Способ металлизации полимерной пленки
Использование: область микроэлектроники, нанесение металлического покрытия на полимерную пленку, в частности для производства интегральных схем. Сущность изобретения: способ металлизации полимерной пленки включает химическое травление пленки в подогретой хромовой смеси на основе серной кислоты, нанесение металла вакуумным напылением на поверхность с последующим воздействием ультрафиолетовым излучением плотностью мощности 1,51 J < 6,04 Вт/см2 что повышает прочность покрытия за счет улучшения адгезии металлас полимерной пленкой.
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для нанесения металлического покрытия на полимерную основу, в частности для производства интегральных схем.
Известен способ металлизации полимерной пленки (патент США N 4152192, кл. В 05 D 3/02), включающий нанесение полиамидного лака с последующей сушкой при температуре 120оС в течение 30 мин и частичную имидизацию при температуре 200-275оС (время имидизации 20-30 мин), нанесение металла на поверхность, окончательную имидизацию при температуре 350оС в течение 20 мин. Данный способ прост и эффективен, однако неприемлем при работе с готовыми сформированными полиимидными пленками, так как в описанном способе металлизация включена в процесс формирования пленки. Известен способ нанесения металлических покрытий (Мельникова Н.Б. Талалуев В.Н. Карташов В.Р. Исследование состояния поверхности полиимидных пленок в процессе ее активации сильными основаниями. Поверхность. Физика, химия, механика, 1985, N 11, с. 109-114), включающий травление образцов в хромовокислотной смеси, промывание в растворе моющего средства, затем в воде, этиловом спирте, высушивание, травление в концентрированной гидроокиси натрия в растворе 8,1 моль/л с последующим электрохимическим осаждением меди. Данная химическая обработка образцов перед электрохимическим осаждением хорошо подобрана для меди, однако для трудноадгезионных металлов, например золота, она не дает необходимого сцепления. Наиболее близким к заявляемому является способ металлизации полимерной пленки (Микроэлектронная аппаратура на бескорпусных интегральных микросхемах. Под ред. И.Н.Воженина, М. Радио и связь, 1985, с. 264), заключающийся в обезжиривании полиимидной пленки в четыреххлористом углероде, травлении в подогретой хромовой смеси на основе серной кислоты, нанесении металлического покрытия, термической сушке. Для таких металлов, как медь, хром, никель, данной обработки достаточно для получения удовлетворительного сцепления. Однако нанесение золота, серебра не позволяет получать крепких сцеплений между подложкой и металлом. Целью изобретения является повышение прочности покрытий за счет улучшения адгезии металла с полимером. Цель достигается тем, что в способе металлизации полимерной пленки, включающем химическое травление пленки в подогретой хромовой смеси на основе серной кислоты, нанесение металла на поверхность с последующим отжигом, отжиг осуществляют воздействием ультрафиолетового излучения с плотностью мощности 1,51

Формула изобретения
СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЕНКИ, включающий химическое травление пленки в подогретой хромовой смеси на основе серной кислоты и нанесение металла на поверхность пленки напылением в вакууме с последующим отжигом, отличающийся тем, что отжиг осуществляют воздействием УФ-излучения, плотность J мощность которого выбирают из выражения 1,51
Похожие патенты:
Способ получения износостойкого покрытия // 1779073
Способ нанесения покрытий в вакууме // 1070948
Способ получения аморфного твердого тела // 681982
Патент 340129 // 340129
Способ металлизации пенопласта // 198086
Патент 162740 // 162740
Устройство для охлаждения подложек в вакууме // 2046838
Изобретение относится к способам нанесения покрытий в вакууме и может найти применение для получения покрытий на внутренней поверхности трубчатых изделий, преимущественно с отверстием небольшого размера
Изобретение относится к технологии получения тонких пленок термическим испарением в вакууме и может быть использовано при изготовлении мишеней, предназначенных для ядерно-физических исследований по изучению ядерных реакций, происходящих на ядрах стабильных изотопов под действием ускоренных частиц и ионов
Способ металлизации подложки из фторопласта // 2020777
Изобретение относится к микроэлектронике и направлено на повышение надежности и качества микросхем на подложке из фторопласта преимущественно СВЧ-диапазона и может быть использовано в производстве микросхем ВЧ- и СВЧ-диапазонов (например фильтров, резонаторов и др.)
Изобретение относится к вакуумной технологии получения материалов для нанесения покрытий
Изобретение относится к нанесению покрытий вакуумным испарением и может быть использовано для получения на ленте из цветных металлов и сплавов полосчатых и дискретных покрытий
Способ металлизации кремниевых подложек // 2010032
Испаритель для вакуумных установок // 2000356
Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме, о частности к термическим испарителям для вакуумных установок
Изобретение относится к нанесению тонкопленочных покрытий в вакууме, в частности защитных, износостойких и декоративных покрытий на изделия из различных материалов