Состав для термохимического дубления
м Э Мол Ь), МАЬктно-техиичсатй библиотека МБА
25061
01) 7 о и-и-с-к и
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Союз Советских
Социалистических
Республик
К ф ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 11.10.78 (21) 2672945„ 23-04 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано 30.03.80. Бюллетень № 12 (45) Дата опубликования описания 30.03.80 (51) М. Кл.
G ОЗС 5/00
Государственный комитет (53) УДК 771.5(088.8) до делам изобретений и открытий (72) Авторы изобретения
Ю. И. Казаковцев, Д. И. Королев и В. В. Клементьева (71) Заявитель (54) СОСТАВ ДЛЯ ТЕРМОХИМИЧЕСКОГО ДУБЛЕНИЯ
Пример 1. Вес.
Нитрат натрия
Нитрат калия
Нитрат лития
Температура 190 С, Пример 2. Вес.
Нитрат натрия
Нитрат калия
Нитрат лития
10 время обработки 30 с.
25
30
Изобретение относится к составам для термохимического дубления фоторезистивных слоев на основе поливинилового спирта, нанесенных на поверхность каких-либо изделий, и может быть использовано в радиотехнической промышленности.
Известен состав для термохимического дубления фоторезисти|вного слоя на основе поливинилового спирта на поверхности изделий, включающий нитрат натрия и нитрат калия (1).
Недостатком такого состава для термохимического дубления является то, что обработанные им фоторезистивные слои имеют неудовлетворительно низкую кислотостойкость, что затрудняет их использование в процессах гальванопластического наращивания, а также высокую температуру термохимического дубления (230 С).
Целью предлагаемого изобретения является повышение кислотостойкости фоторезистивного слоя и снижение температуры термохимического дубления.
Поставленная цель достигается тем, что состав для термохимического дубления дополнительно содержит нитрат лития при следующем соотношении компонентов, вес. %:
Нитрат натрия 50 — 60
Нитрат калия 20 — 40
Нитрат лития Остальное
Предложенный состав позволяет снизить температуру термохимического дубления до
180 †1"С и повысить кислотостойкость фоторезистивных слоев.
Для приготовления состава используют стандартные соли нитратов натрия, калия и лития марки х. ч. Состав готовят путем последовательного смешивания определенных количеств компонентов, например, при
10 использовании фарфорового барабана и шаровой мельницы. После перемешивания компонентов смесь разгружают в ванну с терморегулятором из нержавеющей стали и нагревают.
15 Изделия — металлические матрицы с нанесенным фоторезистивным слоем толщиной 5 — 7 мкм на основе ПВС, представляющие собой пластины толщиной 0,8 — 1 мм из стали марки 12Х18Н10Т, обрабатывают
20 в расплаве солей в соответствии с приведенными примерами.
725061 обработки 35 с.
20 5 обработки 40 с.
Таблица 1
Время электролиза, ч после термодубления в составе по прототипу (1) Без изменений
Без изменений
Без изменений
Без изменений
Точечные разрушения
Точечные разрушения
Точечные разрушения медь сернокислая 250 — 270 серная кислота 50 — 70 спирт этиловый 30 — 40
Разрушение
Без изменений
Без изменений
Без изменений
Без изменений
Точечные разрушения
Точечные разрушения
Точечные разрушения
Разрушение
Таблица 2
Кислотостойкость, о мин
Температура расплава, C
Число капель
Состав
По прототипу (1): нитрат натрия (63О) нитрат калия (37О )
По примеру:
2
210
14
180
56
52
28
26
20
Температура 185 С, время
Пример 3. Вес. % ..
Нитрат натрия
Нитрат калия
Нитрат лития
Температура 180 С, время
Обрабатывают фоторезистивные слои из поливинилового спирта, нанесенных на изделйя -Матрицы, путем плавной загрузки 10 матриц в расплав солей при 180 — 190 С.
Визуально наблюдают изменение цвета копировального рельефа со светло-коричневого на темно-коричневый.
Извлеченные из расплава матрицы выдер- 15 живают на воздухе в течение -1 мин для стекания излишков расплава и затем переносят в горячую воду 60 — 70 С, где выдерОбработка матриц с копировальным рельефом в составе, г/л, для гальванопластического наращивания
1. Ванна меднения (25 С, РН 1, Дк 3 а/дм ):
П. Ванна никелированная (55 С, рН 3,8 — 4,5, ДК 5 а/дм ): никель сульфаминовокислый
350 †4 никель хлористый 30 — 35 борная кислота 30 — 40 сахарин 0,1 — 0,15
Как видно из табл. 1 и 2, предложенный состав позволяет повысить кислотостойкость фоторезистивного слоя и снизить температуру термохимического дубления до
180 †1 С, 4 живают 1,5 — 2 мин. Затем проводят окончательную отмывку в холодной воде в течение 2 — 3 мин.
Сравнительную кислотостойкость получаемого фоторезистивного слоя, обработанного в предлагаемом составе и аналогичном ему по прототипу, определяют путем наращивания изделий, выводных рамок интегральных схем и сеток для ЭВП в электролитах меднения и никелирования, применяемых в гальванопластике, а также капельным методом аналогично описанном в
ГОСТ 30-03 — 58 путем воздействия на термозадубленный фоторезистивный слой
40 /о-ной азотной кислотой. Условия обработки матриц описываемым составом даны в табл. 1, в табл. 2 — физико-химические показатели.
Состояние фоторезистивного слоя после обработки в составе по примеру
Формула изобретен ия
Состав для термохимического дубления фоторезистивного слоя на основе поливинилового спирта на поверхности изделий, 725061
Составитель В. Волыиникова
Техред В. Серякова
Редактор Л. Герасимова
Корректор Л. Корогод
Заказ 372/16 Изд. № 235 Тираж 545 Подписное
НПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 включающий нитрат натрия и нитрат калия, отличающийся тем, что, с целью снижения темпер атуры термохимического дубления и повышения кислотостойкости фоторезистивного слоя, он дополнительно содержит нитрат лития при следующем соотношении компонентов, вес. %:
Нитрат натрия 50 — 60
Нитрат калия 20 — 40
Нитрат лития Остальное
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
1, «Обмен опытом в радиопромышленности», № 8, 1974, с. 24 (прототип).


