Устройство для формирования опорной линии

Авторы патента:

G02B27/20 - для быстрого указания объектов, например световые указки

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может быть использовано при контроле профилей различных объектов в машиностроении, геодезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей. Устройство содержит лазер 1 и дифракционную решетку 2, расположенную на оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикулярно плоскости, проходящей через эту ось и центр О формируемой опорной линии 4. При этом штрихи решетки 2 параллельны этой плоскости и составляют с осью 3 угол α, тангенс которого равен отношению заданного радиуса R кривизны формируемой опорной линии 4 к расстоянию L от решетки 2 до заданной плоскости формирования линии 4 вдоль оси 3. Благодаря такому выполнению расширяются функциональные возможности устройства путем формирования опорной линии с произвольным радиусом R кривизны. При выполнении решетки на частично отражающей подложке формируется линия замкнутого контура. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

,.SU„„1569 6

СООЗ СОВЕТСКИХ

РЕСГ1УВ ЛИК

А1 рО5 С 02 В 5/18 ° 27/20

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

Я) ИЗОБРЕТЕНИЯМ И (ЛНРЫТИЯМ

APM ГКНТ СССР (21) 4478581/24-10 (22) 30.08.88 (46) 07.06.90. Бюл. !! 21 (7l) Научно-исследовательский институт прикладной геодезии (72) В.И.Юрлов и А.С.Писарев (53) 535.853.31(088 ° 8) (56) Авторское свидетельство СССР

Ф 1283530, кл. С 01 С 9/06, 15.01.87.

Авторское свидетельство СССР

В 1394194, кл. G 02 В 27/20, 27.06.88. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ОПОРНОЙ ЛИНИИ (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано при контроле профилей различных объектов в машиностроении, геодезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей. Уст" ройство содержит лазер 1 и дифракци2 онкую решетку 2, расположенную Hà оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикулярно плоскости, проходящей через эту ось и центр 0 Формируемой опорной линии 4. При этом штрихи решетки 2 параллельны этой плоскости и составляют с осью 3 угол

c(, тангенс: которого равен отношению заданного радиуса R кривизны формируемой опорной линии 4 к расстоянию L от решетки 2 до заданной плоскости формирования линии 4 вдоль оси

3. Благодаря такому выполнению рас- . ширяются. Функциональные возможности устройства путем Формирования опорной линии с произвольным радиусом R кривизны. При выполнении решетки на частично отражающей подложке Формируется линия замкнутого контура, 1 з.п.ф-лы, 2 ил.

1569766

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано при контроле профилей раз личных объектов в машиностроении, геоР дезии, самолетостроении, судостроении или при прокладке тоннелей.

Цель изобретения вЂ” расширение

Функциональных возможностей путем ФорМирования опорной линии с произвольным радиусом кривизны, а также Фор 1ирование опорной линии замкнутого контура.

На Фиг. 1 представлена схема устройства и ход лучей в нем; Hà Фиг.2вЂ”

i î же, при выполнении решетки на частично отражающей подложке.

Устройство содержит лазер 1 и дифракционную решетку 2, расположенную на оптической оси 3 лазера 1 и ориентированную перпендикулярно плоскоСти, проходящей через эту ось и центр

0 Формируемой опорной линии 4. При

Этом штрихи решетки 2 параллельны .

Этой плоскости и составляют с осью 3 25 угол с, определяемый нз соотношения

tg М= вЂ” s (1)

L где К вЂ” заданный радиус кривизны

Формируемой опорной линии 4, 30 расстояние от решетки 2 до заданной плоскости формирования линии 4 вдоль оси 3.

Решетка 2 может быть выполнена на частично отражающей подложке (Фиг,2)

Устройство рабî raeт следующим обвЂ” разом.

Результирующие дифракционные мак..симумы формируются на пересечении окружности с прямыми и образуют опор- 40 .ную кривую линию 4 в.виде дуги окружности радиусом

R,= L t.g (2)

Данная линия высвечивается на конт-45 ролируемои объекте 5 в виде дискретных световых точек, соответствующих максимумам дифракции. Контроль профиля объекта 5 может производиться визуалвно или автоматически. В последнем случае на объекте в точках дифракционных максимумов должны быть установлены позиционно-чувствительные Фотоприемники, связанные с объектом и подключенные к системе обработки данных. В соответствии с выражением (2) радиус дуги R может быть установлен путем выбора соответствующего угла o(наклона решетки 2 и расстояния L может лежать в пределах от нуля до бесконечности.

При необходимости объект 5 может быть наклонен в плоскости $0Z при этом Формируется дуга эллипса, причем максимальная величина дуги (Фиг.1) может доходить до половины окружности (эллипса).

Кроме того, возможно формирование линии замкнутого контура вЂ” эллипса или окружносги (фиг.2). Для этого решетка 2 должна быть выполнена на частично отражающей подложке. При этом наряду с максимумами прошедшего светового пучка появляются максимумы отраженного пучка„ причем отраженные максимумы Формируются точно таким же образом, как описанные проходящие максимумы, и располагаются симметрично к ним относительно плоскости, проходящей через плоскость решетки 2. Прошедп|ие максимумы формируют половину дуги окружности (или эллипса), а отраженные максимумывЂ” дугу окружности (или эллипса), дополняющую первую дугg до замкнутого КоН тура, повторяющего форму объекта 5.

Для изменения степени эллиптичности формируемого KoHòóðî опт-Ркт можФ но наклонять в ту или другую сторону. в плоскости > OZ. Лри установке объекта 5 первендикулярно плоскости решетки 2 Формируемый замкнутый контур практически совпадает с окружностью. ч о р м у л а и з о б р е т е н и я

Ус гройство для Формирования опорной линии, содержашее лазер н дифракционную решетку, расположенную на оптической оси лазера, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью расширения функциональных возможвос гей за счет Формирования опорной линии с произвольным радиусом кривизны, дифракционная решетка ориентирована перпендикулярно плоскости, проходящей через оптическую ось лазера и центр формируемой опорной линии, а штрихи решетки параллельны этой плоскости н составляют с оптической осью лазера угол с(, определяемый из соотношения

tg = вЂ”, Ь где К вЂ” заданный радиус кривизны фор. мируемой опорной линии; расстояние от решетки до заСоставитель В. Кравченко

Техред Л. Сердюкова Корректор Т.Палий

Редактор И. Дербак

Заказ 1447 Тира 465 Подписное

BHHHIIH Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Иосква, Ж-35, .Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина, 1О!

5 )569766 6 данной плоскости формирова- ч а ю щ е е с я, тем что с цель ния опорной линии вдоль опти- формирования опорной линии замкнуточеской оси лазера. ro контура, решетка вьитолнена на

2. Устройство по и, 1, о т л ивЂ” частично отражающей подложке.

Устройство для формирования опорной линии

Изобретение относится к технике оптического приборостроения и может быть использовано для нанесения микроскопических шкал, нониусов и т.д

Способ изготовления вогнутых дифракционных решеток // 1524708

Способ определения длины волны в максимуме концентрации энергии дифракционной решетки // 1497605

Изобретение относится к области оптического спектрального приборостроения

Отражательная дифракционная решетка // 1374166

Изобретение относится к оптическо 1у приборостроению и позволяет увеличить дисперсию решетки без уменьшения ширины ее рабочей области спектра

Вогнутая дифракционная решетка // 1364028

Нарезная вогнутая дифракционная решетка // 1362295

Способ записи метрологических голографических решеток // 1327037

Изобретение относится к прецизи онной измерительной технике и позволяет повысить точность записи и уве8 личить размеры записываемой решетки

Дифракционная решетка // 1318965

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет увеличить спектральный диапазон работы путем изменения угла блеска

Вогнутая дифракционная решетка // 1287087

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет увеличить светосилу в рабочей области спектра путем обеспечения заданного положения спектрального максимума концентрации энергии

Дифракционная решетка и способ ее изготовления // 1287086

Изобретение относится к спектральным приборам и позволяет использовать дифракционную решетку в качестве фазовой в инфракрасном диапазоне и уменьшить ее период

Устройство для позиционирования листа на рольганге перед обрезным инструментом // 1394194

Изобретение относится к оптическим средствам разметки, определения положения или направления изделия в пространстве

Фотоэлектрический датчик положения // 997066

Оптическая система для юстировки // 1603332

Изобретение относится к электротехнической промышленности и может быть использовано в технике и медицинской практике для точного наведения пучка рентгеновских лучей при помощи оптической системы на определенную точку исследуемого объекта

Устройство для указания объектов или направления // 1612272

Изобретение относится к устройствам для указания объектов или направления на объекты, а более конкретно к устройствам типа указок или жезлов

Лазерный целеуказатель // 2523612

Изобретение относится к аппаратуре для лазерного целеуказания и дальнометрии. Лазерный целеуказатель содержит канал лазерного целеуказания, электронную аппаратуру управления мощностью (энергией) лазера канала лазерного целеуказания и канал лазерного дальнометрирования. Каналы лазерного целеуказания и дальнометрирования конструктивно выполнены таким образом, что оси пучков лазерного излучения параллельны между собой. Выход канала лазерного дальнометрирования соединен с входом электронной аппаратуры управления мощностью (энергией) лазера канала лазерного целеуказания. Выход электронной аппаратуры управления мощностью (энергией) лазера канала лазерного целеуказания соединен с входом канала лазерного целеуказания. Электронная аппаратура управления мощностью (энергией) лазера канала лазерного целеуказания при обработке сигнала, поступившего из канала лазерного дальнометрирования, обеспечивает выполнение определенных условий: плотность мощности (энергии) лазерного излучения в зоне облучаемого объекта не превысит уровень, при котором возможно вредное и опасное воздействие на человека лазерного излучения. 2 ил.

Дифракционная решетка для ультрафиолетового и рентгеновского излучения // 2104567

Отражательная дифракционная решетка // 2105274

Изобретение относится к области спектрального приборостроения

Способ изготовления металлических копий дифракционных решеток и голограмм-матриц // 2112254

Способ получения отражательных голограмм (варианты) // 2125284

Изобретение относится к голографии и может быть использовано для перевода многоракурсных стереоскопических фотоизображений объектов в голографические

Светофильтр оптического излучения переменной плотности // 2137163

Дисплей (варианты), матрица элементов (варианты), дифракционный пропускающий дисплей, дифракционный отражающий дисплей и способ получения дифрагированного излучения // 2143716

Изобретение относится к дисплеям, а конкретнее к дифракционным дисплеям (отражающим или пропускающим), в которых за счет нового метода, использующего дифракцию, каждый пиксел характеризуется полным диапазоном длин волн дифрагированного света (например, образует полную гамму цветов)