Ленточный плазменный эмиттер ионов
Эмиттер содержит полый цилиндрический катод овального сечения, в одной из плоских частей катода выполнено эмиссионное отверстие в форме щели и стержневые аноды. Постоянные магниты установлены снаружи на торцах катода. В катодную полость напускается газ. При подаче напряжения между катодом и анодом зажигается тлеющий разряд в магнитном поле и анодная полость заполняется плазмой, из которой через эмиссионную щель в катоде производится отбор ионов. Техническим результатом является улучшение функциональных и эксплуатационных характеристик ионных источников. 2 ил.
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации ионных пучков с большим током.
Известны плазменные эмиттеры ионов на основе такой разновидности разряда низкого давления с ненакаливаемым катодом в скрещенных электрическом и магнитном полях, как разряд в электродной системе типа "обращенный магнетрон". Использование магнитного поля в такой системе приводит к возникновению замкнутого азимутального дрейфа электронов, что обеспечивает горение разряда при низких давлениях. Такие системы с отбором ионов вдоль направления магнитного поля используются для получения ионных пучков с большим поперечным сечением [1] . Системы с отбором ионов поперек магнитного поля используются для генерации ленточных ионных пучков [2]. Для обработки поверхностей в виде широких лент значительной длины наиболее целесообразным является использование ленточного пучка, ось которого перпендикулярна направлению движения материала. Трудность создания эффективного источника ленточного пучка заключается в необходимости создания концентрированного разряда с высокой пространственной неоднородностью плазмы, максимум плотности которой расположен вблизи плазменной эмиссионной поверхности, что обеспечивает высокую плотность эмиссионного тока и возможность отбора значительной доли ионного тока из плазмы, но при этом в определенном заданном направлении эта плазма должна быть однородной на значительной длине. Известные источники ленточных пучков не обеспечивают требуемой совокупности таких параметров, как высокая эффективность отбора ионов из плазмы, высокая плотность тока эмиссии и ее равномерное распределение по длине ленточного эмиттера. Известный плазменный эмиттер содержит цилиндрический катод, в котором параллельно образующей цилиндра выполнено эмиссионное окно, расположенный на торце катода плоский анод или параллельный поверхности катода стержневой анод, а также соленоид, устанавливаемый снаружи катода [2]. В такой системе доля извлекаемого тока ионов пропорциональна отношению ширины щели к диаметру катода и не может быть достаточно большой из-за ухудшения условий горения разряда при уменьшении диаметра полого катода [3]. Наличие продольной эмиссионной щели затрудняет создание в протяженной системе однородного магнитного поля, что приводит к ограничению предельно достижимой длины сечения ионного пучка, так как следствием неоднородности магнитного поля является неоднородное распределение плотности тока ионной эмиссии плазмы по длине щели. Задачей изобретения является увеличение длины ленточного плазменного эмиттера ионов при сохранении высокой однородности эмиссионных свойств и снижение цены извлеченного иона. Для этого в ленточном плазменном эмиттере ионов [2], содержащем полый цилиндрический катод, в котором выполнено эмиссионное отверстие в форме щели, анод и магнитную систему, катод в поперечном сечении выполнен в форме овала с различной длиной осей, эмиссионная щель расположена параллельно большой оси сечения, анод состоит из нескольких стержней, установленных параллельно образующей катода в плоскости симметрии, включающей большую ось сечения, а магнитная система состоит из постоянных магнитов, установленных на внешних торцовых поверхностях катода таким образом, что оси намагниченности магнитов параллельны образующей катода и имеют одинаковое направление, причем L = (1 + х), r = 1/2


Формула изобретения
Ленточный плазменный эмиттер ионов, содержащий полый цилиндрический катод, в котором выполнено эмиссионное отверстие в форме щели, анод и магнитную систему, отличающийся тем, что катод в поперечном сечении имеет форму овала с различной длиной осей, эмиссионная щель выполнена параллельно большой оси сечения, анод выполнен в виде нескольких стержней, установленных параллельно образующей катода в плоскости симметрии катода, включающей большую ось сечения, а магнитная система состоит из постоянных магнитов, установленных на внешних торцах катода таким образом, что оси намагниченности магнитов параллельны образующей катода и имеют одинаковое направление, причем L = l + х, r = 1/2

РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2
Похожие патенты:
Плазменный эмиттер ионов // 2150156
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации ионных пучков с большим поперечным сечением
Плазменный эмиттер ионов // 2134921
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации интенсивных ионных пучков с большим поперечным сечением
Плазменный эмиттер ионов // 2110867
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью
Источник быстрых нейтральных молекул // 2094896
Изобретение относится к источникам ионов и может быть использовано в технологических целях для имплантации ионов, электромагнитного разделения изотопов для нанесения покрытий на поверхности с различными целями
Способ обработки изделий источником ионов // 2071992
Изобретение относится к технологии обработки изделий ионами в вакууме с целью их очистки и повышения адгезии наносимых покрытий с целью травления и ионной фрезеровки изделий, полировки поверхности, распыления любых материалов или с целью упрочнения и модификации поверхности имплантацией ионов
Изобретение относится к ускорительной технике и, в частности к способам и устройствам для ионизации атомов, и может быть использовано для формирования ионных пучков низкой энергии в ионных источниках
Ионный источник // 2067784
Изобретение относится к технике получения ионных пучков и может быть использовано при получении пучков многозарядных ионов и высокозарядных ионов, включая ядра, полностью лишенные электронов
Плазменный эмиттер ионов // 2045102
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации интенсивных ионных пучков с большим поперечным сечением
Ионный источник // 2176133
Изобретение относится к ионным источникам для циклотронов (внутренним, закрытого типа) и может использоваться в циклотронной технике
Изобретение относится к ионным источникам с закрытым дрейфом электронов, которые могут быть использованы в качестве двигателей, в частности, для космических кораблей, либо в качестве ионных источников для промышленных операций, например нанесение покрытий напыления в вакууме
Дуоплазматрон с малым потоком газа на выходе // 2170988
Изобретение относится к источникам заряженных частиц и применяется в ускорительной технике
Плазменный эмиттер ионов // 2150156
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации ионных пучков с большим поперечным сечением
Изобретение относится к получению ионных пучков и может быть использовано в ускорительной технике, масс-спектрометрии и т.п
Плазменный ионный источник // 2147387
Изобретение относится к ионным источникам и может быть использовано в масс-спектрометрии для элементного анализа жидкостей и газов, в ионной технологии и т.д
Эмиттер заряженных частиц // 2143766
Изобретение относится к электронике и может быть использовано в качестве источника интенсивных электронных потоков, а также в качестве источника ионов
Эмиттер заряженных частиц // 2143766
Изобретение относится к электронике и может быть использовано в качестве источника интенсивных электронных потоков, а также в качестве источника ионов
Плазменный эмиттер ионов // 2134921
Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации интенсивных ионных пучков с большим поперечным сечением
Плазменный эмиттер ионов // 2176834