|
1. Устройство для обработки объекта в поле магнитного векторного потенциала, содержащее источник поля векторного потенциала в виде размещенных рядом чередующихся полюсов магнитов для формирования векторного потенциала, отличающееся тем, что выполнено в виде, по крайней мере, одного модуля, в котором размещено четыре магнита, при этом два первых магнита размещены рядом, а два других магнита размещены напротив двух первых магнитов. 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магниты выполнены в виде электромагнитов, 4 обмотки которых размещены на 2-х магнитопроводах, при этом обмотки присоединены к генератору переменного и/или импульсного тока, при этом генератор содержит полевой транзистор, стабилизатор, таймер, при этом к таймеру присоединены регулируемые резисторы для изменения частоты, длительности и амплитуды тока, а параллельно полевому транзистору подсоединен регулируемый резистор для формирования и регулирования напряженности постоянного магнитного поля. 3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что магниты размещены рядом один с другим и напротив друг друга с чередованием северных и северных или южных полюсов. 4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что модуль с магнитами размещен в дополнительном корпусе, который дополнительно снабжен, по крайней мере, двумя креплениями для размещения устройства вокруг объекта обработки и ввода в объект акустической и/или электромагнитной волны, и/или лазерного излучения, и/или механического воздействия, и содержит источник вывода информации о состоянии объекта обработки. 5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что, по крайней мере, одна из поверхностей дополнительного корпуса выполнена из металла. 6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что поверхность дополнительного корпуса выполнена в виде отдельных звеньев. 7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магниты размещены рядом с промежутками с чередованием северных и северных или южных полюсов. 8. Устройство по п.7, отличающееся тем, что промежутки между магнитами заполнены парамагнитным и/или диамагнитным веществом. 9. Устройство по п.8, отличающееся тем, что в промежутках между магнитами расположен, по крайней мере, один ввод электромагнитного и/или лазерного, и/или акустического излучения, а также механического воздействия. 
| |
