Многослойная интерференционная система для дальней инфракрасной области спектра
Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для фильтрации излучения в далекой инфракрасной области спектра. Изобретение позволяет уменьшить коротковолновое фоновое пропускание в многослойной интерференционной системе. Многослойная система содержит чередующиеся слои с высоким nв(1) и низким nн(2) показателями преломления. Слой с низким показателем преломления выполнен из полимерного материала. Один из слоев с высоким показателем преломления выполнен в виде системы слоев (3) с высоким nв1 и низким nн1 показателями преломления. Показатель преломления nв1 в спектральной области >
o меньше, чем в областях
>
o/3 . Оптическая толщина периодов
2 ил.
Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для фильтрации излучения в далекой инфракрасной области спектpа. Цель изобpетения - уменьшение пропускания в коротковолновой области спектpа. На фиг. 1 представлена интерференционная система, общий вид; на фиг. 2 - спектральная зависимость Т = f() для интерференционной системы, выполненной по данному способу. Интерференционная система состоит из чередующихся интерференционных слоев с высоким (В) 1 и низким (Н) 2 показателями преломления, причем по крайней мере один слой с высоким показателем преломления (В*) 3 выполнен не сплошным, а дискретным, состоящим из элементарных слоев с высоким (В` ) 4 и низким (Н` ) 5 показателями преломления образующими многослойную интерференционную систему для коротковолновой области спектра. Работает интерференционная система следующим образом. Излучение с длиной волны
>
о взаимодействует с совокупностью слоев В Н. . . Вкак с одним квазиоднородным слоем 3 с высоким показателем преломления, поэтому для излучения
>
о система представляет собой совокупность чередующихся слоев с высоким (В) и низким (Н) 2 показателями преломления. Излучение с длиной волны 3 взаимодействует с каждым элементарным слоем ВН системы ВН. . . В, в результате производится дополнительное ослабление коротковолнового фонового излучения за счет многократного отражения на границах слое в В, Н. Выполнение элементарного слоя с высоким показателем преломления (В) из германия, а элементарного слоя с низким показателем преломления (Н) из фторида лития позволяет получить для далекой ИК-области спектра
> 50 мкм отношение показателей преломления слоев В/Н
4: 3, а для коротковолновой области спектра
< <15 мкм отношение показателей преломления В/Н
4: 1,35; Такое изменение отношения показателей преломления слоев В/Ндля пары материалов германий - фторид лития связано с тем, что показатель преломления германия в широком спектральном диапазоне
- 2-200 мкм имеет высокое значение n
4, а показатель преломления фтоpида лития меняется от низкого значения n
1,35 для диапазона
2-15 мкм до высокого значения n
3 (по оценкам из спектров отражения) для спектральной области
> 50 мкм. Увеличение показателя преломления у фторида лития в далекой ИК-области спектра
> 50 мкм обусловлено наличием у этого матеpиала сильной полосы поглощения в диапазоне
15-35 мкм (полосы остаточных лучей). Тонкие слои фторида лития достаточно прозрачны для спектрального диапазона
> 50 мкм, что обеспечивает возможность их использования в качестве компонент многослойной интерференционной системы. Рассмотрим практический пример изготовления многослойной интерференционной системы. Пусть необходимо получить структуру с низким пропусканием в области
o
64 мкм и с высоким пропусканием в области
> 2
о. С этой целью изготовим полимер - кристаллическую интерференционную чертвертьволновую систему с
1
64 мкм. Брали пленку фторопласта оптической толщины 16 мкм. На одну сторону наносили термическим испарением в вакууме слой германия оптической толщины 16 мкм, а на вторую сторону - 9-слойную систему ВНВНВН ВНВ, элементарные интерференционные слои которой В и Н выполнены соответственно из германия и фторида лития и имеют оптическую толщину 1,15 мкм каждый для области спектра
= 4,6 мкм. Геометрическая толщина элементарного слоя Ндля
= 4,6 мкм равна 1,15/1,35 мкм. Для области спектра 64 мкм показатель преломления фторида лития nLif - 3. Следовательно, оптическая толщина элементарного слоя Вдля
64 мкм составит 3,45/1,35 -2,56 мкм. Поскольку показатель преломления германия в широком спектральном диапазоне
= 2-200 мкм имеет одинаковое высокое значение n
4, то оптическая толщина элементарного слоя Вдля
64 мкм составит 1,15 мкм. Для оценки общей оптической толщины слоя ВНВН ВНВНВвоспользуемся методом аддитивного сложения оптических толщин слоев В и Н. Это дает суммарную оптическую толщину 16 мкм, т. е. 9-слойную четвертьволновую для
= 4,6 мкм систему ВНВНВНВН НCre - Lif можно считать с достаточным приближением четвертьволновым слоем с высоким показателем преломления для
64 мкм. (56) Авторское свидетельство СССР N 461398, кл. G 02 B 5/20, 1975. Авторское свидетельство СССР N 1275346, кл. F 02 B 5/28, 1986.
Формула изобретения
1. МНОГОСЛОЙНАЯ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННАЯ СИСТЕМА ДЛЯ ДАЛЬНЕЙ ИНФРАКРАСНОЙ ОБЛАСТИ СПЕКТРА, состоящая из чередующихся слоев с высоким nв и низким nн показателями преломления, причем слои с низким показателем преломления выполнены из полимерного материала, а оптическая толщина периода














РИСУНКИ
Рисунок 1, Рисунок 2