Устройство для изготовления диэлектрических пленок

Союз. Советских

Социалистнческнх

Республик

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (6f) Дополнительное к авт. свид-ву(22) Заявлено 07. 04. 80 (21) 290б300/18-21

<о941875

f53)hA Nn з

G 01 Я 1/00 с присоединением заявки №

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 070782. Бюллетень ¹ 25

Дата опубликования описания 07.07.82

ДЗ) УДК 539.231 (088, 8) (72) Авторы изобретения

Е.Н.Рожин и И.В,Куликов (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК

Изобретение относится к области ,технологии изготовления диэлектрических пленок и может быть использовано для получения монолитных слоев диэлектрических материалов на подложках. .Наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для изготовления диэлектрических пленок, состоящее из вакуумной камеры с откачными средствами, в которой размещена емкость с формой для заливки диэлектрика в виде горизонтальных подложек, размещенных на вращающемся столе, и вакуумный привод с упорами $1).

Недостатком этого устройства является невозможность изготовления тонких однородных по всей рабочей поверхности пленок, что обусловливает низкое качество.

Цель изобретения — повышение качества .диэлектрических плейок.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для изготовления диэлектрических пленок, содержащем вакуумную камеру с откачнымн сред« ствами, в которой -размещена емкость с формой для заливки диэлектрика, выполненной s в иHд е п о д ло ж к иH, и вакуумный привод с упорами, подложки размещены между рамочными прокладками и помещены между упорами вакуумного привода, причем одна из поверхностей подложек снабжена сеткой канавок, расширяющихся внутрь по толщине.

На фиг.1. представлена схема устройства; на фиг.2 — сечение A-A на фиг.1.

Устройство содержит вакуумнуто камеру 1, емкость 2. с отверстием для заливки диэлектрика, вакуумный при-., вод 3 с двумя упорами 4, подложки 5, рамочные прокладки б, откачные средства - насос 7, соединенный с камерой 1 через клапан 8, натекатель 9 и манометр 10.

Устройство работает следующим образом,.-:.

В емкости 2. на расстоянии примерно в 1-2 мм в ряд подвешивают за выступы на борту емкости 2 подложки

5 поверхностью с канавками в одну сторону. За каждой подложкой помещают рамочные прокладки б. Емкость 2 ставят в камеру 1 горизонтально в фиксированном .положении, перемещают упор 4 привода 3 в нужное поло-. жение и закрывают крышку камеры 1, 941875 йри этом ряд подложек 5 и прокладок 6 должны оказаться между упо« рами привода 3. Через клапан 8 осуществляют насосом 7 откачку камеры 1 до давления остаточного газа в ней порядка 0,1-1,3 кПа. После этого эа- 5 полняют емкость 2 диэлектриком. При достижении равного слоя диэлектрика над .подложками 5 толщиной около 23 мм прекращают заливку диэлектрика. 1Перемещая вращением упора 4 привода 10

3, производят прессование. Все подложки 5 и рамочные прокладки б при этом собираются в одну стопку, а . ", канавки подложки .5 и пространство, .ограниченное приемом рамочной прокладки 6, остаются заполненными диэлектриком. Закрытием клапана 8 прекращают откачку камеры 1. Через натекатель 9 в камеру 1 напускают атмосфеРУ Поднимают кРьзяку к ер 1 так, чтобы вся..стопка подложек 5 и прокладок б с заключенным между ними диэлектриком оказались выше емкости 2.

Если не требуется изготовления следующей партии пленок или отверждение диэлектрика происходит при нор-.. мальных условиях и не занимает много времени, крышку камеры 1 оставляют открытой до отверждения диэлектрика до нужного состояния.

В случае необходимости изготов ления следующей партии пленок или когда для отверждения диэлектрика требуются особые условия (высокая температура, длительный срок отверж- 35 дения и др,) подложки 5 отделяют от упора 4 и привода 3 и подвергают их дальнейшей обработке, ПосЬе отверждения диэлектрика, заключенного в канавках одной иэ 40 поверхностей подложек 5 и проемах .рамочных прокладок 6, разбирают стопку по подложкам 5 и отделяют от

Ннх прокладКи 6. На подложке 5 со стороны поверхностей с канавками от- стается тонкий слой диэлектрика, толщина которого равна толщине рамочной прокладки 6.

Материал для подложек 5, прокладок 6 и упоров 4 выбирают из материалов со слабой адгезией к данному диэ« лектрику или перед заливкой поверхности этих деталей обрабатывают тонким слоем вещества, уменьшающего адгезию, Технико-экономическая эффективность оТ применения изобретения оп- ределяется улучшением качества диэ лектрических пленок — отсутствия неоднородностей по толщине и плотности и неплотностей,,:. что обусловливает улучшение их злектрофизических свойств.

Формула изобретения устройство для изготовления ди- электрических пленок, содержащее ва- куумную камеру с откачными средствами, в которой размещена емкость с формой для заливки диэлектрика, выполненной в виде подложки, и вакуумный привод.с упорами,. о т л и— ч а .ю щ е е с я тем,.что, с целью повышения качества диэлектрических пленок, подложки размещены между рамочными прокладками и помещены. между упорами вакуумного привода, причем одна из поверхностей подло-. жек снабжена сеткой канавок, расши" ряющихся внутрь по толщине. . Источники.информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Фридман Е.Н. Герметизация радиоэлектронной аппаратуры. М., Энергия™, 1978, с. 220 (прототип),.

y„.r

A-А

Составитель В.Боцаров

Редактор Н.Пушненкова Техред Ж.. Квстелевич Корректор . B.BY 1

Заказ4827/32 Тираж 887 Подписное

BHHHIIH Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Иосква, Ж-35, Раумская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, Ул. Проектная, 4