Устройство для электронно-лучевой обработки

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (ii) 742О76 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 0501.79 (21) 2733209/25-27 с присоединением заявки Мо (23) Приоритет

Опубликовано 250680 .Бюллетень hl9 23

Дата опубликования описания 2806.80 (51)М. Кл.

В 23 К 15/00

Государственный комитет, СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621 791 .72.03 (088.8) (72) Авторы изобретения

В.В. Маркелов и Л.Н. Пономарева (71) Заявитель (5 4 ) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОЙ

ОБРАБОТКИ

Формула изобретения

Известно устройство для электроннолучевой обработки с отклонением электронного луча по изогнутой траек— тории на 90о и более, содержащее маг- 5 нитопровод, электромагнитную катушку и две пары полюсных наконечников, расположенных в определенном порядке и закрепленных неподвижно (1).

Цель изобретения — расширить технологические розможности за счет обеспечения регулирования угла отклонения и степени фокусировки электронного луча.

Это достигается тем что пары поI

15 люсных наконечников закреплены на магнитопроводе шарнирно с возможностью их взаимного углового перемещения.

На фиг. 1 показана фронтальная проекция предлагаемого устройства; на фиг. 2 — то же, план.

Устройство состоит из магнитопровода 1, закрепленного на кронштейнах 2, электромагнитной катушки 3 25 и двух пар полюсных наконечников 4 и 5, шарнирно закрепленных на магнитопроводе 1 с возможностью взаимного углового перемещения. Смещая пары полюсных наконечников 5 и 4, изме- 3Р няют угол са. между ними и, следовательно, угол Р падения электронного луча 6 на деталь 7, который может регулироваться в пределах от 45 до

180о и больше. Изменением значения тока в катушке 3 добиваются необходимой фокусировки электронного луча на мишени (см. фиг. 1).

Устройство работает следующим образом. При пропускании электрического тока через катушку 3 между полюсными наконечниками каждой пары 5 и 4 возникают магнитные поля. Направление магнитных полей одинаково, зависит от направления тока в катушке и выбирается таким, чтобы электронный луч

6 отклонялся в сторону полюсных наконечников. Отклоненный электронный луч попадает в. магнитное поле пары наконечников 5, взаимодействуя с ним, отклоняется в сторону пары наконечников 4, затем попадает в магнитное поле пары наконечников 4, снова отклоняется и направляется на деталь 7 (см. фиг. 2).

Устройство для электроннолучевой обработки, содержащее отклоняющую

742076

Составитель В. Мельников

Редактор й. Народная Техред И.Асталош Корректор И. Пожо

Тираж 1160 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытиЯ

113035, Иосква, Ж 35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 3 363/11

Филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4 систему, состоящую из магнитопровода с расположенными на нем электромагнитной катушкой и двумя парами полюсных наконечников, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью расширения технологических воэможностей за счет. обеспечения регулирования угла отклонения и степени фокусировки электронного луча, пары полюсных наконечников закреплены на магнитопроводе шарнирно с воэможностью их взаимного углового перемещения.

Источники информации,. при". ятые во внимание прн экспертизе

1. Патент ФРГ У 2206995, кл. Н 05 В 7/00, 1976.