Устройство для определения угловых зависимостей параметров ионного распыления

Авторы патента:

H05H1 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

(19)SU(11)1258301(13)A1(51) МПК ⁵ _H05H1/00(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина:

(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ УГЛОВЫХ ЗАВИСИМОСТЕЙ ПАРАМЕТРОВ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Изобретение относится к ионноплазменной технологии и может быть использовано для определения зависимостей различных параметров, характеризующих процесс распыления, от угла падения ионов на поверхность распыляемой мишени, например, для определения угловой зависимости скорости распыления материала мишени. Целью изобретения является повышение точности и скорости измерений. На чертеже изображено предлагаемое устройство. Устройство содержит источник (не показан) ионного потока 1 и мишень 2, выполненную в виде многогранника. Одна из граней многогранника So установлена по нормали к потоку 1 ионов. Эта грань может быть выбрана в качестве базовой. Остальные грани P₁, P₂, P₃, P₄ и т.д. имеют по крайней мере одну общую точку с гранью So. Например, грани P₁ и P₂ имеют такую точку O₁₂, а грани P₃ и P₄ - точку O₃₄. Внешние нормали к граням P₁, P₂, P₃ Р₄ соответственно , , , образуют с внешней нормалью к поверхности S_o углы ₁, ₂, ₃, ₄ заключенные между 0 и 90^о. Устройство работает следующим образом. Включают источник потока 1 ионов и мишень 2 вводят в поток. После определенного времени экспозиции мишень выводят из потока, извлекают и проводят измерения унесенного материала с граней P₁...P₄ в окрестностях точек O₁₂ и O₃₄, общих с базовой гранью S_o, а также с самой этой грани, получая таким образом, величину параметра потока распыления в зависимости от угла падения ионов. Данное устройство позволяет путем одновременного экспонирования граней с различными углами по отношению к потоку исключить погрешности, связанные с нестабильностью параметров потока ионов во времени и повысить скорость измерения, а проведение измерений вблизи общих точек с базовой поверхностью позволяет снизить погрешность измерений из-за пространственной неоднородности потока. (56) C.M.Melliar-Smith "Linetching for pattenn delineation". Journal of vacuum Scienek technology, vol 13, N 5, 1976, p. 1008-1022. T. C. Tisone, P. D.Cruzan. Low-voltage triode sputtering with confined plasma: pavt V-Application to backsputtev definition. Journal of vacuum Science Technology, vol 12, N 3, 1975, p. 677-688.

Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ УГЛОВЫХ ЗАВИСИМОСТЕЙ ПАРАМЕТРОВ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ, содержащее источник потока ионов и мишень, отличающееся тем, что, с целью повышения точности и скорости измерений, мишень выполнена в виде многогранника, одна грань которого расположена перпендикулярно потоку ионов, а другие грани, имеющие по крайней мере одну общую точку с упомянутой гранью, расположены по отношению к ней так, что внешние нормали к ним образуют с внешней нормалью к упомянутой грани углы в диапазоне 0 - 90^o.

РИСУНКИ

Рисунок 1

Похожие патенты:

Плазмохимический реактор // 1250159

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано при получении и обработке дисперсных материалов плазмохимическим способом

Способ получения плазмы и устройство для его осуществления // 1250158

Магнитопровод бетатрона // 1237057

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано при разработке бетатронов с высокой интенсивностью выведенного пучка

Плазменный диод с магнитной изоляцией // 1237055

Устройство для плазмохимической индивидуальной обработки пластин // 1222175

Генератор импульсных токов трапецеидальной формы в активно- индуктивной нагрузке // 1213551

Ускоритель плазмы // 1210604

Изобретение относится к плазменным ускорителям и может быть использовано при разработке устройств для получения плазменных потоков в различных областях техники

Способ накопления протонов в кольцевой магнитной периодической системе // 1207387

Плазмотрон // 1204130

Устройство для удержания плазмы // 1202427

Термоядерный реактор // 2100849

Ускоритель плазмы // 2100916

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Конструкция тепловой защиты, охлаждающий элемент и способ его изготовления // 2101887

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Способ получения сплошной пленки с алмазоподобной структурой и устройство для его осуществления // 2105379

Способ получения электрической энергии и устройство для его осуществления // 2105407

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Плазмоэрозионный размыкатель // 2105436

Плазмоэрозионный размыкатель // 2105437

Плазмохимический генератор с самопрокачкой газа // 2105438

Газоразрядная камера // 2105439

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки

Устройство для измерения изменений тяги плазменного ракетного двигателя с замкнутым дрейфом электронов // 2107186