Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор
Полезная модель относится к области железнодорожного строительства, а именно к подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора и может быть использована для рельсовых скреплений железнодорожного пути, оснащенного как деревянными, так и железобетонными шпалами на железнодорожных путях с высокой грузонапряженностью перевозок с обеспечением увеличенного ресурса работоспособности.
Задача полезной модели - создание подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора, техническим результатом при использовании которой является повышение прочности при разрыве с одновременным повышением относительного удлинения, повышение удельного объемного сопротивления электрическому току (8-108 ом·см), повышение степени виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц, повышение жесткости при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН, повышение влагостойкости маслостойкости при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°, повышение морозостойкости по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (32%), повышение уровня сопротивления продольному перемещению рельса, а также повышение степени поглощения звука.
Для решения задачи предложена подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, причем прокладка - амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, при этом в качестве каучука резиновой смеси содержит изопреновый, бутадиен-стирольный, бутадиеновый каучук или их смеси, в качестве порошкового наполнителя дополнительно содержит высоко дисперсный диоксид кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм, при этом размер частиц технического углерода выбран от 30 нм до 200 нм, в качестве наномодификатора резиновая смесь содержит модифицированную Na+ монтмориллонитовую глину (органоглину) с размерами частиц 25-750 нм, содержащую не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na+ силиката с химической формулой (Al, Mg)2 (OH)2{Si4O10}H2O, серную вулканизующую систему, а в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или со смесью синтетических жирных кислот (СЖК), при следующем соотношении компонентов резиновой смеси, мас. части:
изопреновый, бутадиен-стирольный,
| бутадиеновый каучук или их смесь | 100, |
активные высоко дисперсные технический
| углерод, диоксид кремния или их смесь, | 50-70, |
| наномодификатор | 2-20, |
| серная вулканизующая система | 4-8, |
| активатор вулканизации | 2.7-6,5, |
при этом смесь каучуков в резиновой основе прокладки-амортизатора содержит два или три вида каучуков, причем содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас. частей, а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас. частей одного вида каучука и от 10 до 70 мас. частей второго вида каучука. При этом содержание в резиновой основе прокладки-амортизатора высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния выбрано от 5 до 95 мас. частей. При этом резиновая основа в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка в количестве 2-5 мас. частей со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей, или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас. частей.
Полезная модель относится к области железнодорожного строительства, а именно к подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора и может быть использована для рельсовых скреплений железнодорожного пути, оснащенного как деревянными, так и железобетонными шпалами на железнодорожных путях с высокой грузонапряженностью перевозок с обеспечением увеличенного ресурса работоспособности.
Известна подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, причем прокладка-амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, (см. патент на полезную модель 
81734, МПК E01B 9/68, 2009 г.)
Однако известная подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор при своем использовании имеет в соответствии с требованиями норм безопасности на железнодорожном транспорте «НБ ЖТ ЦП 149-2003» следующие недостатки:
- обладает недостаточной прочностью при разрыве (13,8 МПа) при относительном удлинении 280%,
- обладает недостаточным удельным объемным сопротивлением электрическому току (8×108 ом.см),
- обладает недостаточной степенью виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц,
- обладает недостаточной жесткостью при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН (48 МН/м),
- обладает недостаточной влагостойкостью и маслостойкостью при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°,
- обладает недостаточной морозостойкостью по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (32%),
- имеет недостаточный уровень сопротивления продольному перемещению рельса,
- обладает недостаточной степенью поглощения звука.
В основу полезной модели положена задача создания подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора.
Техническим результатом при использовании предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является повышение прочности при разрыве с одновременным повышением относительного удлинения, повышение удельного объемного сопротивления электрическому току (8·108 ом·см), повышение степени виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц, повышение жесткости при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН, повышение влагостойкости маслостойкости при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°, повышение морозостойкости по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (32%), повышение уровня сопротивления продольному перемещению рельса, а также повышение степени поглощения звука.
Технический результат достигается тем, что предложена подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, причем прокладка-амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, при этом в качестве каучука резиновой смеси содержит изопреновый, бутадиен-стирольный, бутадиеновый каучук или их смеси, в качестве порошкового наполнителя дополнительно содержит высокодисперсный диоксид кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм, при этом размер частиц технического углерода выбран от 30 нм до 200 нм, в качестве наномодификатора резиновая смесь содержит модифицированную Na+ монтмориллонитовую глину (органоглину) с размерами частиц 25-750 нм, содержащую не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na+ силиката с химической формулой (Al, Mg)2(OH)2{Si 4O10}H2O, серную вулканизующую систему, а в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или со смесью синтетических жирных кислот (СЖК), при следующем соотношении компонентов резиновой смеси, мас. части:
изопреновый, бутадиен-стирольный,
| бутадиеновый каучук или их смесь | 100, |
активные высокодисперсные технический
| углерод, диоксид кремния или их смесь, | 50-70, |
| наномодификатор | 2-20, |
| серная вулканизующая система | 4-8, |
| активатор вулканизации | 2.7-6,5, |
при этом смесь каучуков в резиновой основе прокладки-амортизатора содержит два или три вида каучуков, причем содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас. частей, а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас. частей одного вида каучука и от 10 до 70 мас. частей второго вида каучука. При этом содержание в резиновой основе прокладки-амортизатора высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния выбрано от 5 до 95 мас. частей. При этом резиновая основа в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка в количестве 2-5 мас. частей со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей, или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас. частей.
Среди признаков, характеризующих предложенную подрельсовую нашпальную прокладку-амортизатор, существенными являются:
- содержание в качестве каучука резиновой смеси изопренового, бутадиен-стирольного, бутадиенового каучука или их смеси,
- дополнительное содержание в качестве порошкового наполнителя высоко дисперсного диоксида кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм,
- выбор размера частиц технического углерода от 30 нм до 200 нм,
- содержание в качестве наномодификатора резиновой смеси модифицированной Na+ монтмориллонитовой глины (органоглины) с размерами частиц 25-750 нм, содержащей не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na+ силиката с химической формулой (Al, Mg)2(OH)2{Si 4O10}H2O,
- использование серной вулканизующей системы,
- содержание в резиновой основе в качестве активаторов вулканизации смеси диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или с синтетической жирной кислотой (НЖК),
- выбор следующего соотношения компонентов резиновой смеси, мас. части:
изопреновый, бутадиен-стирольный,
| бутадиеновый каучук или их смеси | 100, |
активные высокодисперсные технический
| углерод, диоксид кремния или их смесь, | 50-70, |
| наномодификатор | 2-20, |
| серная вулканизующая система | 4-8, |
| активаторы вулканизации | 2.7-6,5, |
- выбор содержания в смеси каучуков резиновой основы прокладки-амортизатора двух или трех видов каучуков, причем содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас. частей, а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас. частей одного вида каучука и от 10 до 70 мас. частей второго вида каучука,
- выбор содержания в резиновой основе прокладки-амортизатора высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния от 25 до 120 мас. частей
- содержание в резиновой основе в качестве активатора вулканизации смеси диоксида цинка в количестве 2-5 мас. частей со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей, или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас. частей.
Экспериментальные исследования предложенной подрельсовой нашпальной прокладки - амортизатора, выполненной из материала «Эластотех-Н-пр.» показали ее высокую эффективность. Было установлено, что предложенная подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор обладает повышенной прочностью при разрыве (22,2 МПа) при одновременном повышении относительного удлинения (700%), повышенным удельным объемным сопротивлением электрическому току (20×109 ом·см), повышенной на 18-21% степенью виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц, повышенной жесткостью (56-58 МН/м) при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН, повышенной на 16-17% влагостойкостью и маслостойкостью при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°, повышенной морозостойкостью по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (9%), повышенным уровнем сопротивления продольному перемещению рельса, а также повышенной степенью поглощения звука.
В таблице 1 представлены составы и компоненты материала «Эластотех-Н-пр.», использованного при изготовлении предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора, которые по результатам экспериментальных испытаний соответствуют требованиям норм безопасности на железнодорожном транспорте «НБ ЖТ ЦП 149-2003».
Сущность предложенного технического решения поясняется рисунком, где на фиг.1 показан общий вид предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора.
Технология изготовления предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является традиционной и не требует применения специфического технологического оборудования.
Использование предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является традиционным. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор устанавливается на опорную поверхность железнодородной шпалы под рельс и закрепляется в шпале любым известным способом.
| Содержание компонентов эластичного материала подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора (таблица 1) | |||||
| материала | Вид каучука основы резиновой смеси, 100 мас. частей | Содержание наномодификатора, мас. части | Серная вулканизующая система, мас. части | Порошковый наполнитель, мас. части | Активатор вулканизации, мас. части |
| 1 | ИЗПР | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 2 | ИЗПР | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 3 | ИЗПР | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 4 | ИЗПР | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 5 | ИЗПР | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 6 | ИЗПР | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 7 | ИЗПР | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 8 | ИЗПР | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 9 | ИЗПР | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 10 | ИЗПР | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 11 | ИЗПР | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 12 | ИЗПР | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 13 | ИЗПР | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 14 | ИЗПР | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 15 | ИЗПР | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 16 | ИЗПР | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 17 | ИЗПР | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 18 | ИЗПР | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 19 | БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 20 | БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 21 | БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 22 | БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 23 | БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 24 | БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 25 | БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 26 | БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 27 | БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 28 | БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 29 | БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 30 | БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 31 | БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 32 | БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 33 | БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 34 | БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 35 | БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 36 | БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 37 | БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 38 | БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 39 | БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 40 | БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 41 | БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 42 | БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 43 | БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 44 | БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 45 | БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 46 | БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 47 | БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 48 | БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 49 | БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 50 | БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 51 | БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 52 | БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 53 | БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 54 | БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 55 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 56 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 57 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 58 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 59 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 60 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 61 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 62 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 63 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 64 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 65 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 66 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 67 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 68 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 69 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 70 | ИЗПР+5 БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 71 | ИЗПР+5 БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 72 | ИЗПР+5 БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 73 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 74 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 75 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 76 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 77 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 78 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 79 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 80 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 81 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 82 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 83 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 84 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 85 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 86 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 87 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 88 | ИЗПР+55 БТДС | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 89 | ИЗПР+55 БТДС | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 90 | ИЗПР+55 БТДС | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 91 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 92 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 93 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 94 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 95 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 96 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 97 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 98 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 99 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 100 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 101 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 102 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 103 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 104 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 105 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 106 | ИЗПР+5 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 107 | ИЗПР+5 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 108 | ИЗПР+5 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 109 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 110 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 111 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 112 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 113 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 114 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 115 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 116 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 117 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 118 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 119 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 120 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 121 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДД+1,1 СК) |
| 122 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 123 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 124 | ИЗПР+55 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 125 | ИЗПР+55 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 126 | ИЗПР+55 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 127 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 128 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 129 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 130 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 131 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 132 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 133 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 134 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 135 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 136 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 137 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 138 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 139 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 140 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 141 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 142 | БТДС+5 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 143 | БТДС+5 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 144 | БТДС+5 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 145 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 146 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 147 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 148 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 149 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 150 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 151 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 152 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 153 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 154 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 155 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 156 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 157 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 158 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 159 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 160 | БТДС+55 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 161 | БТДС+55 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 162 | БТДС+55 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 163 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 164 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 165 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 166 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 167 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 168 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 169 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 170 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5ДЦ+1,5 ОК) |
| 171 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 172 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 173 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 174 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 175 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 176 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 177 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 178 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 179 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 180 | ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 181 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 182 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 183 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 184 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 185 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 186 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 187 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 188 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 189 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| 190 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 СК) |
| 191 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК) |
| 192 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм) | 2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК) |
| 193 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 СК) |
| 194 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК) |
| 195 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм) | 4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК) |
| 196 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 2 | 4 | 60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 СК) |
| 197 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 10 | 6 | 60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК) |
| 198 | ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК | 20 | 8 | 60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм) | 6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК) |
| Сокращения: - мас. части - массовые части, | - ДК - диоксид кремния, | ||||
| - ИЗПР - изопреновый каучук, | - ДЦ - диоксид цинка, | ||||
| - БТДК - бутадиеновый каучук, | - СК - стеариновая кислота, | ||||
| - БТДС - бутадиен-стирольный каучук, | - ОК - олеиновая кислота | ||||
| - ТУ - технический углерод, | -- СЦ - стеарат цинка, | ||||
| - НЖК - смесь синтетических жирных кислот. |  |
1. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, при этом прокладка-амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, отличающаяся тем, что в качестве каучука резиновой смеси содержит изопреновый, бутадиен-стирольный, бутадиеновый каучук или их смеси, в качестве порошкового наполнителя дополнительно содержит высокодисперсный диоксид кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм, при этом размер частиц технического углерода выбран от 30 нм до 200 нм, в качестве наномодификатора резиновая смесь содержит модифицированную Na+ монтмориллонитовую глину (органоглину) с размерами частиц 25-750 нм, содержащую не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na+ силиката с химической формулой (Al, Mg)2(OH)2 {Si4O10}H2O, серную вулканизующую систему, а в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или со смесью синтетических жирных кислот (СЖК), при следующем соотношении компонентов резиновой смеси, мас.ч.:
| изопреновый, бутадиен-стирольный, | |
| бутадиеновый каучук или их смесь | 100 |
| активные высокодисперсные технический | |
| углерод, диоксид кремния или их смесь | 50-70 |
| наномодификатор | 2-20 |
| серная вулканизующая система | 4-8 |
| активатор вулканизации | 2,7-6,5 |
2. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор по п.1, отличающаяся тем, что смесь каучуков в ее резиновой основе содержит два или три вида каучуков, при этом содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас.ч., а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас.ч. одного вида каучука и от 10 до 70 мас.ч. второго вида каучука.
3. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор по п.1, отличающаяся тем, что содержание высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния выбрано от 5 до 95 мас.%.
4. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор по п.1, отличающаяся тем, что резиновая основа в качестве активаторов вулканизации содержит смесь диоксида цинка в количестве 2-5 мас.ч. со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас.ч., или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас.ч. или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас.ч.
