Способ контроля формы отражающей поверхности зеркальных отражателей
Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к оптическим измерениям на основе спекл-интерферометрии. Цель изобретения - повышение точности контроля. Способ включает экспонирование фотопластинки диффузным излучением, образованным при пропускании когерентного излучения через рассеиватель, и последующее отражение его от зеркального отражателя, местоположение которого от экспозиции к экспозиции изменяют путем смещения отражателя параллельно фотопластинке. Проводят нечетное число экспозиций, причем длительность первой экспозиции выбирают из равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие экспозиции проводят циклами, включающими две экспозиции, после размещения отражателя перед каждой экспозицией в симметричных относительно первоначального положениях, при этом величины смещений отражателя последовательно увеличивают от цикла к циклу на значение, равное первоначальному смещению, а длительность каждой экспозиции в цикле определяют из математического выражения. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
СОЮЗ СОВЕТСНИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ
РЕСПУБЛИН
„„SU„„1551989
А1 (ц С 01 В 11/24 L,,1
"— kn
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ
ПРИ ГКНТ СССР (21) 3901465/24-63 (22) 27.05.85 (46) 23.03.90. Бюп. Р 11 (71) Сибирский физико-технический институт им. В.Д. Кузнецова при
Томском государственном университете им. В.В. Куйбышева (72) В.Г. Гусев (53) 531. 715. 27 (088.8) (56} Авторское свидетельство СССР
N - 593070, кл. G 01 В 11/24, 1977.
Авторское свидетельство СССР
Р 664022, кл. С 01 В 11/24, 1978. (54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ФОРМЫ OTPAKAIOЩЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ЗЕРКАЛЬНЫХ ОТРАЖАТЕЛЕИ (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к оптическим измерениям на основе спекл-интерферометрии. Цель изобретения — повышение точности контроля. Способ включает экспонирование фотопластинки диффузным излучением, образованным при
Изобретение относится к оптическому приборостроению, а более конкретно к оптическим измерениям на основе спекл-интерферометрии.
1 ель изобретения — повышение точности контроля.
На чертеже представлена одна из возможных схем устройства, позволяющая реализовать предлагаемый способ °
Устройство включает когерентныйисточник 1 света, затвор 2, конден,сор 3, диффузный рассеиватель 4, светоделитель 5, контролируемый зеркальный отражатель 6 с механизмом
7 его перемещения, фотопластинку 8. пропускании когерентного излучения через рассеиватель, и последующее отражение его от зеркального отражателя, местоположение которого от экспозиции к экспозиции изменяют путем
Ь смещения отражателя параллельно фотопластинке. Проводят нечетное число экспозиций, причем длительность первой экспозиции выбирают иэ равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие экспозиции проводят циклами, включающими две экспозиции после размещения отражателя перед каждой экспозицией в симметричных относительно первоначального положениях, при этом величина смещений отражателя последовательно увеличивают от цикла к циклу на значение, равное первоначальному смещению, а длительность каждой экспозиции в цикле определяют из математического выражения. 1 з.п. ф-лы, 1 ил °
Способ осуществляется следующим образом.
Когерентное излучение от источника 1, пройдя конденсор 3, при открытом затворе 2 освещает диффузный рассеиватель 4. Диффузное излучение, отразившись от светоделителя 5 и зеркального отражателя 6, поступает на фотопластинку 8 и регистрируется на ней за время первой экспозиции. Перед второй экспозицией зеркальный отражатель 6 с помощью механизма 7 его перемещения смещается в плоскости, проходящей через его вершину и параллельной плоскости фотопластинки 8, 1551989 где с, N—
С и
N-3
Й" 1
С 2
H-1 соответственно.
g-1 — -IEI
С 2. и й-(С 4 1
С
l1-1 л — (О
С й= н50 где и» пепич11пу а. Перед третьей экспозицией зеркальный отражатель .6 смешается на величину а симметрично относительно своего первоначального по5 ложения и так далее, причем перед каждой последующей экспозицией величина перемещения кратна величине а.
При восстановлении записи проявленную фотопластинку освещают плоской когерентной волной от источника, используемого при записи, и в фокаль" ной плоскости линзы, установленной за фотопластинкой, получают картину периодически чередующихся узких интерференционных полос. По результатам измерения периода повторения аХ опре-. деляется радиус кривизны сферического зеркала R = 2а Х1/(ЯГ ), где 1 — расстояние от плоскости, проходящей через вершину отражателя 6, до плоскости фотопластинки 8; 3 — длина волны используемого источника света; f фокусное расстояние используемой линзы. 25
Нарушение эквидистантности интерференционных полос характеризует отклонение поверхности от сферической формы или волновые аберрации сферических зеркал. Точность измерения определяется точностью определения центра интерференционных полос и возрастает с увеличением числа экспозиций. Общее число экспозиций выбирают нечетным, длительность первой экспо зиции выбирают из равенства экспози35 ции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие проводят циклами, включающими две экспозиции, после размещения от40 ражателя перед каждой экспозицией в симметричных относительно первоначального положениях, при этом величины смещений отражателя последовательно увелнчивают от цикла к циклу на
45 значение, равное первоначал ьному сме щению, а длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равной длительность 1 Й экспОЭИЦии общее число экспозиций; порядковый номер Цикла экспозиций; число сочетаний из N-1 по
N-1 N-1 — — — m. и из N-1 по
2 2 формула изобретения
1. Способ контроля формы отражающей поверхности зеркальных отражателей, включающий освещение отражателя диффуэионно-рассеянным излучением, последовательную экспозицию фотопластинки излучением, отраженным от зеркального отражателя при различных
его положениях, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения точности контроля, используют когерентный источник излучения и экспозиции, начиная с второй, производят циклами при смещении отражателя в положении, симметричные относительно первоначального, и в плоскости, параллельной плоскости фотопластинки, при этом величину смещений отражателя последовательно От цикла к циклу увеличивают.
2. Способ по п. 1, о т л и ч а ю шийся тем, что длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равной
4 1
- Ь1 л N1 п
IIE Я-1 Ь|
С
Я-1
М вЂ” общее число экспозиций;
m — порядковый номер цикла экспозиций число сочетаний из N-1 по
N-1 N-1 — — — щи из N-1 по
2 2 ,соответственно длительность первой экспозиции.
1551989
Составитель A. Семин
Техред Л. Сердюкова
Корректор Н. Ренская
Редактор А. Иандор
Заказ 321 Тираж 488 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101
