Способ исследования микроструктуры образцов эластомеров

 

Изобретение относится к испытаниям материалов. Целью изобретения является повышение чувствительности и упрощение способа. Образец из испытуемого эластомера нагружают одноосным растяжением по деформации 20 - 50%. После этого образец помещают в вакуум и воздействуют в вакууме на него светом с длиной волны 150 - 400 нм. За счет облучения на поверхности образца образуется хрупкий слой. При снятии нагрузки на поверхности образуются микроскладки , шаг которых определяют под микроскопом. По величине шага судят о влиянии света и глубине структурно-измененного слоя.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 G 01 N 17/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3189519/28 (22) 07.01.88 (4б) 07.02.92. Бюл. f+ 5 (71) Научно-производственное объединение

"Молния" (72) А,В.Милинчук, B.Å.Ñêóðàò, Б.И.Хрущ, Ю.И,Дорофеев, B.Â.Ñåäîâ, Н.Н,Юрцев и

М, È. Øòèòåëüìà H (53) 620.192.3 (088.8) (54) СПОСОБ ИССЛЕДОВАНИЯ МИКРОСТРУКТУРЫ ОБРАЗЦОВ ЭЛАСТОМЕРОВ (57) Изобретение относится к испытаниям материалов. Целью изобретения является

Изобретение относится к испытаниям материалов, а именно к способам исследования микроструктуры образцов эластоме-. ров.

Целью изобретения является повышение чувствительности и упрощение способа.

Способ осуществляется следующим образом.

Образец из испытуемого эластомера нагружают одноосным растяжением по деформации 20 — 50/ для придания микромолекулам эластомера осевой направленности. После этого растянутый образец помещают в вакуумную камеру для предотвращения действия на образец активных продуктов фотолиза воздуха при деструктинном воздействии. В камере создают вакуум и воздействуют на образец деструктирующим фактором, а именно ультрафиолетовым излучением в диапазоне волн 150 — 400 нм.

„„ Щ „„1711040 А1 повышение чувствительности и упрощение способа. Образец из испытуемого эластомера нагружают одноосным растяжением по деформации 20 — 50 . После этого образец помещают в вакуум и воздействуют в вакууме на него светом с длиной волны 150 — 400 нм. За счет облучения на поверхности образца образуется хрупкий слой. При снятии нагрузки на поверхности образуются микроскладки, шаг которых определяют под микроскопом. По величине шага судят о влиянии света и глубине структурно-измененного слоя.

Образец облучают в течение оп ределенного промежутка времени, После облучения образец извлекают из камеры и снимают растягивающую нагрузку. 3а счет ультрафиолетового воздействия указанных длин волны происходит фотохимическое воздействие, т.е. поглощение молекулами кванта света и их возбуждение с последующей дезактивацией. При этом образуются макрорадикалы, которые создают дополнительные связи, приводящие к увеличениюжесткости участка поглощения на глубину длины волны света. Жесткость остального объема образца не меняется. При снятии нагрузки образец сжимается. За счет большей жесткости поверхностного деструктирующего слоя он приобретает складчатую микроструктуру. Величина шага складок зависит от влияния и длины волны деструктирующего фактора и свойств материала (чем короче длина света, тем меньше глубина его проникновения и меньше шаг складок). Обра1711040

Составитель Г. Ротницкий

Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор T.Màëeé

Редактор Н. Гулько

Заказ 334 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101 зующиеся складки и их шаг изучаются под микроскопом.

Пример. Резину на основе каучука СКТВ-1 растягивают. до 30% рефоомации.

Помещад т в камеру и создают 5 вакуум 16 мм рт.ci. Облучают его лампой ПРК-4 длиной волны 250 — 400 нм в течение 30 мин, Снимают нагрузку и под, микроскопом с увеличением в 200 раз измеряют величину шага, равную 12 мкм, 10

По этой величине судят о влиянии света и глубине разрушенного структурного слоя.

Формула изобретения

Способ исследования микроструктуры образцов эластомеров, по которому образец нагружают одноосным растяжением до заданной деформации, воздействуют деструктирующим фактором, разгружают и измеряют микроструктуру, о тл и ч а ю щи и с я тем, что, с целью повышения чувствительности и упрощения способа, нагружения производят до деформации 20 — 50, а в качестве деструктирующего фактора используют ультрафиолетовое излучение в диапазоне длин волн 150- 140 нм в вакууме.