Способ изготовления пленочных магнитных запоминающих матриц

 

Г

2„

I l

onисАйие

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

347956

Союз Соеетскик

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 09.Х1.1970 (№ 1611037/26-9) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 10.V111.1972. Бюллетень,,й 24

Дата опубликования описания 05,1Х.1972

М. Кл. Н 05k 3/00

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.3.049.7(068.8) Авторы изобретения

К. Г. Агафонова, Г. П. Ивашкин, В. А. Теряев, И. Б. Шестаков и Г. Н. Переплетчиков

Заявитель

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕН ИЯ ПЛ ЕНОЧ Н61Х МАГН ИТН ЫХ

ЗАПОМИНАЮЩИХ МАТРИЦ

10 Вязкость лака .ЧЛ-92, сек

Вязкость клея БФ-4, сек

Тол1иина слоя после суьпки при 140- С в течение

3 час, зткзт

18

13

14

24

16

12

10

15

Известные способы изготовления пленочных магнитных запоминающих матриц, включающие процесс приклеивания медной фольги в виде токопроводящих шин к матрице с использованием лака в качестве подслоя клея и применением давления и нагрева, не обеспечивают требуемой чувствительности запоминающих матриц.

Цель изобретения — повышение чувствительности запоминающих матриц.

Для этого но предлагаемому способу используют термопластичный клей на основе феноло-формальдегидных смол, модифицированны.; поливинилацеталями, например феноло-поливинилбутиральной БФ-4, а в качестве

его подслоя — термореактнвный электроизоляционный лак па основе мелампноформальдсгидных смол с теплостойкостью выше теплостойкости клея, например лак МЛ-92.

При этом отвсрждение лака перед нанесением на него клея прекращают на промежуточной стадии при 130+10 С в течение 15—

20 мин.

Технология склеивания при нанесении лака и клся методом окунания заключается в следующем.

Слой лака МЛ-92 наносят на фольгу и подсушивают его до потери липкости прп 130+

+-10 С в тече ие 15 — 20 мин. Эта операция придает лаку клеяшне свойства. Далее на подсушенный слой лака наносят нодслой клея

БФ-4 и подсушивают его на воздухе в течение

15 — 20 литн.

В таблице приведены оптимальные вязкоггн лака и клея в секундах по впзкозпмстру ВЗ-1 для получения электронзоляцпонного слоя заданной толщины методом окунания со скоростью подъема подложки 0,1 см сен.

20 Для предотвращения размягчения слоя лака прп прессованпп и обеспечения электронзоляцпн проводят полное совместное отвсрждсннс лака и клея на фольге прп 145+-5 С в тсчсннс

3 час.

25 Затем клей БФ-4 (с вязкостью 20 — 24 свн по впскозпметру ВЗ-4) наносят на матрицу методом окунания со скоростью подъема

0,1 см сею. Клей, нанесенный на матрицу, подсушивают на воздухе в течение 30 мпн. Далее

30 фольгу с полностью отвержденны ми слоям н

347956

Составитель А. Мермаи

Тсхред Т. Ускова

Редактор T. Иванова

Корректор Е. Михеева заказ 2687/13 Изд. № 1141 Тиран< 406 Подписное

11НИИГ1И Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 типография, пр. Сапунова, 2

Лана il !сЛЕя ilpIII(ПЕПВаlОТ К Л!атрнцс ПОд даВ лснисм 1 — 20 кгс с>1!з и при температуре

120+-5 С в течение 15 1шн.

В случае многослойного склеивания после обраооткп фольги методом фотолитографии на проводи!!кон! !с н!!!нь! прик:!с»ва1oт следующий сло1! фольги по пр1!поденной вьlнlе технологии.

Пред»lc T изобретения

СГ!Осоо изготовления плепочн!>lх магнитных запоминающих матриц, включающий процесс приклеивания медной фольги в виде токопроводящпх шпн к матрице с использованием лака в качестве подслоя клея и применением давления и нагрева, отличающийся тем, что, с целью повышения чувствительности запоминающих матриц, используют термопластичный клей !13 основе феноло-формальдегидных смол, модифицированных поливинилацеталямп, !тапример феноло поливинилбутиральный

БФ-4, а в качестве его подслоя — термореактивный электроизоляцпонный лак на основе меламиноформальдегидных смол с теплостой10 костью выше тсплостойкости клея, например лак 1ЧЛ-92, причем отверждение лака перед нанесением на него клея прекращают на промехкуточной стадии при температуре 130+-!

0 С по истечении 15 — 20 мин.

Способ изготовления пленочных магнитных запоминающих матриц Способ изготовления пленочных магнитных запоминающих матриц 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области технологии микроэлектроники, в частности, к технологии формирования на подложках тонкопленочных рисунков с помощью лазерного луча и к устройствам, позволяющим реализовать такую технологию

Изобретение относится к электролитическим способам изготовления печатных схем и заключается в избирательном электрохимическом травлении фольгированного диэлектрика при его движении относительно линейного секционного электрод-инструмента
Изобретение относится к радиоприборостроению и может найти применение при изготовлении печатных плат с элементами проводящего рисунка схемы, работающими на размыкание - замыкание и располагаемыми в любом месте поля платы (тастатура номеронабирателя, контакты плоские, разъемы)
Изобретение относится к способу изготовления многослойной платы с печатным монтажом

Изобретение относится к способу изготовления композиционного многослойного материала, предпочтительно материала с перекрестной ориентацией армирующих волокон, в соответствии с которым параллельно расположенные волокна покрываются матричным веществом и вместе с предварительно сформированными нетекучими композициями параллельно расположенных волокон или перекрещивающимися системами параллельно расположенных волокон пропускаются через зону дублирования, причем ориентация волокон в соединяемых слоях имеет по крайней мере два направления

Изобретение относится к созданию трехмерной электронной аппаратуры
Наверх