Магнетрон цилиндрического типа для напыления внутренней поверхности тела, состоящий из вакуумной камеры, проходного высоковольтного изолятора, катода-мишени, элементов магнитной системы и источников питания, отличающийся тем, что каждый элемент магнитной системы выполнен из набора кольцевых постоянных магнитов со встречными полюсами с соотношением толщины магнитов 1:4: 1, состыкованных через шайбы-концентраторы магнитного поля, выполненные из ферромагнитного материала и толщиной, определяемой из соотношения 6 < h1/h0 < 7, где h0 - толщина шайбы-концентратора магнитного поля; h1 - толщина единичного кольцевого магнита, а на концах каждого элемента магнитной системы установлены шайбы-полюсные наконечники толщиной h1 из ферромагнитного материала.
Похожие патенты:
Изобретение относится к установкам для нанесения покрытия в вакууме
Изобретение относится к микроэлектронной промышленности, стремительное развитие которой требует резкого увеличения производства полуфабрикатов из алюминия особой чистоты (АОЧ) в виде распыляемых мишеней
Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано для изготовления магнитного носителя информации (магнитные ленты и диски)
Изобретение относится к области технологии нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в производстве электрофотографических носителей изображения
Изобретение относится к вакуумной плазменной технологии, предназначено для чистки и напыления на поверхность изделий тонкопленочных защитных или декоративных покрытий и может использоваться в машиностроении, микроэлектронике, легкой и других отраслях промышленности
Изобретение относится к технике нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме и может быть использовано в технологии производства полупроводниковых приборов, поверхностного легирования материалов, нанесения защитных и декоративных покрытий, получения различных пленочных структур
Изобретение относится к плазменной технике и вакуумной технологии нанесения покрытий и направлено на расширение технологических возможностей устройства и улучшение качества наносимых покрытий
Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для изготовления интегральных схем
Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме путем пучково-плазменного распыления
Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки
Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки
Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике
Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок