Способ изготовления мелких легированных слоев кремния и контактов к ним

Способ изготовления мелких легированных слоев кремния и контактов к ним, включающий ионную имплантацию примеси и кремний, постимплантационный отжиг, нанесение пленки силицидообразующего металла и термический нагрев, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрофизических свойств n-p-переходов за счет формирования мелких n-p-переходов в бездефектной области кремния, пленку силицидообразующего металла наносят толщиной от где R_p - проецированная длина пробега ионов примеси; R_p - рассеяние величины проецированного пробега ионов примеси; - величина, численно равная толщине слоя кремния, приходящейся на единицу толщины пленки металла при формировании силицида, а термический нагрев осуществляют при температуре 473 - 673К.