Источник многозарядных ионов

 

Источник многозарядных ионов, включающий инжектор форплазмы, ступени наработки многозарядных ионов, систему экстракции ионов, отличающийся тем, что, с целью увеличения выхода многозарядных ионов путем снижения их потерь, ступени наработки многозарядных ионов расположены с двух сторон инжектора форплазмы, причем ступени наработки многозарядных ионов выполнены сообщающимися и введен многоканальный сепаратор ионов по удельному заряду, а каждая пара соседних каналов сепаратора имеет общий магнит.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к источникам ионов для масс-спектрометрии и может быть использовано для микроопределения изотопного состава микро- 1троб в технологии переработки радиоактивного топлива

Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано при разработке источников ионов

Изобретение относится к устройствам для получения нейтрализованных пучков ионов различных газов, включая химически активные, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме

Изобретение относится к устройствам электронно-ионно-лучевой технологии, в частности к газоразрядным устройствам для поточной ионной обработки проволочных материалов

Изобретение относится к устройствам для получения ионных пучков с большим поперечным сечением и может быть использовано для различных технологических операций на базе ионно-лучевой обработки материалов в вакууме

Изобретение относится к плазменным ускорителям и может быть использовано при разработке устройств для получения плазменных потоков в различных областях техники

Изобретение относится к методам получения нейтрализованных пучков заряженных частиц, их формирования, транспортировки и сепарации и может быть использовано в ионно-пучковых технологиях для ионной имплантации, обработки и модификации поверхностей, нанесения покрытий, для разделения изотопов, нагрева плазмы в ловушках для управляемого термоядерного синтеза и др
Изобретение относится к поверхностно-плазменным источникам отрицательных ионов, а именно к способам получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках, и может быть использовано в ускорителях заряженных частиц или устройствах для осуществления термоядерного синтеза

Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью

Изобретение относится к газоразрядной плазменной технике и технологии, в частности к устройствам генерации низкотемпературной газоразрядной плазмы в больших объемах

Изобретение относится к ионно-оптическим ускорителям ионов и может быть использовано в ионных двигателях

Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для получения мощных, высокооднородных пучков ленточной геометрии

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках

Изобретение относится к плазменной технике и может использоваться для генерации потоков заряженных частиц, например ионов, в технологических целях и в космических двигательных установках
Наверх