно-декоративных покрытий
Авторы патента:
Способ получения защитно-декоративных покрытий на нержавеющей стали ионно-вакуумным распылением включает введение перед распылением в камеру кислорода и распыления в разряде, поддерживаемом магнитным полом, при давлении кислорода 5 - 8 Па и плотности ионного тока 150 - 200 мА/см2.
Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки.
Известен способ получения защитно-декоративных покрытий, включающий осаждение материала путем испарения материала (титана) в вакуумно-дуговом разряде в среде углеродсодержащего газа при давлении 6 12 Па (авт. св. N 1795984, кл. C 23 C 14/34, 15.02.93). Причинами, препятствующим достижению требуемого технического результата, является относительно низкая производительность процесса, низкая адгезия и невозможность получения пленок из нержавеющей стали с сохранением стехиометрии исходного материала с высокой адгезией к керамическим и стеклянным подложкам. Наиболее близким к изобретению является способ получения защитных пленок из нержавеющей стали, включающий ионное распыление материала в вакуумной камере в среде инертного газа при давлении в камере 15 Па и плотности тока мишени 5 мА/см2 (Dahlgzen, S.D. Mc Clanahan, 3rd Symposium on the Deposition of Thin Films by Sputtering, University of Rochester, N.Y. Sept. 1969, p. 20). При использовании данного способа скорость распыления была достигнута до 5000

Формула изобретения
Способ получения защитно-декоративного покрытия из нержавеющей стали, включающий ионное распыление материала в вакуумной камере, отличающийся тем, что распыление осуществляют в разряде, поддерживаемом магнитным полем, причем перед распылением в камеру дополнительно вводят кислород, а процесс распыления проводят при давлении инертного газа в камере 0,06 0,08 Па, парциальном давлении кислорода 5 8 Па и плотности ионного тока 150 200 мА/см2.
Похожие патенты:
Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано в металлургии в создании термостабилизированных профилей из алюминия особой чистоты
Катодный узел // 2089658
Способ изготовления мишени // 2086699
Изобретение относится к технологии изготовления мишеней для катодного распыления материалов и может быть использовано при нанесении покрытий, применяемых в машиностроении, приборостроении, радиоэлектронике и других отраслях народного хозяйства
Изобретение относится к поверхностной обработке материалов с использованием плазмы аномального тлеющего разряда и предназначено для применения при очистке и термообработке длинномерных металлических изделий, преимущественно проволоки и ленты, а также нанесении на них покрытий
Изобретение относится к нанесению тонких пленок путем ионного распыления материала в вакууме
Установка для нанесения покрытий в вакууме // 2073744
Изобретение относится к установкам для нанесения покрытия в вакууме
Вакуумно-дуговой источник плазмы // 2072642
Изобретение относится к микроэлектронной промышленности, стремительное развитие которой требует резкого увеличения производства полуфабрикатов из алюминия особой чистоты (АОЧ) в виде распыляемых мишеней
Магнитная система планарного магнетрона // 2102527
Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки
Магнетронная распылительная система // 2107970
Магнетронная распылительная система // 2107971
Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов
Способ магнетронного распыления // 2114487
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике
Источник многокомпонентных атомарных потоков // 2119730
Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок
Магнетронный источник // 2125117