Способ обработки полимерной пленки

3 .с- -.- = ая

О е а И C А Н --В-Е- ттгг*вт.ав61

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик (б!) дополнительное к авт. свил-ву (22) Заявлено05.07.74 (21) 2041955/05 с присоединением заявки № (23) Приоритет (51) M. Кл

С 08 J 7/18

Государственный комитет

Соавта Министров СССР по делам изобретений и открытий (43) Опубликовано25.05.76.Бюллетень № 19 (53) УДК 678.026.3 (0HR,8) (45) Дата опубликования описании 28.07.77 (72) Авторы изобретения

В, Н. Шихов, В. B. Ткачев и Г. В. Медведев

Уральский ордена Трудового Красного Знамени политехнический институт им. С, M. Кирова (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЕНКИ

Изобретение относится к производству фото- и кинопленок, светочувствительный слой которых наносится на полимерную основу.

При получении основы на барабанных или ленточных машинах, а также при дальнейшей ее обработке (отверждение, сушка) на поверхности полимерной пленки наводится значительный заряд статическот о электри1 чества, что значительно ухудшает условия щ производства и приводит к браку по причине засветки фото-киноматериалов при искрении.

Известны способы обработки полимерных пленок, наполненных токопроводящим или 15 ферромагнитным наполнителем, в постоянном или пульсирующем магнитном поле.

Однако присутствие оптически непрозрачного наполнителя снижает качество фотои кинопленок. 20

Другие известные методы борьбы с электризацией, в частности радиоизотопный, затрагивают лишь поверхностный слой основы. 25

Целью изобретения является разработка способа обработки полимерной пленки, при котором бы снижался или совсем устранялся объемный заряд статического электричестваа

Это достигается тем, что во время or верждения и сушки полимерных материалов на них воздействуют переменным магнитным полем, причем напряженность поля, отнесенная к скорости перемещения основы, составляет 2500-30000 эрстед сек/м.

Пример 1, Отмытую or эмульсии нитроцеллюлозную основу электризуют трением о фторопластовый диск до заряда

2, 2-2,2 10 кул/см . Затем ее подвергают действию переменного магнитного поля напряженностью 10000 эрстед и частотой 50 Гц.

Заряд пленки составлял после обработки

-H 2 в течение 10 мин 1,7-2,5 10 кул/см после обработки в течение 20 мин — 0,65-0,78 10 кул/см .

-H 2

Примеры с различными материалами приведены в табл. 1.

514861

Таблица 1

Акриповое волокно

Капроновое волокно

Полне типен

200-250

3,5

230

180-240

180-200

0,4-1 2

20-50

Попивинилхлорид

Таблица 2

0,25 - 0,5

15-25

8000 — 10000

30000 - 40000

150000 — 200000.

12 - .15

Составитель Ю. Крейдлин

Техред 3. Фанта Корректор Л. Веселовская, Редактор А. Бер

Заказ 1446/77 Тираж 629 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д, 4/5

Филиал ППП Патент, r. Ужгород, уп. Проектная, 4

Дпя практического осуществления способа основу нодвергаюг воздействию магнитного поля и после сушильной камеры, дпя чего устанавливают магнитопроводы с головками.

Данные по напряженности поля, снимав. щего заряд в 10 раз, в зависимости ог скорости передвижения основы, приведена в табл. 2.

Проведение обработки леремеыыым. магФормула изобретения

Способ обработки полимерной пленки, например, основы для фотопленки, в магнитном поле, о т л и ч à ю шийся нитным полем может осущесгвлягъся и при последующих технологических операциях.

Уменьшение электризации основы снижает брак по разнотолшиниосги эмульсионного слоя и засветки пленки, а также сводит к минимуму опасность загораний и взрывов паров растворителей.

Изобретение может быть использовано, кроме того, в производстве магнитофонных

ip пленок и пленок для упаковки. тем, что, с целью снижения электризации полимерной пленки, обработку ее осуществляют в магнитном поле с отношением напряженности его к скорости перемещении пленки 2500-30000 эрстед сек/м, 45