Устройство для контроля плоскостности прозрачных деталей
Изобретение относится к измерительной технике и может быть применено для проверки плоскостных фотошаблонов в микроэлектронике. Цель изобретения - повышение точности контроля за счет исключения наблюдения паразитной интерференционной картины на экране по всем направлениям. Устройство содержит лазерный источник 1 излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зеркало 2, коллиматор, включающий два конфокально расположенных объектива 3 и 4, клиновидную пластину 5 с эталонной нижней поверхностью и экран 6 для наблюдения интерференционной картины, оптический клин 7, установленный на оси с возможностью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излучения и зеркало 8. Расположение оптического клина 7 на оси с возможностью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излучения, вызывает изменение разности хода интерферирующих излучений, отраженных от двух поверхностей контролируемой детали 9. Поток излучения, проходя через вращающий оптический клин, отклоняется от оптической оси и совершает круговое движение на экране 6. В результате чего паразитные интерференционные картины и участки с неравномерностью освещения, связанные с дифракцией когерентного излучения, на неизбежных загрязненных оптических элементов, получают круговое перемещение в плоскости экрана и при вращении клина с частотой более 24 Гц размываются и становятся невидимыми, а исследуемая интерференционная картина остается при этом неподвижной на экране 6. 1 ил.
А1
СОЮЗ СОВЕТСНИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУ БЛИН
09} (1!} рц G Ol В 9/02, 11/24
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н ASTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ
ПРИ ГННТ СССР (21) 4492055/25-28 (22) 10,10 ° 88 (46) 30 ° 08 ° 90. Бюл, У 32 (72) А,И.Калбазов и.З,И,Калбазова (53) 531,715,27(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР
У 842398, кл, С 01 В 9/02, 1981, (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ПЛОС»
КОСТНОСТИ ПРОЗРАЧНЫХ ДЕТАЛЕЙ (57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть приме2 нено для проверки плоскостных фото= шаблонов в микроэлектронике, Цель изобретения - ловы}пение..точности контроля за счет исключения наблюде ния паразитной интерференционной картины на экране по всем направлениям, Устройство содержит лазерный источ ник 1 излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зер кало 2, коллиматор, включающий два конфокально расположенных обьектива
1589045
3 и 4, клиновидную пластину 5 с эта= лонного йижней поверхностью и экран
;6 для наблюдения интерференционной картины, оптический клин 7, установленный на оси с воэможностью вращения в плоскости„ пересекающей направление потока излучения и зеркало 8 °
Расположение оптического клина 7 на оси с возможностью вращения в плос кости, пересекающей направление по тока излучения, вызывает изменение разности хода интерферирующих излу,.чений, отраженных от двух поверхнос»
j тей контролируемой детали 9. Поток 15 излучения, проходя через вращающий .
Изобретение относится к измерительной технике и может быть исполь зовано для проверки плоскостности пластин, применяемых B полупроводниковой промьппленности в качестве фотошаблонов.
Цель изобретения повышение точности контроля за счет исключения наблюдения паразитной интерферен" ционной картины на экране по всем направлениям.
На чертеже изображена принципиальная схема предлагаемого устройства для контроля плоскостности прозрачных деталей, Устройство содержит лазерный ис" точник 1 излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зер кало 2, коллиматор, включающий два конфокально расположенных объектива
3 и 4, клиновидную пластину 5 с эталонной нижней поверхностью и блок наблюдения интерференционной картины в виде экрана 6, оптический клин
7; установленный на оси с возможнос . тью вращения в плоскости, пересекаю щей направление потока излучения и зеркало 8, Устройство работает следующим образом, Излучение от лазерного источника
1 излучения направляют зеркалом 2 на объектив 3. Пройдя оптический клин 7, излучение попадает на объектив 4 колпиматора, затем на клиновидную пластину 5 и контролируемую деталь 9. Излучение, отражаемое от контролируемой детали 9 и эталонной
50 оптический клин, отклоняется от он тической оси и совершает круговое движение на экране 6. В результате чего параэитные интерфереиционные картины и участки с неравномерностью освещения, связанные с дифракцией когерентного излучения, на неизбежных загрязнениях оптических элементов, получают круговое перемещение в плоскости экрана и при вращении клина с частотой более 24 Гц раэюгваются и становятся невидимыми, а исследуемая интерференционная карти» на остается при этом неподвижной на экране 6. 1 ил. нижней. поверхности клиновидной пластины 5, интерферирует и направляется зеркалом 8 на экран 6, На,исследуемую интерференционную картину накладываются паразитные интерференционные картины от обратной стороны контролируемой прозрачной детали 9, которые устраняются вращением оптического клина 7, установленного,на оси с возможностью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излу» чения, вызывающего изменение разности хода интерферирующих излучений, отраженных от двух поверхностей контролируемой детали 9. Кроме того, поток излучения, проходя через вращающийся оптический клин 7 отклоняется от оптической оси и совершает круговое движение на экране 6 °
Поэтому паразитные интерференционные картины и участки с неравноиер ностью освещения, связанные с дифракцией когерентного излучения, иа неизбежных загрязнениях оптических элементов, получают круговые перемещения в плоскости экрана и при вращении клина с частотой более 24 Гц размы ваются и становятся невидимымн, а исследуемая интерференционная картина остается при этом неподвижной на экране, !
Предлагаемое устройство значительно сокращает время контроля прозрачных подложек для фотошаблонов, что позволяет снизить трудоемкость, повышает качество подложек, т,е. повы шает процент выхода годных интеграль ных схем, 1589045
Формула изобретения
Составитель Л.Лобзова
Техред М.Дндык Корректор С. Черни
Редактор Т,Парфенова
Заказ 2530 Тираж 499 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
113035,. Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Производственно-издательский комбинат. "Патент", г.Ужгород, ул. Гагарина,101
Устройство для контроля плоскостности прозрачных деталей, содержащее источник монохроматического излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зеркало, коллима тор, включающий два конфокально расположенных объектива, клиновидную пластину с эталонной поверхностью, второе зеркало и блок наблюдения интерференционной картины и оптический . клин, расположенный между объектива мю, отличающееся тем, что, с целью повышения точности. контроля, оптический клин установлен с возможностью вращения в плоскости, пересекакщей направление потока из
1О лучения. е


