Фильтрующий элемент для очистки плазмы

Авторы патента:

H01J3/40 - ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов; избирательные устройства по скорости или массе

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

i) 4920П

Союз Советских

Соииалистических

Республик

I (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 26.04.73 (21) 1922189/26-25 ! (51) М. Кл. Н Olj 3/40 с присоединением заявки №

Государственный комитет

Совета й1инистров СССР (23) Приоритет

Опубликовано 15.11.75. Бюллетень М 42 !

Дата опубликования описания 06.02.76 (53) УДК 621,2.032 (088.8) по делам изобретений н открытий (72) Автор изобретения

H. Ф. Лазарев (71) Заявитель (54) ФИЛЬТРУК)ЩИЙ ЭЛЕМЕНТ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПЛАЗМЫ

Формула изобретения

Изобретение относится к области физической электроники и может быть использовано в газоразрядных приборах для очистки плазмы от продуктов распыления катода.

Известны устройства для очистки плазмы, в которых между катодами и анодом установлен охлаждаемый полый металлический цилиндр, через который пропускается газовьш разряд.

Продукты распыления катода осаждаются на внутренней стенке этого цилиндра.

Однако эффективность очистки этого устройства недостаточна в связи с тем, что прп малых давлениях газа частицы пролетают. не взаимодействуя с поверхностью цилиндра.

Это вызвано тем, что цилиндр установлен соосно с катодом и анодом и образует прямой просвет.

Для увеличения эффективности очистки плазмы в этой конструкции необходимо увеличение длины цилиндра, что приведет к усложнению установки.

Целью изобретения является увеличение эф рективности очистки плазмы от примесей.

Это достигается тем, что в предлагаемом фильтрующем элементе установлены диафрагмы с отверстиями, просветы которых перекрываются каким-либо телом, например телом другой диафрагмы. Для улучшения теплоотвода от диафрагмы и упрощения ко|струкции, диафрагмы электрически не изолированы от корпуса и одна от другой.

На чертеже показан предлагаемый фильтрующий элемент.

В корпусе 1 из теплопроводяшего материала расположены диафрагмы 2 с отверстиями

3. На внешней части корпуса выполнены две трубки 4 для выхода и входа теплоносителя, проходящего через рубашку 5. На боковых сторонах корпуса расположены патрубки 6 для соединения с газоразрядцым прибором.

Фильтрующий элемент работает следующим образом.

Корпус 1 с помощью патрубков 6 соединен с газоразрядным прибором, так что разряд может протекать только через отверстия 3, частицы попадают на стенки диафрагмы или корпуса, где они оседают и таким образам происходит очищение плазмы от примесей.

Выделенное плазмой тепло на поверхности диафрагмы 2 и внутрснней поверхности корпуса 1 отводится теплоносителем, которьш проходит через трубки 4, заполняя рубашку 5.

1. Фильтрующий элемент для очистки плазмы, состоящий из охлаждаемого корпуса и одной или нескольких диафрагм с отверстиями, 30 установленных в корпусе, отличающийся

492011 бСоставитель Н. Воронин

Техред Е. Митрофанова

Редактор И. Шубина

Корректор 3. Тарасова

Заказ 181/20 И зд. № 1987 Тираж 833 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 тем, что, с целью увеличения эффективности очистки плазмы от примесей, диафрагма расположена в корпусе так, что просветы отверстий диафрагм перекрыты каким-либо телом, например телом следующей диафрагмы.

2. Элемент по п. 1, отлич а ющийся тем, что, с целью улучшения теплоотвода от диафрагмы и упрощения конструкции, диафрагмы электрически не изолированы от корпуса и

5 одна от другой.

Патент 286090 // 286090

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты) // 2107968

Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц // 2108636

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц // 2364003

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты) // 2097868

Устройство для изучения ионатомной перезарядки // 698070

Вакуумно-дуговой генератор с жалюзийной системой фильтрации плазмы от микрочастиц // 2516502

Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых ускорителей от микрокапельной фракции. Вакуумно-дуговой генератор с жалюзийной системой фильтрации плазмы от микрочастиц содержит охлаждаемый катод 1 в виде усеченного конуса, поджигающий электрод 3, установленный на конической поверхности катода 1, цилиндрический охлаждаемый анод 4, установленный коаксиально с катодом 1, источник питания 5 вакуумной дуги, включенный между катодом 1 и анодом 4, источник питания 6 поджигающего электрода 3, подключенный отрицательным выходом к катоду 1, осесимметричную жалюзийную систему вставленных друг в друга конических электродов 7, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока 9 и к положительному выводу источника напряжения 8, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя, над анодом, до жалюзийной системы и после нее установлена, по меньшей мере, одна электромагнитная катушка 10, 11, 12 и перед жалюзийной системой электродов, соосно с ней, установлен дополнительный охлаждаемый анод 13. В центре катода 1 выполнено отверстие в виде встречного, по отношению к внешней поверхности катода, усеченного конуса, а электроды 7 жалюзийной системы выполнены в форме конической многовитковой винтовой линии. В центральной части катода, в плоскости малого диаметра усеченного конуса, установлен диск 2 из тугоплавкого материала. Жалюзийная система выполнена двухэлектродной. Электроды 7 жалюзийной системы и дополнительный анод 13 выполнены так, чтобы не было прямой видимости рабочей поверхности катода, включая его конические поверхности, из любой точки пространства, расположенного за жалюзийной системой. Электроды 7 выполнены с зазорами между соседними витками конической винтовой линии и разной длины. Технический результат - увеличение эффективности прохождения плазмы через жалюзийную систему электродов и ионного тока на выходе. 5 з.п. ф-лы, 1 ил.

Устройство для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции // 2585243

Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и может быть использовано в электронной, инструментальной, оптической, машиностроительной и других отраслях промышленности. Устройство содержит жалюзийную систему, выполненную в виде набора электродов, перекрывающих апертуру испарителя. Электроды электрически соединены между собой последовательно и встречно и подключены к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя. Каждый электрод выполнен из двух прилегающих друг к другу элементов, которые подключены к источнику тока таким образом, чтобы по ним протекал ток в противоположных направлениях. Технический результат - повышение производительности за счет увеличения общего потока плазмы на выходе плазменного фильтра. 2 ил.