Способ приготовления хлорсеребряного индикаторного электрода
ОП И САНИ Е 29И4!
Союз Советских
Социалистических
Республик
ИЗОБРЕТЕН И Я
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Зависимое от авт. свидетельства №
МПК 6 01п 27!30
Заявлено 26.1V.1969 (№ 1325136/22-1) с присоединением заявки ¹
Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров
СССР
Приоритет
Опубликовано 06.11971. Бюллетень ¹ 3
Дата опубликования описания 24.11.1971
УДК 543.257.2(088.8) Авторы изобретения
В. И. Петренко, В. П. Храпай и H. С. Баландина
Заявитель
СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ХЛОРСЕРЕБРЯНОГО
ИНДИКАТОРНОГО ЭЛЕКТРОДА
Предмет изобретения
Изобретение относится к области аналитической химии, в частности к области потенциометрического титрования.
Известен способ приготовления хлорсеребряпого индикаторного электрода путем нанесения хлорида серебра на серебряную основу.
Предложенный способ отличается от известного тем, что хлорид серебра наносят на серебряную основу погружением в его расплав.
Это способствует повышению устойчивости электрода.
Предложенный способ заключается в том, что серебряную основу, например серебряную проволоку диаметром 1,5 мм и длиной 10 м.тт, предварительно нагретую до 600 — 700 С на /а погружают в расплав хлорида серебра, имеющего температуру 600 — 700 С. Погружение осуществляют периодически — 4 — 5 раз в течение 1,5 — 2 сек. Затем расплав охлаждают до 450 С и погружают в него на 3 — 4 мин электрод, фиксируя тем самым нанесенный слой хлорида серебра.
Толщина слоя осажденного хлорида серебра должна быть 0,15 — 0,3 ттлт.
После охлаждения полученный электрод помещают для хранения в дистиллированную
5 воду.
Электрод, полученный предложенным способом, не уступает по чувствительности электроду, полученному известным способом, и превосходит его по устойчивости в 10 — 15 раз.
Способ приготовления хлорсеребряного ин15 дикаторного электрода для потенциометрического титрования путем нанесения хлорида серебра на серсбряную основу, отличаю цпйся те»т, что, с целью повышения устойчивости электрода, нанесение хлорида серебра осуще20 ствляют погружением в его расплав при 600—
700 С с последующим фиксированием полученного слоя в охлажденном до 450 C расплаве,
