Способ очистки теллура

патам,-,то

< с !!ая бттблмкз re,:

О П И С А Н И Е <» 384427

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Сова Советских

Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 27.10.71 (21) 1709140/22-02 (51) М.Кл.з С 22 В 61/00 с присоединением заявки— (23) Приоритет— (43) Опубликовано 23.12.81. Бюллетень № 47 (45) Дата опубликования описания 23.12.81 государственный комитет ио делам изобретений и открытий (53) УДК 69.777.4:

:541.183 (088.8) (72) Автор изобретения

Г, Е. Ревзин (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ТЕЛЛУРА

Изобретение относится к области цветной металлургии, а именно к |гидрометаллургическим методам очистки рассеянных элементов.

Известен способ очистки теллура окислением технического теллура до теллурата, выделением и ионообменной очисткой теллуровой кислоты с последующим восстановлением теллура.

Ионообменную очистку теллуровой кислоты проводят в три приема: катионитом

КУ-2 в Н-форме, анионитом АВ-17 или

ЭДЭ-10п в СНзСОО-форме и их смесью, Особенность предла1гаемого способа в том, что перед ионообменной очисткой теллуровую кислоту обрабатывают барийсодержащими соединениями, взятыми в количестве, необходимом для осаждения 1 —3% теллура. Это позволяет повысить эффективность процесса очистки от примесей за счет сокращения стадий ионообменной очистки, регенерации ионитов и времени процесса.

Сущность изобретения заключается в том, что раствор теллуровой кислоты перед ионообменной очисткой обрабатывают. гидроокисью, окисью или карбонатом бария, Такая обработка вызывает осаждение сульфата, селената, арсената бария. Для максимальной очистки от примесей — анно- З0 нов, барий вводят в раствор в избытке, обеспечивающем полное осаждение малорастворимых сульфатов бария и частичное соосаждение 1 — 3% теллура в виде теллурата бария. При этом вместе с осадком теллурата бария легко удаляются при фильтровании микроколичества примесей, а повышение рН раствора после обработки окисью, гидроокисью или карбонатом бария способствует соооаждению ряда примесей тяжелых металлов, железа, алюминия и кремния в виде гидроокисей или иных соединений.

После обработки раствора теллуровой кислоты окисью, гидроокисью или карбокатюм бария и фильтрования раствора его пропускают через колонку с сильнокислотklbIM катионитом, например КУ-2, в Н-форме, получая теллуровую кислоту требуемой чистоты.

Теллур, осаждаемый в виде теллурата бария, извлекают из осадка обработкой кислотами.

При этом в раствор переходит эквивалентное количество бария в виде соли соответствующей кислоты (нитр,ат, хлорид, ацетат бария). В случае наличия в очищаемой теллуровой кислоте значительных количеств селеновой кислоты целесообразно извлекать из осадка селен. Утилизация

384427

Формула изобретения

Редактор Т. Морозова Техред И. Заболотиова Корректор С. Файн

Заказ 20/35 Изд. М 650 Тираж 694 Подписное

ИПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений н открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушскан наб., д. 4/5

Тип. Харьк. фнл. пред. «Патент» селена может быть осуществлена обработкой осадка (после извлечения из него теллура) катионитом в Н-форме.

П р имер. 100 г технического теллура марки Т-1 окисляют 30 -ной перекисью водорода в присутствии едкого калия. После обработки раствора катионитом КУ-2 в

Н-форме в статических условиях и промывки смолы водой в раствор теллуровой кислоты вместе с промывными водами вводят 1,7 r гидроокиси бария в виде Зо/о-ного раствора при перемешивании и через 0,5 ч отфильтровывают осадок на воронке Бюхнера. Отфильтрованный раствор пропускают через колонку с катионитом КУ-2 в

Н-форме.

Выход очищенного теллура составляет

90,8%. При этом из осадка,, полученного при добавлении гидроокиси бария, выделено дополнительно 2,5 г теллура (2,5о/о) в виде раствора теллуровой кислоты после обработки осадка 500/o-HQH уксусной кислотой.

5 Содержание в теллуре примесей 1. 10 4 вес %

10 Способ очистки теллура окислением технического теллура до теллурата, вьщелением и ионообменной очисткой теллуровой кислоты с последующим восстановлением теллура, отлич:ающийся тем, что, с

15 целью повышения эффективности процесса, перед ионообменной очисткой теллуровую кислоту обрабатывают барийсодержащими соединениями, взятыми в количестве, необходимом для осаждения 1 — 3% теллура.