Дуговой генератор газоразрядной плазмы с холодным полым катодом
Изобретение относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах. Сущность: другой генератор газоразрядной плазмы состоит из вакууумной камеры-анода и полного цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле. Внутри полого катода размещено инициирующее дугу поджигающее устройство, а на торце катода, обращенного к аноду, расположен дугогаситель. Технический результат: увеличение времени непрерывной работы дугового генератора газоразрядной плазмы, в том числе при работе с химически активными газами. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
Изобретение относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах и может быть использовано для формирования поверхностных протяженных твердых диффузионных слоев в металлах и сплавах (азотирование, цементация и др.), ионно-плазменного ассистирования при нанесении упрочняющих и защитных покрытий, плазменно-иммерсионной ионной имплантации, а также ионно-плазменного синтеза покрытий из продуктов разложения сложномолекулярных газов.Известны генераторы на основе высокочастотного разряда [1] и генераторы с использованием тлеющего разряда [2], позволяющие создавать низкотемпературную газовую плазму в больших объемах. Однако такие генераторы имеют низкую энергетическую эффективность вследствие высокого напряжения горения и функционируют при относительно высоких давлениях газа.Наиболее близким к предлагаемому изобретению аналогом, взятым за прототип, является генератор [3] для создания низкотемпературной газоразрядной плазмы, в котором в качестве полого анода большого размера используется технологическая вакуумная камера, а в качестве катода - комбинированный катод, состоящий из термокатода (вольфрамовая спираль) и окружающего его полого цилиндрического катода, электрически соединенного с одним из выводов термокатода, помещенных в аксиальное магнитное поле. Катодный узел располагается на одной из стенок вакуумной камеры, а напуск рабочего газа производится через катодную полость.В таком генераторе при подаче питания к накаленному катоду, постоянного напряжения к разрядному промежутку и установлении необходимого расхода рабочего газа между катодным узлом и анодом зажигается и горит несамостоятельный дуговой разряд низкого давления. Данный тип разряда инициируется электронами, испускаемыми накаленным катодом и ускоренными в катодном падении потенциала. Основным недостатком такого генератора является ограниченный срок службы накаленного катода при больших токах разряда, не превышающий нескольких десятков часов в атмосфере реактивных газов (N2) и нескольких десятков минут в атмосфере активных газов (О2, СН4) вследствие окисления вольфрама и бомбардировки катода ионами.Техническим результатом предлагаемого изобретения является увеличение времени непрерывной работы дугового генератора газоразрядной плазмы, в том числе при работе с химически активными газами.Указанный технический результат при осуществлении изобретения достигается тем, что в известном устройстве, состоящем из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, согласно изобретению внутри полого катода размещено инициирующее дугу поджигающее устройство, а на торце катода, обращенного к аноду, расположен дугогаситель.Кроме того, особенность заявленного генератора плазмы заключается в том, что дугогаситель выполнен в виде стакана с центральным отверстием в своем основании, при этом диаметр центрального отверстия относится к диаметру полого катода как 1:3.В генераторе плазмы для инициирования и поддержания газового дугового разряда на внутренней поверхности водоохлаждаемого полого катода принудительно формируется катодное пятно, локализованное в максимуме тангенциальной составляющей магнитного поля.На чертеже схематично представлен пример конструкции предлагаемого генератора плазмы. Генератор состоит из водоохлаждаемого полого катода 1 (диаметром 100 мм и длиной 200 мм), помещенного в продольное магнитное поле короткой магнитной катушки 2. Величина магнитного поля варьируется в пределах 0-2,5





Формула изобретения
1. Дуговой генератор газоразрядной плазмы, состоящий из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, отличающийся тем, что внутри полого катода размещено инициирующее дугу поджигающее устройство, а на торце катода, обращенного к аноду, расположен дугогаситель.2. Дуговой генератор газоразрядной плазмы по п.1, отличающийся тем, что дугогаситель выполнен в виде стакана с центральным отверстием в своем основании, при этом диаметр центрального отверстия относится к диаметру полого катода как d=1/3 D, где d - диаметр центрального отверстия, D - диаметр полого катода.РИСУНКИ
Рисунок 1NF4A Восстановление действия патента Российской Федерации на изобретение
Извещение опубликовано: 20.10.2006 БИ: 29/2006
Похожие патенты:
Трехфазный генератор плазмы переменного тока // 2225686
Изобретение относится к электротехнике, предназначено для получения низкотемпературной плазмы и может быть использовано в физических экспериментах, плазмохимии, металлургии, а также установках по утилизации токсичных и бытовых отходов
Свч-плазмохимический реактор // 2225684
Изобретение относится к микроволновым СВЧ-плазменным реакторам с увеличенным объемом плазмы и может быть использовано при производстве изделий электронной техники и др
Плазматрон // 2225084
Изобретение относится к технологии плазменной обработки материалов и изделий, в частности к электродуговым плазматронам, предназначенным для напыления порошковых материалов, включая тугоплавкие материалы, на поверхности изделий с целью получения покрытий различного функционального назначения
Изобретение относится к физике высокотемпературной плазмы и направлено на создание стационарной высокотемпературной плотной полностью ионизированной плазмы
Изобретение относится к способам беспроволочной передачи электрической энергии и может быть использовано в качестве средства передачи электрических зарядов без проводов
Изобретение относится к технике электрических газовых разрядов, создаваемых в виде канала плазмы, сжатого магнитным полем собственного электрического тока, и применяемых в рентгеновской микролитографии, нейтронографии, в исследованиях биологических микрообъектов и в других областях науки и техники
Изобретение относится к технике электрических газовых разрядов, создаваемых в виде канала плазмы, сжатого магнитным полем собственного электрического тока, и применяемых в рентгеновской микролитографии, нейтронографии, в исследованиях биологических микрообъектов и в других областях науки и техники
Изобретение относится к устройствам для генерации плазмоидов, близких по своим свойствам к шаровым молниям и имеющих возможность автономного существования в свободном пространстве
Электродуговой плазмотрон // 2222121
Изобретение относится к конструкции электродуговых плазмотронов с межэлектродными вставками (МЭВ), предназначенных для нанесения покрытий или плазменной закалки в труднодоступных местах, например для нанесения защитных покрытий на внутренние поверхности труб, диаметр которых в свету соизмерим с дистанциями, принятыми для напыления (100-300 мм)
Изобретение относится к клапанам и предназначено преимущественно для быстрого и точного регулирования газовой среды накопительных камер инжекторов холодной плазмы, в реакторах для синтеза легких ядер, при давлении газа на входе клапана не более 10 мм ртутного столба
Плазменный источник с полым катодом // 2211502
Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для формирования высокоэнергетичных пучков многозарядных ионов различных элементов в установках для ионной имплантации, а также в качестве инжекторов ускорителей тяжелых ионов
Источник ионов (варианты) // 2187218
Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам, предназначенным для получения интенсивных пучков ионов, которые могут использоваться в ионно-лучевых технологиях
Устройство для ионной обработки материалов // 2187168
Изобретение относится к устройствам электронно-ионной технологии, в частности к газоразрядным устройствам для ионной очистки и травления материалов, и может найти применение при изготовлении элементной базы микроэлектроники из многокомпонентных материалов
Ионный источник // 2176133
Изобретение относится к ионным источникам для циклотронов (внутренним, закрытого типа) и может использоваться в циклотронной технике
Изобретение относится к ионным источникам с закрытым дрейфом электронов, которые могут быть использованы в качестве двигателей, в частности, для космических кораблей, либо в качестве ионных источников для промышленных операций, например нанесение покрытий напыления в вакууме
Плазменный ионный источник // 2147387
Изобретение относится к ионным источникам и может быть использовано в масс-спектрометрии для элементного анализа жидкостей и газов, в ионной технологии и т.д
Источник ионов // 2248064
Изобретение относится к ионно-плазменной технике, в частности к источникам ионов с замкнутым дрейфом электронов, которые могут быть использованы при конструировании источников, формирующих ленточные пучки ионов инертных и химически активных газов