Жидкометаллический источник ионов

 

Жидкометаллический источник ионов, содержащий острийный эмиттер, экстрактор в виде диафрагмы с отверстием, соосным эмиттеру, соединенные с источником высокого напряжения, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса источника, диафрагма экстрактора снабжена со стороны эмиттера осесимметричным кольцевым выступом, заканчивающимся острийной кромкой, при этом длина выступа 3 - 10 мм, а диаметр кромки 3 мм.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к источникам ионов, основанных на принципе поверхностной ионизации, и может быть использовано в электронной технологии

Изобретение относится к устройствам для получения ионных пучков и управления ими

Изобретение относится к ускорителям заряженных частиц и может быть использовано при разработке термоядерных реакторов и установок на их основе

Изобретение относится к области технической физики и техники применения источников отрицательных ионов
Изобретение относится к эмиссионной электронике и может быть использовано в технологии и экспериментальной технике

Изобретение относится к источникам ионов для масс-спектрометрии и может быть использовано для микроопределения изотопного состава микро- 1троб в технологии переработки радиоактивного топлива

Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано при разработке источников ионов

Изобретение относится к устройствам для получения нейтрализованных пучков ионов различных газов, включая химически активные, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме

Изобретение относится к методам получения нейтрализованных пучков заряженных частиц, их формирования, транспортировки и сепарации и может быть использовано в ионно-пучковых технологиях для ионной имплантации, обработки и модификации поверхностей, нанесения покрытий, для разделения изотопов, нагрева плазмы в ловушках для управляемого термоядерного синтеза и др
Изобретение относится к поверхностно-плазменным источникам отрицательных ионов, а именно к способам получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках, и может быть использовано в ускорителях заряженных частиц или устройствах для осуществления термоядерного синтеза

Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью

Изобретение относится к газоразрядной плазменной технике и технологии, в частности к устройствам генерации низкотемпературной газоразрядной плазмы в больших объемах

Изобретение относится к ионно-оптическим ускорителям ионов и может быть использовано в ионных двигателях

Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для получения мощных, высокооднородных пучков ленточной геометрии

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках
Наверх