Воздействие волновым излучением или излучением частиц (H01L21/26)

H01L21/26              Воздействие волновым излучением или излучением частиц (тепловое излучение H01L21/324)(3)

Маска для ионного легирования в пластины карбида кремния // 140712
Полезная модель относится к области электронной техники, а более конкретно - к конструкции масок для планарной технологии изготовления полупроводниковых приборов на основе карбида кремния с использованием процессов ионного легирования.

Радиационно-стойкая библиотека элементов на комплементарных металл-окисел-полупроводник транзисторах // 139164
Полезная модель относится к области к области микроэлектроники. .
 
2548701.
Наверх