Способ изготовления фотоэмульсионных слоев,наполненных легкими ядрами

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

ОП ИСАНИ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЮТИЛЬСТВУ (6l) Дополнительное к авт. свид-ву(22) Заявлено15.07.76 (21) 2385067/1бь25 с присоединением заявки №(23) Приоритет— (43) Опубликовано 25,10.78.Бюллетень №89 (45) Дата опубликования описания28.08.78

Государстаеииый комитет

Совета Мииистроа CGCP по делам изооретеиий и стираний (?2) Автор изобретения

Л. H. Бокова (71) Заявитель

Объединенный институт ядерных исследований (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЭМУЛЬСИОННЫХ

СЛОЕВ, НАПОЛНЕННЫХ ЛЕГКИМЫ

ЯДРАМИ

Изобретение относится к ядерным эмульсионным детекторам и применяется для регистрации взаимодействия частиц с легкими ядрами.

Существует ряд физических задач, например изучение упругого рассеяния Р Р, P(4 -генерации частиц и расщепление ядер при неупругих взаимодействиях, где требуется повышенное содержание легких ядер группы НСО в эмульсии по сравне- щ нию со стандартным составом ядерных фотоэмульсий. Делались попытки создать такую эмульсию в производственных условиях путем введения в готовую эмульсию при поливе слоев желатины али слож- 5 ных эфиров органических кислот (l)

Однако это не приводит к достаточному увеличениЮ легких ядер., Ближайшим техническим решением является способ введения легких ядер в эмульсию путем пропитывания готовых бесподложечных слоев вешествами, богатыми легкими ядрами НСО водой иля этиленгликолем (2 ) .

Однако этот способ имеет недостатки, которые заключаются в том, что исчезает релятивистская чувствительность при загрузке водой, резко возрастает вуаль в случае применения этиленгликоля, кроме того, невозможно даже кратковременное хранение загруженных слоев до и после облучения из-эа их почернения при хранении до облучения и сильной per рессии после облучения.

Бель изобретения — получение стабильных фотографических свойств эмульсионных слоев в течение длительного времени.

Это достигается тем, что готовые бесподложечные слои пропитывают 70-85%-ным раствором глицерина или 50-60%-ным о раствором глюкозы при 20-25 С.

Способ осушествляется следуюшим образом.

B металлическую кювету наливается

80%-ный раствор глицерина, имеющий плотность Х,2 г/смЗ, туда помешается слой на трое суток при температуре о

20-25 С. Затем слой вынимается из раствора, запаивается в полиэтилен и в та629519

Составитель B. Дрь гин

Редактор Н. Разумова ТехредМ. Борисова Корректор 11. Мельниченко

Заказ 6064/41 Тираж 702 Подписное

UHHHllH Государственного комитете Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4 ком состоянии может облучаться, 17ри предложенном способе загрузки, как и при загрузке этиленгликолем, объем слоя увеличивается в 2,7 раза, соотношение ядер НСО/A g Sl" . возрастает в четыре реза по сравнению со стандартной эмульсией, коэффициент усадки такого слоя достигает 5-6, Эмульсионные слои, загруженные растворами глицерина или глюкозы, могут )O храниться до облучения 2-3 недели без заметного изменения фотографических свойств; регрессия изображения на облученных слоях в течение недели не превышает 5%, тогда как слои, загруженные этиленгликолем, чернеют., после первых суток хранения.

Использование предлагаемого способа введения кОнцентрированных растворов глицерина и глюкозы обеспечивает по 20 сравнению с известным сохранение релятивистской чувствительности без изменения вуали, возможность изготовления в лабораторном масштабе эмульсионных камер объемом 0,5-0,6 л, обеспечиваю- 2З ших проведение физических экспериментов, возможность хранения загруженных слоев до и после облучения в течение

2-3 недель, а кроме того, простоту изготовпения, не требуюшего дополнительного оборудования.

Формула изобретения

Способ изготовления фотоэмульсионных слоев, наполненных легкими ядрами

HCG, включаюший обработку бесподложечных слоев вешествами, богатыми легкимиядрами, отличающийся тем, что, с целью получения стабильных фотографических свойств в течение длительного времени, бесподпожечные слои пропитывают 70-859с-ным раствором глицерина или 50-60%-ным раствором глюкозы о при 20-25 С, Источники ийформации; принятые во внимание при экспертизе:

1. Долхажав Н., Калинкина Т, М., Кривенцова Л, Г„ Толстов K. Д и

Уваров В. Н. Ядерная фотография, N., 1962, с, 171-172.

2. Lto Ин Себ, Кривенцова Л. Г„

Любомилов С. И.,Шафранова М, Г.

Ядерная фотография, M., 1962, с. 446-447.

Способ изготовления фотоэмульсионных слоев,наполненных легкими ядрами Способ изготовления фотоэмульсионных слоев,наполненных легкими ядрами 

 

Похожие патенты:

Способ определения энергетического порога чувствительности ядерной эмульсиипри известных способах оценки значения энергетического порога чувствительности фотоэмульсий по средней плотности проявленных зерен на следе частицы с определенной ионизирующей снособиостью онираются на 5 произвольные предложения о величине флюктуации в передаче энергии частицей мнкро- 'кристаллу agbr. это не дает возможности быть уверенным в достоверности способов.по предлагаемому способу можно прямо 10 'получить кривую распределения лппфокрнсталлов agbr ядерной эмульсии по их чувствительности.способ основан на изучении фотографической эффективности результата попадания в 15 микрокристалл отдельного электрона известной энергии, тормозяи1.егося внутри мнкрокристалла до остановки. при этом миниг^итльная энергия электро]1а, которая сообщает микрокристаллу способность к проявлению может 20 быть отождествлена с чувствительностью микрокристалла.заключается способ в том, что на однослойном препарате исследуемой эмульсии экспонируют под электронным пучком последова- 25 тельность полей, отличающихся энергией электронов, но при постоянстве экспозиций. после нроявления препарата определяют плотность проявленных зерен в полях облучения и строят зависимость выхода нроявлен- 30 ных зерен от энергии электронов.нов выбирают такими, чтобы можно было пренебречь вероятностью кратных попаданий электронов в микрокристалл и выходом электронов за пределы микрокристаллов. этим условиям соответствуют экспозиции 0,1—0,2 электрона на микрокристалл и эпергия электронов при экспозиции, не превыщающая 2000 эв (максимальиый пробег в agbr~ -^10^0 см).тогда нолучеииая зависимость выхода проявленных зерен от энергии электронного пучка будет показывать долю микрокристаллов с норого>&.! чувствнтельности не выще заданного значення энергии, а дифференцированная кривая — распределенне микрокристаллов по чувствительности.предмет изобретенияспособ онределення энергетического порога чувствительности ядерной эмульсни по плотности проявленных зерен, находящихся в ноле облучення, отличающийся тем, что, с целью нолучення сведеннй о распределепи'и мнкрокрнсталлов agbr по чувствительности, изучают выход проявленных зерен на последовательности полей однослойного препарата, экспонированных npii постоянной экспозиции электронами с различной энергней в условнях эксноннровання, когда вероятность кратных попаданнй электронов в микрокристалл и выход электронов за нределы микрокристалла нренебрежимо малы. // 172407
Изобретение относится к ядерной физике и может быть использовано в экспериментах на ускорителях
Изобретение относится к ядерной физике и может быть использовано при регистрации заряженных частиц на ускорителях
Изобретение относится к ядерной физике и может быть использовано в экспериментах с применением твердотельных трековых детекторов
Изобретение относится к области электрометаллургии и может быть использовано для плавки в вакуумно-дуговых печах слитков из титана и его сплавов, легированных изотопом углерод-14, в частности для проведения авторадиографических исследований
Наверх