Способ удаления слоев фоторезистов
33373I
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Соеетскиз
Социалистическиз
Респуолик
Зависимое от авт. свидетельства ¹
Заявлено 23.VI.1970 (Xo 1456424/22-1) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 21.1ll.1972. Бюллетень ¹ 11
Дата опубликования описания 26.IV.1972
М. Кл. Н 05k 3 00
С 23g 1/00
Комитет по делам изооретеиий и открытий при Совете Министров
СССР
УДК 621.3.049.7 (088.8) Авторы изобретения
Э. И. Матусевич, В. К. Рець и Д. Г. Дмитраков
Заявитель
СПОСОБ УДАЛЕНИЯ СЛОЕВ ФОТОРЕЗИСТОВ
Изобретение относится к области изготовления различных приборов и схем методом фотолитографии, в частности к удалению слоев фоторезистов.
Известен способ удаления слоев фоторезистов путем травления.
Предложенный способ отличается от известного тем, что слой фоторезиста предварительно нитруют в смеси концентрированных серной и азотной кислот. Это позволяет повысить скорость процесса.
По описываемому способу термообработанные (задубленные) слои фоторезистов предварительно нитруют в смеси, содержащей концентрированные серную и азотную кислоты в соотношении 1: 1, при температуре 50 — 60 С, после чего слой фоторезиста стравливают, например, 5 — 10%-ным водным раствором соды или органическим растворителем, например ацетоном и т. д.
Пример. Для удаления позитивного фоторезиста ФП-383, нанесенного на пленку из тантала и термообработанного при температуре 200 С в течение 40 мин, готовят нитрующую смесь из равных весовых частей концентрированных кислот — серной (уд. вес.
1,84 г/смз) и азотной (уд. вес. 1,41 гlсм ).
Подложку с фоторезистом погружают в указанную смесь и выдерживают в ней до тех пор, пока фоторезист не изменит цвет (коричневый переходит в желтый). Время нитрования 20 — 40 сек.
После нитрования подложку промывают в проточной воде, после чего помещают в 5—
10%-ный водный раствор соды и выдерживают в нем в течение 20 — 60 сек с последую10 щей промывкой в проточной воде.
В случае удаления слоев фоторезистов с малогабаритных подложек удобно готовить нитрующую смесь непосредственно перед удалением фоторезиста, так как в этом случае
15 для осуществления процесса нитрования достаточно тепла, выделяющегося при сливании кислот.
Предмет изобретения
Способ удаления слоев фоторезистов путем травления, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости процесса, слой фоторезиста предварительно нитруют в смеси, содер25 жащей концентрированные серную и азотную кислоты в соотношении 1: 1, при температуре
50 — 60 С.
