Анод
Изобретение относится к области электрохимических производств, в частности к анодам, применяемым для электролиза цинковых растворов. Анод представляет собой титановую основу в виде пластины, которая изготовлена из пористого титана, с нанесенным на нее покрытием из диоксида марганца. При этом пластина имеет толщину от 3 мм и выше и пористость 5 - 29%. Анод, имеющий такую пористость, может использоваться для электролиза цинковых растворов, т. к. при данной пористости повышается адгезия слоя диоксида марганца к основе и прочность слоя покрытия при простом способе изготовления этого анода. 1 табл.
Изобретение относится к области электрохимических производств, а более точно - к анодам, применяемым для электролиза цинковых и других растворов или при производстве электролитного цинка.
Известны аноды, содержащие титановую основу в виде стержня из титанового сплава, на который нанесено покрытие из диоксида марганца любым известным способом: прямым электролитическим осаждением диоксида марганца или термическим разложением раствора, содержащего серную кислоту и сульфат марганца (авт.св. SU N 1713983, кл. C 25 B 11/10, 1989 г.). Наиболее близким к заявляемому объекту по технической сущности и достигаемому техническому результату является анод, описанный в патенте US N 4269691 по кл. C 25 B 11/16, 1981 г. Этот анод содержит титановую основу в виде пластины, изготовленной из пористого титана, толщиной от 3 мм и выше, на которую нанесено покрытие из диоксида марганца, причем этот анод получают смешиванием порошков титана и марганца, последующим прессованием и спеканием и дальнейшим нанесением на основу раствора нитрата марганца с термической обработкой последнего. Эти известные аноды имеют слабую адгезию слоя диоксида марганца к пористой титановой основе. Потенциал анода в течение нескольких суток возрастал до недопустимо большой величины (более 2,5 В). Значительная разница в величинах коэффициента термического расширения титана и диоксида марганца приводила к разрушению слоя диоксида марганца и отслаиванию значительных участков покрытия, что в целом снижало качество анода из-за пассивации титана. Технической задачей предлагаемого изобретения является создание анода, имеющего такую пористую титановую основу, пористость которой позволяет использовать данный анод для электролиза цинковых растворов, а также повышает адгезию слоя диоксида марганца к основе и прочность этого слоя покрытия при простом способе изготовления этого анода. Поставленная задача достигается тем, что в аноде, содержащем титановую основу в виде пластины, изготовленной из пористого титана, толщиной от 3 мм и выше, с нанесенным на нее покрытием из диоксида марганца, согласно изобретению пористость титановой пластины составляет 5 - 29%. Диоксид марганца, кристаллизуясь в начальный период в порах титановой основы, а затем и на поверхности этой основы - пластины, образует прочные связи во всем объеме анода, препятствующие скалыванию внешнего слоя и пассивации анода. Влияние разницы коэффициентов термического расширения диоксида марганца и титана на прочность покрытия значительно снижается за счет того, что внешний рабочий слой диоксида марганца кристаллизуется преимущественно на кристаллах диоксида марганца, вросших в поры титановой основы, которая в данном случае является металлическим каркасом всего анода, сохраняющим прочность изделия на изгиб и растяжение, а также токопроводящим элементом к рабочему объекту диоксидмарганцевого анода. Нижняя граница пористости титановой основы (менее 5%) определяется возможностью изготовления пористой пластины и слабой адгезией диоксида марганца к основе, частыми сколами слоя диоксида марганца. Верхняя граница пористости титановой основы (29%) определяется экономической целесообразностью ввиду того, что повышение пористости титановой основы приведет к повышенному расходу реагентов для создания необходимого слоя диоксида марганца, в то же время повышение пористости титановой основы ведет к снижению прочности на изгиб последней из-за повышения хрупкости пластины и рекомендуется в пределах до 40%. В дальнейшем изобретение будет раскрыто в описании со ссылкой на конкретный пример его реализации. Для изготовления анода использовали пластину толщиной 4,1 мм размером 1100
Формула изобретения
Анод, содержащий титановую основу в виде пластины, изготовленной из пористого титана, толщиной от 3 мм и выше с нанесенным на нее покрытием из диоксида марганца, отличающийся тем, что пористость титановой пластины составляет 5 - 29%.РИСУНКИ
Рисунок 1