Патент ссср 411542
"- ---- О П И С Л Н И Е
4II542
Социалистических
Республик
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Завис11мое от авт. свидетельства ¹
Заявлено 10,II I.1972 (№ 175828о." ":о-25) М. Кл. Í Olj 3/04 с присоединением заявки ¹
Государственный комитет
Совета Министров СССР оо делам ии1оретоннй и открытий
Приоритет
Опубликовано 15 1.1974. Бюллетень № 2 Дата опубликования описания 29.V.1974
Автор изобретения
В. Г, Дудников
Институт ядерной физики Сибирского отделения АН СССР
Заявитель
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОТРИ =1АТЕЛЬНЫХ ИОНОВ
11редм ет и зоб р ете ни я
Изобретение относится к области получения пучков отрицательных ионов для ускорителей заряженных частиц.
В известных плазменных источниках отрицательных ионов с молекулярным рабочим ве- S ществом атомарные отрицательные ионы образуются при диссоциативных столкновениях электронов с молекулами. Большое значение имеет и диссоциативное прилипание при столкновении электронов с положительными мо- 10 лекулярными ионами. Конкурирующими процессами при этом являются разрушение отрицательных ионов электронным ударом, рекомбинация с положительными ионами, отщепление электронов при столкновениях и т. д. 15
Необходимость высокой концентрации молекул обуславливает низкую газовую экономичность плазменных источников отрицательных ионов и ограничивает интенсивность пучков из-за необратимых потерь отрицательных ионов при столкновениях с молекулами после выхода иона из плазмы.
Для повышения интенсивности пучков отрицательных ионов, получаемых из плазменных источников, по предлагаемому способу в 2s
":àçîðàçðÿäíóþ камеру источника вместе с основным рабочим веществом подают вещество с малым потенциалом ионизации, нгпример и:зий. Благодаря этому увеличивается скорость Образования Отрицательных ионов (Г озможно за счет 1(вазирезонанснои переза рядки;томов рабочего вещества на возоужieHH ::(атомах добав;,и).
При добавлении паров цезия в водородный р.".зряд с поперечным магнитным полем максимальный ток стрицательных ионов водорода увеличивается в неско,.ько раз, уменьшается падение напряжения на разряде, облегчается его зажигание.
В импульсном режиме (длительность импульса 10 — сек) из плазменного источника с плазмотронной г ометрией разрядной камсры при добавлении паров цезия можно получить пучок отрицательных ионов водорода с током
20 л1А при размерах эмиссионной щели 0,5 (); 10 11ЛР.
Способ получения Oтрицатег1ь11ых HOIIOIB иэ гозор".зрядного источника, отличающийся ..е»,;, что, с целью повышения эффективности ис10чникя, В разряднуlо камеру источнш(а вместе с основным рабочим веществом подают вещество с малым потеици.-лом ионизации, например цезий.
