Устройство для нанесения покрытия на подложки

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИ ETEllhCTBV

Союз Советскик

Социалистических

Республик (1)790376 (61) Дополмительмое к авт. сеид-ву» (22) Заявлено 1903.78 (2! ) 2647042/23-13 (5!)ф . Кл 3

Н 05 K 3/00

В 04 В 5/00 с присоединением заявки N9

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 231280. Бюллетень N9 47

Дата опубликовамияописамия 2312ßÎ (53) УДК 621. 396.

«6,002т357»

° 74(088.8) (72) Автор изобретемия

H. И. Никулин

11

Ф (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ

HA ПОДЛОЖКИ

Изобретение относится к нанесению покрытия на подложки методом центрифугирования и может быть использовано, например в полупроводниковом производстве, для нанесения фоторезиста, лака и других материалов на полупроводниковые пластины и фотошаблоны.

Известны устройства для нанесе- )Q ния пленки фоторезнста на полупроводниковые пластины методом центрифугирования. Центрифуга для нанесения пленки фотореэиста на.полупроводниковые пластины содержит сборник фоторезиста, установленную внутри него вращающуюся оправку для вакуумного закрепления пластины с каналом для подвода вакуума и .злектропривод 11 .

Однако она не обеспечивает авто- 2О матической загрузки и выгрузки обрабатываемых пластин, что отрицательно влияет на производительность труда.

Наиболее близким к предЛагаемому 25 по технической сущности и достигаемому результату является устройство для нанесения слоя фоторезиста на пластины, содержащее вращающуюся oriравку со штырями. для удержания 3п обрабатываемой пластины при вращении и вакуумный столик .со штоком, установленным соосно,вращающейся оправке и соединенным с приводом возвратно-поступательного перемещения столика вдоль оси вращения оп- равки. На сторонах штырей, обращенных к центру вакуумного столика, выполнены трапециевидные пазы.

Устройство работает следующим образом.

Обрабатываемую пластину укладывают на поднятый в крайнее верхнее положение вакуумный столик. При под» ключении столика к вакуумной сети пластина фиксируется на нем, после чего столик под действием привода рпускается в нижнее положение. В середине хода столика вакуум отключается и пластина опускается на нижнйе скосы трапециевидных пазов, выполненных в штырях вращающейся оправки. Затем на пластину наносят дозу фоторезиста в виде капли и включают привод вращения оправки.

При вращении оправки фоторезист под действием центробежных сил растекается по пластине. По истечении определенного времени привод оправ79037б ки выключают и после полной ее остановки включают привод подъема вакуумного столика, который при своем перемещении вверх выталкиваег обработанную пластину на конвейер и цикл повторяется $2).

Устройство обеспечинает автоматическую загрузку и выгрузку обрабатываемых пластин, но имеет недостаток, заключающийся в том, что при загрузке и выгрузке пластины часто повреждаются при соприкосновении со штырями. Это объясняется тем, что при загрузке и выгрузке геометрический, центр пластины часто смещается относительно центра стола, а шток вакуумного стола жестко соединен с осью привода и установлен в подшипниках скольжения с минимальным зазорсм.B результате этого,жестк< закрепленная на вакуумном столике крепленная на вакуумном столике 20 пластина при опускании и подъеме накуумного стола ударяется о штыри, .при этом происходит скалывание краев пластины и повреждение рабочей поверхности штырей вращающейся оправки.

Цель изобретения — предотвращение повреждения обрабатываемых подло>хек в процессе их загрузки и выгрузки °

Поставленная цель достигается тем, что шток вакуумного столика соединен с осью привода возвратнопоступательного перемещения последнего посредством шарового шарнира, а поверхности штырей вращающейся оправки,контактирующих с подложками, выполнены сферическими.

На черте>хе схематически изображено предлагаемое устройство, разрез.

Устройство для нанесения покры- 40 тия на подло>кки содержит сборник 1 со штуцером 2 для отвода излишков материала покрытия, вращающуюся оправку

3 со штырями 4 для удержания обраба-, тываемой подлох<ки 5 при вращении, злектропривод б, кинематически свя.занный с упомянутой оправкой ременной передачей 7, вакуумный столик

8 со штоком 9, установленный соосно вращающейся оправке 3 и соединенный с осью привода 10 возвратнопоступательного перемещения столика посредством шарового шарнира 11. В штоке 9 .выполнен канал 12 для подвода вакуума, который через штуцер

13 соединяется с вакуумной сетью 55 (на чертеже не показана).

Устройство работает следующим образом.

Загрузочным устройством (на чертеже не показано) подложка 5 загружается на поднятый в крайнее верхнее па ложение вакуумный столик 8, после чего канал 12 подключают к вакуумной сети и подложка фиксируется на столике. Затем вакуумный столик 8 опус кается в крайнее нижнее положение и подлох<ка устанавливается между штырями 4 на выступы B. При этом в конце хода вакуумный столик отключается от вакуумной сети и между подложкой и вакуумным столиком образуется зазор. На подложку наносят дозу материала покрытия (фоторезиста, лака и т. д.) в виде капли и включают электродвигатель б, сообщающий оправке 3 вращательное движение с большой скоростью. Под действием центробежных сил подложка 5 смещается к одной паре штыре 4 и материал покрытия растекается по подложке. Излишки материала покрытия сбрасываются в сборник 1 и удаляются из него через штуцер 2. По истечении определенного времени электродвигатель б отключают и после полной остановки вращающейся оправки 3 включается привод 10 возвратно-поступательного перемещения столика, а канал 12 подключается к вакуумной сети. Под действием привода 10 вакуумный столик 8 поднимается в верхнее поло>кение, при этом подложка 5 фиксируется на вакуумном столике и поднима(. ется вместе с ним вверх, где разгрузочным устройством (на чертеже не показано) снимается и передается на следующую операцию. Так как шток

9 накуумного столика 8 соединен с приводом 10 посредством шарового шарнира 11, а рабочие поверхности штырей 4 выполнены сферическими, то при загрузке и выгрузке в момент

cQIIprIIKêè 5 с одним иэ штырей 4 происходит поворот штока

9 в вертикальной плоскости и тем самым предотвращается повреждение краев подложки и рабочих поверхностей штырей 4.

Предлагаемая конструкция устройства для нанесения покрытия на . подло>кки полностью исключает поврех<дение подложек и рабочих поверхностей штырей вращающейся оправки, н то время как при работе на известном устройстве 8-10Ъ подложек повреждается и уходит в брак, а через 70

100 ч работы штыри вращающейся оправки необходимо заМенять новыми.

3а счет исключения брака по этой причине при годовой программе 3000000 подложек экономия от использования предлагаемого устройства состанит около 1200 р. н год.

Формула изобретения

Устройство для нанесения покрытия на подложки, содержащее вращающуюся оправку .со штырями для удержания подложки при вращении и вакуумный столик со штоком, установленным соосно оправке и соединенным с приводом возвратно-поступательного перемеще790376

Составитель Е. Камаганова

Редактор С. Патрушева Техред И,Асталош

Корректор М. Коста

Подписное

Заказ 9079/70 Тираж 885

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 ния вакуумного столика вдоль оси вращения оправки, о т л и ч а ю щ е ес я тем, что, с целью предотвращения повреждения обрабатываемых. подложек при их загрузке и выгрузке, шток вакуумного столика соединен с осью привода возвратно-поступательного перемещения последнего посредством шарового шарнира, а поверхности штырей оправки, контактирующие с под« ложкой, выполнены сферическими.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР з Р 358019, кл. В 04 В 5/00, 1970.

2 ° Авторское свидетельство СССР

iпо заявке В 2425997/18, кл. Н 05 К 3/00, 1976.