Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления
©Д ИКАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДН ЕЛЬСТВУ
All(OS G0BBBBTT(I(MMX
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”
Заявлено ЗО.XII,1968 (№ 1293817122-1) Кл. 48Ь, 7/00 с присоединением заявки ¹â€”
Комитет по делам иаоеретеиий и открытий при Совете Мииистрое
СССР
Приоритет—
Оп1оликоваио 05.V111.1970. Б!Оллстепь № 25
ЧПК С 23с 7(00
УД К 621.793.06 (088.8) Дата опубликовашгя описания 27.XI. 1970 каа
4 II/
АВТОР (130(> P 0 T0 I l (I SI
И. M. Вайстух
10 "
И", i с
Ьь- 1ИОТЕКА
Заявитель
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ
УСТАНОВКАМ ПЛАЗМЕНИОГО НАПЫЛЕНИЯ
Предмет изобретен ия
Изобретение относится и области плазменного нанесения покрытия.
Известно устройство для подачи сыпучих материалов к установкам плазменного напыления, содержащее герметичный корпус с вы«одным каналом и узел дозирования, выполненный в виде регулировочной иглы с центральным каналом для подачи газа.
Предложенное устройство отличается от известного тем, что в регулировочной игле на расстоянии от ее IIII>KI(его конца равным сс
«оду имеются отверстия, расположенные в радиал!.иом направлении. Это обеспечивает раьиомсрность подачи материала к установке.
I I3 IcpTc>Kc изображено предложенное устройство и разрезы по Л вЂ” 1 и Ь вЂ” Б.
Устройство содержит герметичный корпус 1 с выходным каналом 2 и узел дозироваиия, выполненный в виде регулировочной иглы 8 с центральным каналом 4 для подачи газа. В игле, 3 иа расстоянии от ее нижнего конца равным ее коду имеются отверстия 5, располо>кениые в радиальном направлении.
Перед загрузкой регулировочиая гайка 6 ставится в положение «открыто». Возвратная пружина 7 поднимает регулировочну(о иглу, которая OTKph(BBeT кана (2. 33Ch(IIK3 IIOpOIIIK3 через выходной канал 8 проис.;од(п после поворота устройства на 180 в вертикальной плоскости. После этого гайка 6 ставится в положение «закрыто», и регулировочная игла закрывает канал 2. Затем устройство повора5 чивают в рабочее положен!(с выходным каналом вниз. На регулировочную иглу надевают шланг 8 для подвода газа, а на выходной канал — шланг 9 для транспортировкll порошка. После включения подачи газа последний, 10 пройдя по каналу 4 и через отверстия 5 с болыио!1 cl opocTI 10, сжижаст Олизлежащис и кап Злу oo hp:;(hi пороип а, Оторый
«ытскает из канала 2 подобно жидкости, пo.
11313я в плазменную горелку.
1;) Устройство для подачи сыпучих материалов K установках(плазме((1101 0 и апь! лен и(1> c;)держащее герметичный корпус с Выходным каналом и узел дозироваиич, выполненный Il виде регулировочной иглы с центральным каналом тл(1 подачи газа, от.!(((аю(ц(тся тем, что, с целью обеспечения равномерности подачи материала, в регулировочиой игле иа расстоянии от нижнего конца равным сс коду имеются отверстия, p3c(10;Io>(lcHk(h(p в радиальном направлении.
278344
ООПП..лд+ -и
8 положРиии „Открыто"
Сосзавитсль If. Резник
Тс рсд 3, II. Тараненко
Рс.»автор Чижова
Корректор Т. А, Умйнег1
Загорская типография
Заказ 4977 Тираж 480 экз. Подписное
ЦI-11111П11 Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Ми пиетров ССС!
Москва, Ж-35, Раушская иаб., д. 4 5
