Стекло
Союа Соеетскик
Соцналнстняежнх
Республик
< >643447 (И) Дополнительное к авт. свил-ву (22) ЗаявлЕно 01. 04. 77 (21) 2468565/29-33 е прнсоеднненнем заявки №вЂ” (23) ПриЬрнтетОпубликовано25.01.7ВБюллетень N 3
Дата опубликования описания 30.03..79 (Я) М. Кл.
С 03 С 3/10
Гмуйарстееией юетет ссср
oI,аулам N306po TfNIN н еткрнтнФ (53) УЙК 666. l 12., 4(088.8) Т. П. Маркова, И. Н. Кузнецова, Л. С. Смарышедщ, В. Ф. Борисов
g Л. H. Ярмолинская (72) Авторы изобретения е (71) Заявитель (54) С Я:КДД
Изобретение относитса к составам сте кол и предназначено для использовании в элементах схем, выполненных на стеклин ных нодложках методом толстоппеночной технологии.
Известно стекло, содержашее1 вес.Ъ:
vuo 65-7 2
530 14»15
Вяоэ
5 6
Си0 1 13 т1 02 до 05
АС 0 до 0,3
Z,нО 1 3
Cd0 1- 4
Мп0 1» 5 (1).
Такое стекло имеет температуру оплав ез ленин 510-520 С (температура размнг ченин 360оС) и коэффициент термическо го расширении 74 10 1/град.
Это стекло было предназначено дли по26 лучениа пленок толщиной до 3 мкм.
Наиболее близким по составу к пред лагаемому ивлнетсн стекло, включающее, вес.Ъ:
Pb0 6S»75
ЬзО 8»12
В20з 7» 8
ZnO 5-15
Сц0 0,53
CdO 0,5-1,5 403 до 0,5 (2).
Ко иннент термического расширеннн
85 - 10 1/град.
Такие стекла не беспечивают получе» вин элементов схем методом толстопле» ночной технологии из паст.
Мель изобретении снижение кристал лизапионной способности стекла, пригодного к использованию в составах паст длн получении эпементов схем с примене нием толстопленочной технологии на стеклянных подложках, ковффидиент термичес кого расширения которых составляет
80-90: 10 1/град.
Это достигаетсн тем, %TO стекло goK0A нительно содержит Сг> 0 и СоО при следующем соотношении компонентов, sec.%:
643447
68 80
6 15
4-12
2 15
1- 5 5
1- 5
1 5
1- 5 приведены свойства соста О
PUO
В О
СцО
7.00
Cd0
СГ 0
СоО
B таблице вов стеколэ
Полученная плата, подвергалась десятв40 кратному термоииклированию 20-50020 С, Результаты термопиклировании показали, что покрытие сохраннетси целостньм без трещин, раковин, пэсечек.
Соиротивпение пленки изменяется в пределах не более 107.
Второй вариант @асты, Диэлектричес каи паста содержит, вес,%:
Предлагае мое стекло состава З 80,0
Полученное стекло бы о использовано дли приготовлении двух вариантов паст: проводниковой и диэлектрической.
Первый вариант пасты. Проводникован паста содержит весЛ;
Серебро 78,0
Предлагаемое стекло
COCTBBG 1 9,0
Поли винил-бутило вый эфир с молекулярным весом 3000 10,0
Виннлбутиловый эфир З,О
Пасту использовали для получении токоведуших дорожек методом толстогиеноч- "- ной технологии на подложках из натрийизвесткового стекла. Топшнна полученной пленки составлила 1012 мкм. Вжнгание пасты производили при 540 С втечение
15 мнн. 30
В процессе термообработки стекло рао плавлнлось, смачидало подложку и металлические частицы пасты, растекалось по поверхности подложки и обеспечивало спекание покрытии при 540 С.
Покрытие получалось сплошное, без трещин пузырей и раковин.
Поливиннлбутиловый эфир с молекулярным весом 3000 15,0
Винилбутиловый эфир 5,0
Пасту использовали дли получении ди электрического слон методом толстопле ночной технологии на подложку с проводниковой разводкой. Полученный слой тол шиной 40 мкм после термообработки при о
510 С в течение 15 мин приобретал вид ровноГо плотного стеклянного,покрытияэ имеющего четкий контур.
После проведения испытаний на термо циклирование в режиме 20-500 20 С о (10 циклов) покрытие оставалось без видимых трещин, скопов, посечек, т.е. узлы обладали высокой термомеханической прочностью. Удельное обемное сопротивление пленки составляло (1-7) ° 10 ом.см.
11
Таким образом, в рассмотренных примерах полученные элементы (проводниковаа разводка и диэлектрический слой) обладают высокими термомеханическими свойствами и стабильными электрическими характеристиками, Одновременное введение окиси хрома и закиси кобальта, а также выбор основного минералогического состава позволили получить стекло с требуемым комплексом физико=химических свойств, пригодного дпя использования в толстоппеночной технологии. Предлагаемый состав стекла обеспечивает получение толстых слоев при достаточно низких температурах термообработки (54ООС), что особенно важно при изготовлении изделий микроэлектроники не допускающих высокотемпературной об работки, как с точки зрении деформации подложки, так и с точки зрении возмож ного ухода параметров элементов микросхемы.
Использование предлагаемого стекла в составах паст„ наносимых методом тол стопленочной технологии, позволяет удов летворить ряд сложных требований: хорошее растекание по подложке и обеспечение четкого контура пленки, коэффициент термического расширения, равный
80-90. 10 1/град, и температуру о оплавления 540 С.
643447
Составитель A. Берсенев
Редактор А.,Морозова Техред Н. Бабурка, Корректор В. Кривошапко
Заказ 7930/21 Тираж 555 Подписное
0НИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113033, Москва, Ж35, Рдушсквв квб. ° д. 4/Б
Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4
Формула изобретении
Стекло, включающее Pb0,5 0, Ь 0
СцО,ХйО, С60, о т л и ч а ю щ ее с н тем, что, с целью снижениа крис- с. таллизацнонной способности, оно дополни» тельно содержит Ct О, Со О при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ:
РЬО 68-80
& 0 6-15 1О
4-12
СиО 215
ZnO 1- 5
CdO 1- 5
Сг О 1» 5
СоО 1- 5
Источники информации, принятые во
Внимание При експертызе, 1. Авторское свидетельство СССР
Ы 258544 кл. С 03 С 3/10, 1966.
2. Авторское свидетельство СССР
М 349652, кл. С 03 C 3/10 1971,



