Жидкометаллический источник ионов
Жидкометаллический источник ионов, содержащий острийный эмиттер, экстрактор в виде диафрагмы с отверстием, соосным эмиттеру, соединенные с источником высокого напряжения, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса источника, диафрагма экстрактора снабжена со стороны эмиттера осесимметричным кольцевым выступом, заканчивающимся острийной кромкой, при этом длина выступа 3 - 10 мм, а диаметр кромки 3 мм.
Похожие патенты:
Источник ионов с поверхностной ионизацией // 1473724
Изобретение относится к источникам ионов, основанных на принципе поверхностной ионизации, и может быть использовано в электронной технологии
Источник ионных пучков // 1463051
Изобретение относится к устройствам для получения ионных пучков и управления ими
Изобретение относится к ускорителям заряженных частиц и может быть использовано при разработке термоядерных реакторов и установок на их основе
Способ получения отрицательных ионов // 1421174
Изобретение относится к области технической физики и техники применения источников отрицательных ионов
Способ получения пучка ионов цезия // 1412516
Изобретение относится к эмиссионной электронике и может быть использовано в технологии и экспериментальной технике
Источник многозарядных ионов // 1380522
Источник ионов // 1308091
Изобретение относится к источникам ионов для масс-спектрометрии и может быть использовано для микроопределения изотопного состава микро- 1троб в технологии переработки радиоактивного топлива
Источник ионов // 1269688
Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано при разработке источников ионов
Источник ионов // 1245152
Изобретение относится к устройствам для получения нейтрализованных пучков ионов различных газов, включая химически активные, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме
Источник ионов дуоплазматрона // 1233714
Изобретение относится к методам получения нейтрализованных пучков заряженных частиц, их формирования, транспортировки и сепарации и может быть использовано в ионно-пучковых технологиях для ионной имплантации, обработки и модификации поверхностей, нанесения покрытий, для разделения изотопов, нагрева плазмы в ловушках для управляемого термоядерного синтеза и др
Изобретение относится к поверхностно-плазменным источникам отрицательных ионов, а именно к способам получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках, и может быть использовано в ускорителях заряженных частиц или устройствах для осуществления термоядерного синтеза
Плазменный эмиттер ионов // 2110867
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью
Изобретение относится к газоразрядной плазменной технике и технологии, в частности к устройствам генерации низкотемпературной газоразрядной плазмы в больших объемах
Рамочный электрод // 2118868
Изобретение относится к ионно-оптическим ускорителям ионов и может быть использовано в ионных двигателях
Устройство для получения пучка ионов // 2119208
Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для получения мощных, высокооднородных пучков ленточной геометрии
Источник многокомпонентных атомарных потоков // 2119730
Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок
Газоразрядное устройство // 2121729
Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках
Газоразрядное устройство // 2121729
Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках