Многоустойчивое запоминающее устройство
Авторы патента:
Многоустойчивое запоминающее устройство, содержащее СВЧ усилитель, выполненный, например, на туннельном диоде, и СВЧ линию задержки, отличающееся тем, что, с целью упрощения и повышения надежности работы устройства, оно содержит намагниченный до насыщения вырожденный по форме ферритовый сфероид, установленный в перекрестии линии задержки, выполненный в виде петлеобразной СВЧ полосковой линии, внутри которой расположен СВЧ усилитель.
Похожие патенты:
Способ управления спектротроном // 275515
Бистабильный элемент // 270805
Фазоимпульсный многоустойчивый элемент // 268012
Патент 240015 // 240015
Спектротрон // 221997
Счетчик импульсов // 219932
Многостабильное устройство // 219875
Многостабильный триггер // 515161
Запоминающее устройство // 674100
Многоустойчивый запоминающий элемент // 684615
Многостабильный тактируемыйд-элемент // 801100
Запоминающий элемент // 1103290
Спектротрон с внутренней обратной связью // 1508282
Изобретение относится к автоматике и радиотехнике и может быть использовано в блоках вычислительных машин и устройств автоматики с целью упрощения
Изобретение относится к автоматике и радиотехнике и может быть использовано в блоках вычислительных машин и устройств автоматики
Многоуровневый магнитный элемент // 2573205
Изобретение относится к вычислительной технике. Технический результат заключается в увеличении срока службы магнитного элемента за счет снижения тока нагрева, требуемого для нагрева магнитного элемента. Многоуровневый магнитный элемент содержит первый туннельный барьерный слой между чувствительным слоем, имеющим намагниченность, которая может быть свободно выстроена, и первым запоминающим слоем, имеющим намагниченность, которая фиксируется при первом низком температурном пороге и способна свободно выстраиваться при первом высоком температурном пороге, причем магнитный элемент дополнительно содержит второй туннельный барьерный слой и второй запоминающий слой, имеющий намагниченность, которая фиксируется при первом низком температурном пороге и способна свободно выстраиваться при втором высоком температурном пороге; причем чувствительный слой образован между первым и вторым туннельными барьерными слоями. 3 н. и 9 з.п. ф-лы, 3 ил., 4 табл.