Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта
Сотов Советских
Социалистических
Республик
ОП ИСАНИЙ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К А®ТОЯСКОМУ СВИДЕТИЛЬСТВУ (lu865886 (6!) Дополнительное к авт.свмд-ву (22)Заявлено 040679 {21) 2778879/23-26 с ярмсоедмненмен замвкм М— (23) Приоритет (5! )Мв КЛ.
С 09 К 13/02//
С 23 F 1/00
Ibeyaapctsawu4 квинтет ссср по деми хзвбретенх!1 х открытх11
Опубликовано 230981. Бюллетень М 35 (53) УДК 62! . .794.42 (0SS.8) Дата опубликования описания 250981 㻠— -.
А.Ф. Суницкнй, И.Н. Кочкин, И.И. Овчинникйв и В.Ф. Киселева к
I т
k - "; к.!
t — .., (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) РАСТВОР ДЛЯ УДАЛЕНИЯ С ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ
ФОТОРЕЗИСТА НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛОВОГО
СПИРТА
Изобретение относится к радиозлектронной промышленности и используется в ,производстве печатных плат.
Известен раствор для удаления с печатных плат фоторезиста (светочувствительного слоя) на основе поливинипового спирта, содержащий щавелевую кислоту !50-200 г/л, хлористый натрий
50-100 г/л (1 ).
Наиболее близк тм по технической сущlO ности и достигаемому результату является раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта, содержащий перекись водорода и воду (концентрация перекиси водорода 15X) (2).
IS
Недостатком указанных растворов является разрушающее воздействие их на металлорезист, что вызывает необходимость восстановления его,. ретуширования рисунка схемы и приводит к повышению трудоемкости.
Цель изобретения — исключение разрушения металлорезиста sa счет образования на его поверхности защитного слоя, Поставленная цель достигается раствором для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливинилового спирта, содержащим перекись водорода, едкий натрий, сернокислый натрий и воду при следующем соотношении компонентов, вес.X:
Перекись водорода
301-ная 55-60
Едкий натрий 2-2,5
Сернокислый натрий 1-!, 25
Вода Остальное
Отличительными признаками раствора являются наличие в нем едкого натрия и сернокислого натрия, а также определенное соотношение компонентов в растворе.
Выбор состава обусловлен тем, что перекись водорода в процессе воздействия на фоторезист "вскипает" ввиду каталитического действия едкого нат865886
Сначала приготовляют 10Х-ный раствор едкого натрия, 5Х-ный раствор сернокислого натрия. Смешивают ЗОХ-ную перекись водорода с 5Х-ным раствором сернокислого натрия и IOX-ным раствором едкого натрия в следующем объемном соотношении, мл:
Перекись водорода
30Х-иая 500-600 !
О Едкий натрий
IOX-ный
Сернокислый натрий
5Х-ный 200-250
После смешивания раствор готов к
1з использованию.
Печатную плату с нанесенным слоем фоторезиста на основе поливинилового спирта, имеющую металлореэист на рисунке схемы, помещают в подогретый
2О до 35-40 С раствор, содержащий пе0 рекись водорода, едкий натрий, сернокислый натрий и воду. Результаты процесса удаления фоторезиста представлены в таблице.
200-250
Состояние
Количество
Время удаления фоторезиста, мин
Компоненты
Состав, У ингредиентов, вес. Х металлорезиста
Перекись водорода
Едкий натрий
Сернокислый натрий
Хорошее
Разрушений нет
1,25
Остальное
Хорошее
2,25
Разрушений нет
До I л
Хорошее
2,5
Разрушений нет
1,0
До 1л
Как видно из таблицы, состояние металлорезиста после воздействия раствора в широком интервале соотношений компонентов и времени хорошее, разрушений нет.
Печатные платы, изготовленные с использованием данного раствора для рия, вызывая при этом деструктуризацию фоторезиста.
Сернокислый натрий в свою очередь, воздействуя на металлорезист "оловосвинец"у "QJIQBD-свинец-висмут" образует нерастворимый слой сернокислого свинца, который защищает металлорезист от дальнейшего разрушения.
Несоблюдение укаэанного в предлагаемом растворе соотношения едкого натрия и сернокислого натрия отрицательно сказывается на процесс раэдубливания фоторезиста.
В случае недостатка, равно как и избытка, едкого натрия замедляется скорость деструктуризации фоторезиста, недостаток сернокислого натрия не обеспечивает образования необходи= мого устойчивого слоя сернокислого свинца на поверхности металлорезиста, а избыток его приводит к образованию рыхлого слоя.
Раствор готовят следующим образом, I1 Перекись водорода
Едкий натрий
Сернокислый натрий
Вода
I!! Перекись водорода
Едкий натрий
Сернокислый натрий
Вода ю удапения фоторезиста по своему ка- честву отвечают требованиям "ОСТ4.
077.000 ° 1976, редакция 1-75. Платы печатные. Общие технические условия" °
Результатами длительной проверки в опытном и серийном производстве установлено:
5 86588
1. Объем работ по ретушированию с целью восстановления рисунка схемы печатных плат после удаления фоторезиста снижается в 2-3 раза, что снижает в целом трудоемкость их изготов ления на 10Х.
2. Повышение устойчивости металлорезиста за счет образования поверхностного слоя сернокислого свинца сокращает брак при травлении на 10- 10
15Х.
3. Предлагаемый раствор позволяет использовать дешевую низкосортную перекись водорода по ГОСТ 177-77 (техническая А, Б, В).
И формула изобретения
Составитель С. Лотхова
Редактор С. Патрушева Техред Т.Маточка Корректор Г. Решетник
Заказ 7989/38
Тираж 687 Подпис но е
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП "Патент", г. Ужгород. ул. Проектная, 4
Раствор для удаления с печатных плат фоторезиста на основе поливннилового спирта, содержащий перекись водорода и воду, о т л и ч а ю щ и й6 d с я тем, что, с целью исключения разрушения металлорезиста за счет образования на его поверхности защитного слоя, раствор дополнительно содержит едкий натрий и сернокислый натрий при следующем соотношении компонентов, вес.1:
Перекись водорода
307-ная 55-60
Едкий натрий 2-2, 5
Сернокислый натрий 1-1,25
Вода Остальное
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
1. Платы печатные многослойные.
Типовые технологические процессы.
ОСТ ГО.054.043. 1972, ред. 1-71 с. 35.
2. Платы печатные многослойные.
Типовые технологические процессы.
ОСТ 4ГО.054.043. 1972, ред. 1-71, с, 35.(прототип).
