Способ изготовления элементов световода
Для изготовления элементов на поверхности подложки формируют посредством фотолитографии образцы элементов световода. Образцы элементов световода формируют с наклоном под определенным углом по отношению к вертикальным и горизонтальным линиям разреза, которые расположены на подложке. Подложку разрезают вдоль по горизонтальным и вертикальным линиям разреза для формирования множества элементов световода. Угол наклона позволяет снизить обратные потери в случае, когда элементы световода соединяют с оптическими волокнами. 6 з.п.ф-лы, 5 ил.
Настоящее изобретение относится к способу формирования образцов элементов световода на поверхности подложки с помощью способа фотолитографии.
Большие проблемы, которые возникают обычно при соединении элементов световода с оптическими волокнами, представляют собой, например, потери при френелевском отражении, потери при разъюстировке и снижение работоспособности элементов световода из-за отражения света в месте соединения между элементами световода и оптического волокна. На современном уровне развития технологии практически полностью решены проблемы, связанные с потерями в месте соединения из-за разъюстировки и френелевского отражения. Однако при стыковке световода с оптическим волокном обратные потери составляют приблизительно 30 дБ. В результате этого возникают обратные потери и перекрестные помехи из-за изменения оптического пути, который влияет непосредственно на стабильность всей системы. Соответственно для устранения этого недостатка перед соединением оптических элементов вместе торцы световодов и ряд оптических волокон выравнивают под углом 7 - 8o. На фиг. 1 изображен известный способ изготовления элемента световода [1] , который предназначен для соединения с оптическим волокном. После выравнивания кремниевой подложки 10 и фотошаблона в вертикальном положении (фиг. 1 и 2) на подложке 10 при помощи способа фотолитографии создают множество образцов 30 элементов световода. Затем образцы 30 элементов световода разрезают вдоль вертикальных линий 18 разреза и горизонтальных линий 16 разреза. Вертикальные и горизонтальные линии 16 и 18 разреза пересекают друг друга в перпендикулярном направлении. После разрезания подложки 10 по этим линиям разреза образцы 30 элемента световода разделяют, при этом каждый образец содержит множество световодов 32, которые образуют элемент световода. Поэтому торцы элементов 32 световодов выравнивают под углом приблизительно 8o для того, чтобы все контактные поверхности среза 34 были наклонены на 8o. Как описано выше, известный способ имеет недостаток, заключающийся в том, что образцы 30 элементов световода сначала формируют в вертикальном направлении на подложке, затем разрезают вдоль по горизонтальным и вертикальным линиям разреза на множество отдельных элементов световода, и окончательно торцевые поверхности всех элементов световода выравнивают под углом приблизительно 8o. Задача настоящего изобретения заключается в разработке способа изготовления элементов световода с малым временем изготовления и низкой стоимостью производства продукции. Согласно настоящему изобретению предложен способ изготовления элементов световода, содержащий операцию формирования образцов элементов световода на поверхности подложки при помощи способа фотолитографии, причем образцы элементов световода формируют с наклоном под определенным углом





Формула изобретения
1. Способ изготовления элементов световода, при котором формируют образцы элементов световода на поверхности подложки при помощи способа фотолитографии, отличающийся тем, что образцы элементов световода формируют с наклоном под определенным углом



РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5
Похожие патенты:
Фотополимеризующаяся композиция // 2127444
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Фотополимеризующаяся композиция // 2127444
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Полиорганосиланы и двухслойная позитивная маска для фотолитографии на основе полиорганосилана // 2118964
Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)
Полиорганосиланы и двухслойная позитивная маска для фотолитографии на основе полиорганосилана // 2118964
Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)
Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии
Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы
Позитивный фоторезист // 2100835
Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике
Способ получения полиэфирного покрытия // 2084484
Способ получения рельефа на поверхности // 2129960
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Изобретение относится к технике полупроводниковой фотографии и, в частности, к фотошаблону и способу его изготовления, который может обеспечить рисунок с высоким разрешением на полупроводниковой ступенчатой подложке
Изобретение относится к области микролитографии (в частности, к рентгенолитографии) и может быть использовано при изготовлении, например, печатных форм (клише) для высокой печати с субмикронным разрешением структур рисунка, используемых, преимущественно, при изготовлении денежных знаков и иных ценных бумаг, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением его структур в функциональных слоях изделий
Способ определения глубины залегания модифицированного приповерхностного слоя в полимерной пленке // 2148853
Изобретение относится к технике газофазной химической модификации приповерхностного слоя полимерных пленок, в частности фоторезистных, и может быть использовано на операциях контроля фотолитографических процессов, а также любых других пленок, прозрачных в видимой области спектра на отражающих подложках
Изобретение относится к контрольно-измерительной технике технологических процессов производства изделий микроэлектроники, в частности к контролю фотолитографических процессов с использованием газофазной химической модификации приповерхностного слоя пленок фоторезистов
Изобретение относится к ракетным двигателям космических аппаратов и, более конкретно, к ионным двигателям малой тяги