Фотополимеризующаяся композиция

 

Изобретение относится к волоконной оптике, в частности к фотополимеризующейся композиции для защитно-упрочняющего покрытия световодов. С целью повышения адгезии, водостойкости, деформационно-прочностных свойств и скорости отверждения, композиция имеет следующее соотношение компонентов, мас. ч.: эпоксиакриловый олигомер 100; 1-метакриловый - -3[4-(2,3-эпокси) пропоксибензойный] эфир глицерина 10-45; 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 2-4. Композиция: позволяет повысить скорость фотополимеризации в 5-15 раз, адгезию - в 5-9 раз, водостойкость в 2 раза, прочность при разрыве в 2-3 раза, удленение при растяжении в 1,5-2 раза при сохранении температуры стеклования на уровне известной композиции. 2 табл. Структура олигомера (см. ниже), где n=3.

Изобретение относится к волоконной оптике и может найти применение в качестве защитно-упрочняющего покрытия оптического волокна. Цель изобретения повышение адгезии, деформационно-прочностных свойств, водостойкости и скорости отверждения композиции. П р и м е р 1. Используемый в композиции в качестве адгезионной добавки 1-метакриловый 3[4-(2,3-эпокси)пропоксибензойный]эфир глицерина (МЭГ) получают следующим образом. Синтез ведут в четырехгорлой колбе, снабженной мешалкой, обратным холодильником, термометром и капельной воронкой. В колбу загружают 1 моль (246,2 г) эпоксидной смолы УП-671 (ТУ 6-05-241-312-85) и нагревают до 95-100оС, вводят ингибитор полимеризации метакриловой кислоты гидрохинон (0,02%), затем вводят 1 моль (86 г) метакриловой кислоты (ОСТ 6-01-226-78). Синтез проводят при 100оС в течение 6-7 ч. Контроль за протеканием реакции осуществляют по изменению кислотного числа, которое к концу реакции равно 0. Готовый продукт представляет собой смолообразное вещество янтарного цвета со следующими характеристиками: 25 1236 кг/м3, 25 8,1 Па.с, nD25 1,5384, мол. м. 336,34. Выход составляет 318 г, т.е. 95,8% Найдено, С 60,65; Н 5,95; О 33,29. Вычислено, С 57,0; Н 6,8; О 35,16. П р и м е р 2. В трехгорлую колбу, снабженную мешалкой, термометром и обратным холодильником, загружают 100 мас.ч. эпоксиакрилата ЭАС-655, 10 мас. ч. адгезионной добавки МЭГ и 4 мас.ч. 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона (ДМФА, ТУ 6-09-14-2142-83) фотоинициатора ДМФА. Перемешивают смесь в течение 0,5 ч при 55-60оС и фотополимеризуют по методике, описанной выше. Аналогично получают композицию с другим содержанием МЭГ. Примеры 3-6 приведены в табл. 1 и 2. П р и м е р 7 и 8. Фотополимеризующуюся композицию получают в условиях примера 2, только с запредельным содержанием МЭГ (5 и 55 мас.ч.). П р и м е р 9. Фотополимеризующуюся композицию получают в условиях примера 2, только МЭГ берут в количестве 45 мас.ч. в ДМФА в количестве 3 мас.ч. Аналогично получают композицию с содержанием ДМФА 2 мас.ч. и с запредельным содержанием его (1 и 5 мас.ч. примеры 10-12). П р и м е р 13. Фотополимеризующуюся композицию получают в условиях примера 2, только без адгезионной добавки МЭГ. П р и м е р 14 (по прототипу). Фотополимеризующуюся композицию получают в условиях примера 2, только без адгезионной добавки (МЭГ) и в присутствии фотоинициатора изопропилового эфира бензоина (ИПЭБ) в количестве 4 мас.ч. Свойства композиции, полученной по всем примерам и прототипу, приведены в табл. 1 и 2. Испытание композиции осуществляют путем нанесения на стеклянную подложку ровным слоем толщиной 70-100 мкм с последующим облучением ее полным спектром ртутно-кварцевой лампы ДРТ-1000, расположенной на расстоянии 5 см от поверхности пленки. Вязкость и показатель преломления композиции определяют по ГОСТ 10587 и ГОСТ 19927-74 соответственно. Адгезию композиции к стеклу (Ад) определяют прочностью при отслаивании по ГОСТ 15140-78. Прочность при разрыве ( ) и относительное удлинение ( ) при растяжении пленок определяют по ГОСТ 14236-81. Температуру стеклования (Тст) рассчитывают по температурной зависимости модуля упругости при растяжении пленок (термомеханический метод, по методике заявителя). Предельное водопоглощение (M ) полимеров за 24 ч определяют гравиметрически. Скорость фотополимеризации композиции оценивают по времени облучения до потери липкости пленки ( , с). Как видно из данных табл. 1 и 2, композиция позволяет по сравнению с прототипом повысить скорость фотополимеризации в 5-15 раз, адгезию в 5-9 раз, водостойкость в 2 раза, прочность при разрыве в 2-3 раза, удлинение при растяжении в 1,5-2 раза при сохранении температуры стеклования на уровне базового образца. Полученные результаты дают возможность улучшить качество полимерного покрытия, повысить срок службы световодов и производительность труда при изготовлении изделий. Отклонение от предлагаемого состава (10-45 мас.ч.) содержания в копозиции адгезионной добавки МЭГ (контрольные примеры 7 и 8, см. табл. 1 и 2) приводит к ухудшению адгезии и деформационно-прочностных свойств, а в примере 8 еще и наблюдается снижение скорости фотополимеризации в 2 раза. Отклонение от предлагаемого состава (2-4 мас.ч.) содержания фотоинициатора в композиции приводит либо к снижению скорости фотополимеризации в 4 раза (см. пример 11 в табл. 1 и 2), либо к ее запределиванию (см. пример 12 в табл. 1 и 2).

Формула изобретения

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ для защитно-упрочняющего покрытия световодов, включающая эпоксиакриловый олигомер общей формулы I где n 3(мол.м. 552), адгезионную добавку и фотоинициатор, отличающаяся тем, что, с целью повышения адгезии, водостойкости, деформационно-прочностных свойств и скорости отверждения композиции, она в качестве адгезионной добавки содержит 1-метакриловый 3-[4-(2,3-эпокси)пропоксибензойный]эфир глицерина формулы II и в качестве фотоинициатора 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон при следующем соотношении компонентов, мас.ч. Эпоксиакриловый олигомер формулы I 100 1-Метакриловый 3-[4-(2,3-эпокси)пропоксибензойный]эфир глицерина формулы II 10 45 2,2-Диметокси-2-фенилацетофенон 2 4

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способу получения фотополимерных форм для высокой печати

Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся композиции, которая используется для получения защитных рельефных изображений при производстве печатных плат в радио- и электротехнической промышленности

Изобретение относится к технологии микроэлектроники

Изобретение относится к способу проявления фотополимерных печатных форм

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в литографических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к способу изготовления картоиздательской маски при получении фотоформ фоновых элементов карт

Изобретение относится к фотозащитным покрытиям в электронной промышленности, в частности к созданию защитной маски для нанесения локальных гальванических покрытий и при проведении пайки волной припоя в технологии изготовления печатных плат методом трафаретной печати

Изобретение относится к полиграфической промышленности и позволяет повысить качество штампа путем снижения величин остаточной и относительной деформаций сжатия печатающих элементов

Изобретение относится к способу формирования защитного слоя резиста и устройству для его осуществления и позволяет повысить качество защитного слоя путем исключения внутренних напряжений и уменьшения его дефектности

Изобретение относится к полиграфической промышленности и позволяет упростить способ и повысить охрану окружающей среды при одновременном сохранении репродукционных и печатно-технических свойств формы

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх