Травильный раствор

 

Изобретение относится к технике травления стекла и может быть использовано при вытравливании рисунка на стеклянных подложках методом фотолитографии. С целью повышения качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисунка травильный раствор включает, мас.%: H<SB POS="POST">2</SB>SO<SB POS="POST">4</SB> 12-13

HNO<SB POS="POST">3</SB> 10-11

NH<SB POS="POST">4</SB>F 23,5-24

H<SB POS="POST">2</SB>O остальное. Применение раствора обеспечивает максимальную глубину рисунка без искажений при использовании в качестве маски тантала или титана 8,1 мкм

неравномерность края рисунка 1-1,3 мкм и величину шероховатости 0,15-0,25 мкм.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

<59 4 С 03 С 15/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4284200/23-33 (22) 13,07,87 (46) 30,09,89. Бюп. N - 36 (72) К,С,Золотухин и С,В,Павлов (53) 666,1,053,63(088.8) (56) Заявка ФРГ Ф 2541205, кл С 03 С 1 5/00 у опубликр 1 976у

Авторское свидетельство СССР

Р 1159905, кл, С 03 С 15/00, 1984, (54) ТРАВИЛЬНЫЙ РАСТВОР (57) Изобретение относится к технике травления стекла и может быть использовано при вытравливании рисунка на

Изобретение относится к технике травления стекла и может быть использовано при вытравливании рисунка на стеклянных подложках методом фотолитогр афин, Цель изобретения — повышение качества травления за счет увеличения глубинй и снижения неравномерности края рисунка, Пример 1, На подложках из натрий-кальциевого стекла ионно-плазменным методом напыля!от пленку тантала толщиной 0,5 мкм, 11етодом фотолитографии формируют рисунок, через который стекло травят в течение 3 мин в растворе, содержащем, мас. K:

HySO (987-ный раствор) 12,0

NHyF 23,5

HN0 (657-ный раствор) j1 0 .Н,о 53,5

Глубина .вытравленной структуры составила 11,4 мкм, т,е, скорость

„„Я0„„1511229 A1

2 стеклянных подложках методом фотолитографии, С целью повышения качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисун— ка травильный раствор включает, мас;Е:

Н SO 12-13; HNO3 10-11; БН Р 23,5-24;

Е! Π— остальное. Применение раствора обеспечивает максимапьную глубину рисунка беэ искажений при использовании в качестве маски тантала или титана

8, 1 мкм; нерав! .:::ерность края рисунка 1-1,3 мкм и величи у шероховатости О, 1)-0,?5 мкм. травления равна 3,8 мкм/мин, при этом шероховатость поверхности в углублениях равна 0,15 мкм.

Пример 2, В травильном растворе состава, мас„Х:

H

NI-; F 23.5 навоз 10,0

H„0 54,5 скорость травления стек=а с=ставляет

3,5 мкм/мин, шероховатость края не превышает 1 мкм, используемый в ка-. честве маски фоторезист начинает отслаиваться через 140 с, т, е, максимальная глубина вытравленного рисунка без искажений составляет 8, 1 мкм.

П р и м е .р 3, В травичьном раст", воре, Содержащем в своем составе. мас,Ж:

Н Вс 13,0

ИН Р 24,0 ныо, 11 0

Н 0 52,0 скорость травления, стекла составляет

1511229 в целом, соотношения компонентов подобраны таким образом, что поверхность стекла в, вытравленных углублениях имеет вышеуказанную шероховатость, Формула изобретения

Составитель О,Самохина

Редактор Т.Лазоренко Техред N.Äèäûê КоРРектоР О„Кравцова

Заказ 5858/26

Тираж 418

Подписное

SHHHIIH Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Рауновская наб, д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.Ужгород, ул. " àãàðèíà,, 101

4,0 мкм/мин, шероховатость равна

0,15 мкм, неравномерность краев рисунка не превышает 1,3 мкм, Используемый в качестве маски фоторезист начинает отслаиваться через

90 с, т,е, максимапьная глубина выть . равленного рисунка составляет 6.мкм, Применение в качестве маски пленок тантала или титана способствует улуч-10 шению качества формируемого рисунка за счет уменьшения величины подтрава и количества дефектов типа "прокол", что обусловпено значительно более высокими адгезией металлических пле- 15 нок к стеклу и устойчивостью этих пленок к используемому травильному раствору.

Введение в состав травильного раст 7о вора азотной кислоты предотвращает o6=0 разование плохорастворимых сульфатов

Травипьный раствор,, включающий

Н SO, HN03„ Н О, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисунка, он дополнительно содержит NH Р при следующем соотношении компонентов, мас.F.:

Н SO. 12-13

HN0ç 10-11

NH F 23,5-24 «0

Н,О Остальное

Травильный раствор Травильный раствор 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике травления стекла и может быть использовано при вытравлении рисунка на подложках из стекла

Изобретение относится к обработке поверхности стекла для улучшения его свойств

Изобретение относится к травильным растворам для матирования поверхности стекла, применяемым в стекольном производстве

Изобретение относится к технологии обработки оптических деталей и может быть использовано в оборонной и электронной промышленности

Изобретение относится к технологии оптического производства в оптикомеханической и электронной промьшшенности

Изобретение относится к технологии обработки оптических деталей и может быть использовано для обеспечения технологического процесса химического прецизионного травления и полирования оптических деталей сложной формы из стеклокристаллических материалов

Изобретение относится к стекольной промышленности и может быть использовано для получения матированных светорассеивающих изделий

Изобретение относится к обработке стеклоизделий в травильных растворах и может быть использовано в стекольной пром 1шленности при полировке изделий
Изобретение относится к химическому удалению тонкослойных покрытий германий-моноокись кремния с поверхности арсенидов индия и галлия и может быть использовано в оптико-механической и радиоэлектронной промышленности в технологии изготовления оптических деталей, в частности интерференционных фильтров и полупроводниковых изделий интегральных микросхем, для замены механического способа удаления отбракованных покрытий химическим травлением

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее
Изобретение относится к обработке стекловолокнистых нитей, в частности к изготовлению микроканальных пластин МКП, и может быть использовано в электронно-оптических преобразователях
Изобретение относится к технологии обработки стекла и изделий из него для получения декоративного эффекта в виде матового рисунка

Изобретение относится к технологии изготовления макропористых стекол оптического качества из натриевоборосиликатного стекла типа ДВ-1 и может быть использовано для создания объемных микрогетерогенных сред как элементной базы в системах записи, хранения и обработки информации, в волоконно-оптических системах передачи информации, в голографии и лазерной технике
Изобретение относится к составам растворов, применяемых для полировки изделий из стекла
Изобретение относится к составам травильных растворов для обработки поверхности стекла, нанесения на нее маркировочных обозначений, рисунков и другого
Изобретение относится к составам травильных растворов, используемых в стекольной промышленности
Изобретение относится к составам растворов для травления стекла
Наверх