Высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты (G03F7/039)

G Физика(16591)

G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография (воспроизведение изображений или образов путем развертки и преобразования в электрический сигнал H04N) (134)

G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G03C; электрография, чувствительные слои или процессы G03G) (7)

G03F7 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B44C,H01L, а также рубрики, например H01L21,H05K) (5)

G03F7/039 Высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты (G03F7/075 имеет преимущество; полихинондиазиды G03F7/023)(1)

Фоторезист для нанолитографии // 82349

Наверх