Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советскик

Социалистически к

Республик

<щ55ОО81 (61) Дополнительное к авт, саид-ву (22) Заявлено 16.12.74 (21) 2084973/25 51 М „з с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет

Н 05 Н 1/02

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий

Опубликовано 07.1081. Бюллетень Н9 37

Дата опубликования описания 07. 10. 81 (53) УДК 621. 384. б (088.8) (72) Авторы изобретения

Н.В. Волков, В.Н. Осипов и С.М. Плотников

Куйбышевский инженерно-строительный институт им. A.È.Ìèêoÿíà (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ

ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ

Изобретение относится к газораз= рядным устройствам с холодным катодом, может быть использовано для искусственного освещения, катодного распыления, генерации лазерного излучения и спектроскопических исследований.

Известны устройства для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы, содержащие обычно два плоскопараллельных дисковых электрода j1 j. В таких устройствах плазма создается газовым разрядом в.области положительного столба и отрицательного тлеющего свечения.

Известны также устройства для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы, содержащие установленные внутри цилиндрической газоразрядной трубки аноды и катоды (,2). 20

Недостатком известного устройства является неэквипотенциальность плазмы как в продольном, так и в радиальном направлении, а также неоднородность ее в пространстве газоразрядной трубки.

Цель изобретения - получение однородной эквипотенциальной плазмы.

Предлагаемое устройство отличается тем, что аноды и катоды выпол- 30 иены в виде стержней, расположенных параллельно образующей газоразрядной трубки на одинаковых расстояниях друг от друга и от стенок трубки по окружности с центром на ее оси.

На фиг. 1 изображен общий вид устройства на фиг. 2 — поперечный

I разрез.

В одном из торцов газоразрядной трубки 1 смонтированы стержневые аноды 2 и катоды 3, чередующиеся между собой и расположенные по окружности с центром на оси трубки.

Вся система электродов образует разрядный промежуток в форме цилиндра, расположенного соосно с разрядной трубкой. После тщательной вакуумной обработки устройство заполняют одним из инертных газов.

При подаче напряжения на устройство между каждой парой параллельных электродов (анодом 2 и катодом 3) устанавливается короткий тлеющий разряд, состоящий из круксового и фарадеева темных пространств и отрицательного тлеющего свечения 4 (фиг.2).

Данное свечение является единственной светящейся областью и направлено по радиусу к продольной оси разрядного промежутка вследствие затруд550081

Формула из об ре те н ия фиг. Ф

Редактор Е. Месропова Техред Т.Маточка Корректор С. шекмар

Заказ 8648/50

Тираж 892 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,4 ненности разряда между электродами и ограничивающей поверхностью. Так как отрицательное свечение каждого разряда идентично с другими и каждый из них, соприкасаясь, находится между подобными свечениями, они сливаются в одно общее отрицательное тлею.щее свечение. Плазма этого свечения хорошо просматривается через боковую и торцовую поверхности разрядного устройства в виде яркосве, тящегося столба с четкими границами.

Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы, содержащее установленные внутри цилиндрической газоразрядной трубки аноды и катоды, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью получения однородной эквипотенциальной плазмы, аноды и катоды выполнены в виде стержней, расположенных параллельно образующей трубки на одинаковых рас- . стояниях друг от друга и от стенок трубки по окружности с центром на ее оси.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Браун С. Электронные процессы в плазме газового разряда. М., Госатомиздат, 1961, с. 285.

15 2. Москалев В.М. Разряд с полым катодом.. М., "Энергия", 1969,с. 31-40

Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх