Устройство для изготовления ферритовых пленочных элементов памяти
О П И С А Н И Е 237288
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависи Ine от авт, свидетельства Хе
Заявлено 29.III.1968 (№ 1228755. 18-24) Кл. 21, 31/02
2131, 37 04 с присоединением заявки Л
Приоритет
Опубликовано 12.II.1969. Б10ллстснь ¹ 8
Комитет по лелем
МПК Н Old
li 031<
X Д1х 681.327.66 (088.8) чзабретений и открытиЯ при Совете Министров
СССР
Дата опубликования описания 10.Л1.1969
Авторы изобрстсш1я
Б. E. Клейман и Я. M. Беккер
Заявитель
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФЕРРИТОВЫХ
ПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ПАМЯТИ
Изобретение относится к области запоминающих устройств и может найти применение для получения ферритовых пленочных элементов памяти, используемых в 3ап0м11нающих устройствах ЗВМ.
Известно устройство для изготовления ферритовых пленочных элементов памяти с помощью дугового разряда в вакууме. Оно содср>кит катод из исходного материала-феррита, закрепленный в керамическом держателе, и молибденовый стержень, служащий анодом.
Для создания дуги молибденовый электрод приводится в соприкосновение с катодом, напылясмым ферритом, а затем отодвигается113 несколько сантиметров от поверхности ферр"та. Источник постоянного тока для дугового разряда должен обладать стабильностью ие хуже 0,1%.
Цель изобретения — повышение скорости испарения и получение пленок с улучшенными магнитными свойствами и однородноCT6I0.
Описываемое устройство отличается тем, что содержит систему нагревателей для предварительного нагрева феррита и последующего его испарения токами высокой частоты, а также для нагрева подложки, что обеспечивает равномерность осаждения, эпитаксиаlьный рост и снятие механических напряжений.
Нагреватель подло>кки является ее же держателсм и может перемещаться 110 направлгцощим штангам в область индуктора.
На чертеже изобра>кена конструкш1я стра йства.
5 Устройство содержит электрический нагреватель (печь) 1 для прсдварительисго нагрева феррита, исходную фсрритову10 пластину >, высокочастотныи иидукгор >, подложку
4 для осаждения пленки, нагреватель 5 под10 ложки (псчь), вакуумный колпак (i и основаИ 1С 7.
На электрический нагреватель 1, например, плоской формы помещена исходная фсрритова я и, 1 асти на . В электрическом и а Гpcl>BTe, le ,> выполнен паз, в котором помещена подложка 1, например, из монокристаллического
IkgO. Нагреватель 3 закреплс:1 на штангах 8 на требуемом расстоянии от пластины >.
Штз 1 ги 8, выполненные из токопроводя1цего
20 матер.1а 13, одновременно выполняют функции подвода тока к нагревателю 5. Высокочастотный индуктор 3 имеет ци1IIII3pllчсскуlo форму. Пластина 2 помещена внутри индуктора 3.
2i Вс» cèñòñìà нагревателей вместе с исходН011 1I.з3стиноЙ 2 ll IIQ+ло>ккоЙ .1 поме1цсиа под вакуумный колпак 6, а через основание 7 пропущены выводы нагревателей, с1срсз отверстие в основании производится отсос воз30 духа.
237288
Предмет изобретения
11г г8/насосу
Составитель А. Соколов
Редактор Е. В. Семанова Техрсд Л. Я. Левина Корректоры: М. Коробова и А. Абрамова
Заказ 1323117 Тира к 480 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете МинисIJ)QB СССР
Москва, Центр, пр. Серова, д. 4
Типографии, ир. Сапунова, 2
Устройство работает следующим образом.
Ферритовая пластина 2 нагревается нагревателем 1 до 300 †4 С, а затем подвергается нагреву токами высокой частоты до
1000 С при разрежении под колпаком 0,5тор.
Подложки из монокристаллического М О нагреваются до =400 С. При этом были получены пленки толщиной = 50 икл в течение
1,8 — 2 мин.
Характеристики пленок (коэрцитивная сила
Н, =2э, остаточная индукция В„ - 1300 гс, прямоугольность К,р=0,9) обеспечивают создание миниатюрных элементов памяти.
Устройство для изготовления ферритовых пленочных элементов памяти, содержащее
5 вакуумный колпак с основанием, держатель и подложку для осаждения пленки, отличаюи1еесл тем, что, с целью повышения скорости испарения и получения пленок с улучшенными магнитными свойствами и однородностью, 10 оно содержит систему нагревателей, состоящую из печи для предварительного нагрева феррита, высокочастотного индуктора для испарения феррита токами высокой частоты и печи для нагрева подложки.

