Оптическая система

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОВРЕЕЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз, Советскик

Социалистически к

Республик п>822122 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (5I)N. Кл.

G 02 В 5/28 (22) Заявлено 22,06,79(21) 2782684/18-10 с присоединением заявки М

Гесудврстееввьй квивтет

СССР ив двиам кзебрвтенкй в еткрытвй (23) Приоритет—

Опубликовано 15.04.81 Бюллетень М 14 (53) УДК 535.345..6 7 (088.8) Дата опубликования описания 17.04.81 (72) Авторы изобретения

В. Й, Введенский и Е. Г, Столов (71) Заявитель (54) ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА

Настоящее изобретение относится к оптическому приборостроению и может найти применение в самых различньс: приборах (спектрофотометрах, телескопах, микроскопах, квантовых генераторах и т д.).

Известны зеркала, в которых для обеспечения высокого:коэффициента;. .отражения в широкой спектральной области используются непрозрачные пленки алюминия, расположенные на подложках (1).

Недостатком таких зеркал является невысокий коэффициент отражения (8692%) в интервале длин волн 400-850нм.

При использовании нескольких зеркал такрго типа происходят большие потери све- 5

15 та.

Известны также зеркала, содержащие подложку с расположенным на ней интерференционным покрытием, состоящим из слоя алюминия и четного числа чередуюшихся слоев с меньшим и большим показателем преломления, причем к металлу прилегает. слой с меньшим показателем; оптические толщины всех, за исключением слоя прилегающего к металлу, равны между собой, оптическая толщина слоя, прилегающего к металлу, составляет 0,6-0,8 от оптической толщины любого другого слоя (2).

Однако данные зеркала имеют недостаточную ширину эоны высокого отражения, Цель изобретения - повышение коэффициента отражения в интервале длин волн

400-850 нм и повышение высокой термической и механической прочности.

Указанная цель достигается тем, что оптические толщины первых двух диэлектрических слоев каждого зеркала с меньшим и болыиим показателями преломления, считая от подложки, относятся как

1:0,78, оптические толщины остальных слоев с меньшим и с большим показа гелями преломления, выполненные иэ смеси окислов ниобия и лантана с концентрацией последнего 10-50% относятся как

1:2, количество слоев в первом зеркале выбрано. равным четырем, à количество (Рис 2

ВНИИПИ Заказ 1848/71 Тираж 539 Подписное

Фаииал ППП Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4 слоев в каждом последующем зеркале увеличено на два по сравнению с предыдущим.

На фиг. 1 изображена конструкция оптической системы; на фиг. 2 — конструкция < --ro зеркала.

Система содержит расположенные последовательно зеркала (не указаны). Каждое зеркало состоит из подложки 1, не прозрачного слоя 2 алюминия, чередующихся диэлектрических слоев 3,4,5... (4+2Ф). Слои с меньшим показатем преломления заштрихованы. Оптическая толщина первого диэлектрического слоя, прилегающего к алюминию, равна .117 нм, второго - 150 нм. Оптические толщины остальных слоев с меньшим показателем преломления равны 150 нм, с большим300 нм, Допуск на оптические толщины слоев + 15%. В качестве материала для слоев с меньшим показателем преломления может применяться фтаристый магний, криолит, двуокись кремния и т.п.

Слои с большим показателем преломления выполнены из смеси окислов ниобия и лантана с концентрацией .последнего 10-50%.

Формула изобретения

Оптическая система, содержащая И по. следовательно расположенных зеркал, каждое из которых выполнено в виде подложки с расположенным на ней интерференционным покрытием, состоящим из слоя алюминия и четного числа чередующихся слоев с меньшим и большим показателем преломления, отличающаяся тем, что, с целью повышения коэффициента отражения в интервале длин волн

400 850 нм и повышения термической и механической прочности, оптические толщины первых двух диэлектрических слоев каждого зеркала с меньшим и большим показателями преломления, считая от подложки, относятся как 1:0,78, оптические толщины остальных слоев с меньшим и с большим показателем преломления, выполненные из смеси окислов ниобия и лантана с концентрацией последнего 10-50% относятся как 1:2, количество слоев в первом зеркале выбрано равным четырем, а количество слоев в каждом последующем зеркале увеличено íà два по сравнению с предыдущим.

Источники информации, . принятые во внимание при экспертизе

1. Хасс Г. и др. Физика тонких пле нок, т. 2, М., Мир", 1967, с. 290.

2.G.J.3ouvnaf Ор1лсЫ Bovtetw of

Amer ca, 45, р. 945, 1955 (прототип).

Оптическая система Оптическая система 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области оптического приборостроения, в частности к интерференционным покрытиям и может быть использовано для создания зеркальных, светоделительных фильтрующих и других многослойных покрытий для оптических элементов широкого применения, в том числе для лазерной техники в области длин волн от 0,4 до 9,0 мкм

Изобретение относится к области изготовления оптических элементов, отражающих интерференционных фильтров и обработки поверхности стекла, а более конкретно к слоистым изделиям, включающим основу из стекла и многослойное покрытие из специфицированного материала, имеющее различный состав, из органического материала, оксидов, металлов и неметаллов, наносимых преимущественно осаждением из газовой среды

Изобретение относится к теплоизоляционному покрытию, применяемому в защите от теплового излучения жилых, офисных или промышленных зданий
Изобретение относится к способу изготовления диэлектрического многослойного зеркального покрытия

Изобретение относится к интерференционным покрытиям и, в частности, может быть использовано в оптическом приборостроении для широкополосного отражения света

Изобретение относится к области оптического приборостроения и предназначено для получения изображений поверхности Земли из космоса и с воздушных носителей различного класса

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может быть использовано при построении приборов для спектральной фильтрации оптических изображений, например, перестраиваемых по длине волны оптических фильтров, тепловизоров, работающих в заданных узких спектральных диапазонах

Изобретение относится к интерференционным покрытиям и, в частности, может быть использовано в оптическом приборостроении для узкополосной фильтрации света
Наверх